JP7408853B1

JP7408853B1 - 基板処理装置

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Publication number: JP7408853B1
Application number: JP2023010028A
Authority: JP
Inventors: 学本間
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2023-01-26
Filing date: 2023-01-26
Publication date: 2024-01-05
Anticipated expiration: 2043-01-26

Abstract

【課題】フットプリントを低減しつつ、排気効率を向上できる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による基板処理装置は、第１水平方向において離隔する第１側壁と第２側壁とを有する処理モジュールと、前記第１側壁に隣接して配置され、前記処理モジュールに基板を搬送する搬送モジュールと、を備え、前記処理モジュールは、前記第１水平方向と直交する第２水平方向に隣り合う第１処理容器及び第２処理容器を有し、前記第２側壁には、前記第１処理容器及び前記第２処理容器をメンテナンスするための共通のメンテナンス開口が設けられる。【選択図】図１

Description

本開示は、基板処理装置に関する。

バッチ式の基板処理装置において、１つの装置内に２つの処理容器を隣接して配置し、その背面側に設置されるユーティリティボックスの間を共通のメンテナンスエリアにする技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。

国際公開第２０１８／００３０７２号

本開示は、フットプリントを低減しつつ、排気効率を向上できる技術を提供する。

本開示の一態様による基板処理装置は、第１水平方向において離隔する第１側壁と第２側壁とを有する処理モジュールと、前記第１側壁に隣接して配置され、前記処理モジュールに基板を搬送する搬送モジュールと、を備え、前記処理モジュールは、前記第１水平方向と直交する第２水平方向に隣り合う第１処理容器及び第２処理容器を有し、前記第２側壁には、前記第１処理容器及び前記第２処理容器をメンテナンスするための共通のメンテナンス開口が設けられ、前記メンテナンス開口は、前記第２水平方向において前記第１処理容器と前記第２処理容器との中間位置を含んで設けられる。

本開示によれば、フットプリントを低減しつつ、排気効率を向上できる。

第１実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。図１のII－II線矢視断面図である。図１のIII－III線矢視断面図である。図１のIV－IV線矢視断面図である。第２実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。第３実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。第４実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。第５実施形態に係る基板処理装置を示す平面図である。

以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。本明細書において、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は互いに直交する方向である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向である。Ｘ軸方向は第１水平方向の一例であり、Ｙ軸方向は第２水平方向の一例である。

〔第１実施形態〕
図１から図４を参照し、第１実施形態に係る基板処理装置１Ａについて説明する。図１は、第１実施形態に係る基板処理装置１Ａを示す平面図である。図２は、図１のII－II線矢視断面図である。図３は、図１のIII－III線矢視断面図である。図３（ａ）は、処理モジュール３に対して第１ボート３３が搬入出される際の位置にある場合を示す。図３（ｂ）は、処理モジュール３に対して第１処理容器３１が搬入出される際の位置にある場合を示す。図４は、図１のIV－IV線矢視断面図である。

基板処理装置１Ａは、搬送モジュール２と、処理モジュール３と、排気ユニット４と、ガス供給ユニット５とを備える。

搬送モジュール２は、処理モジュール３の第１側壁３ａに隣接して配置される。搬送モジュール２は、処理モジュール３に基板Ｗを搬送する。搬送モジュール２は、ロードポート２１と、ストッカ２２と、基板移載装置２３とを有する。

ロードポート２１は、搬送モジュール２のＸ軸方向負側に配置される。ロードポート２１は、Ｙ軸方向に沿って複数（例えば２つ）配置される。ただし、ロードポート２１の数は特に限定されない。ロードポート２１には、カセットＣが載置される。カセットＣは、複数枚（例えば２５枚）の基板Ｗを収容する。カセットＣは、ロードポート２１に対して搬入出される。カセットＣは、各基板Ｗを水平に保持する。カセットＣは、例えばＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）である。

ストッカ２２は、搬送モジュール２のＸ軸方向負側に、Ｚ軸方向に沿って複数（例えば２つ）配置される。ストッカ２２は、搬送モジュール２のＸ軸方向正側に、Ｚ軸方向に沿って複数（例えば２つ）配置される。ストッカ２２は、Ｙ軸方向に複数配置されてもよい。ただし、ストッカ２２の数は特に限定されない。ストッカ２２は、カセットＣを一時的に保管する。

基板移載装置２３は、ロードポート２１に載置されたカセットＣと、第１ボート３３及び第２ボート３４との間で、基板Ｗを搬送する。基板移載装置２３は、例えば複数枚の基板Ｗを同時に搬送する。例えば、基板移載装置２３は、処理される前の基板Ｗをロードポート２１に載置されたカセットＣから取り出し、第１ボート３３及び第２ボート３４に搬送する。例えば、基板移載装置２３は、処理された後の基板Ｗを第１ボート３３及び第２ボート３４から取り出し、ロードポート２１に載置されたカセットＣに搬送する。

搬送モジュール２は、ロードポート２１とストッカ２２との間でカセットＣを移載するカセット移載装置を有してよい。搬送モジュール２は、ロードポート２１とは別に、基板移載装置２３との間で基板を受け渡しするためのローダを有してもよい。

処理モジュール３は、処理室Ａ１と、搬送室Ａ２とを有する。処理室Ａ１と搬送室Ａ２とは、Ｚ軸方向に隣接する。搬送室Ａ２は、処理室Ａ１のＺ軸方向負側に位置する。処理モジュール３は、第１側壁３ａと、第２側壁３ｂとを有する。第１側壁３ａは、処理モジュール３のＸ軸方向負側に位置する。第２側壁３ｂは、処理モジュール３のＸ軸方向正側に位置する。第１側壁３ａと第２側壁３ｂとは、Ｘ軸方向において離隔する。第１側壁３ａ及び第２側壁３ｂは、それぞれ処理モジュール３のＹ軸方向負側の端部からＹ軸方向正側の端部まで延在する。第１側壁３ａ及び第２側壁３ｂは、それぞれ搬送室Ａ２の下端から処理室Ａ１の上端まで延在する。

処理モジュール３は、第１処理容器３１と、第２処理容器３２と、第１ボート３３と、第２ボート３４と、第１駆動機構３５と、第２駆動機構３６と、メンテナンスドア３７と、クリーンユニット３８とを有する。

第１処理容器３１及び第２処理容器３２は、処理室Ａ１に配置される。第１処理容器３１及び第２処理容器３２は、Ｘ軸方向において第１側壁３ａと第２側壁３ｂとの間に配置される。第１処理容器３１と第２処理容器３２とは、Ｙ軸方向に隣り合うように配置される。

第１処理容器３１は、図示しないヒータにより加熱される。第１処理容器３１は、基板Ｗを保持した第１ボート３３を収容可能に構成される。第１処理容器３１の内部には、ガス供給ユニット５から処理ガスが供給される。処理ガスは、処理の種類に応じて選択される。第１処理容器３１の内部に供給される処理ガスは、排気ユニット４により排出される。第１処理容器３１の内部では、ガス供給ユニット５から供給される処理ガスによって第１ボート３３に保持された基板Ｗに対して所望の処理が施される。第２処理容器３２についても、第１処理容器３１と同じ構成を有してよい。

第１ボート３３は、複数枚の基板ＷをＺ軸方向に沿って棚状に保持する。第１ボート３３は、受渡位置（図２に示される位置）と、処理位置と、搬入出位置（図３（ａ）に示される位置）との間で移動可能である。受渡位置は、第１処理容器３１の下方の位置である。受渡位置は、第１処理容器３１の真下であってよい。処理位置は、第１処理容器３１内に収容される位置であり、受渡位置の上方の位置である。処理位置は、受渡位置の真上であってよい。搬入出位置は、処理モジュール３のＺ軸方向負側の位置、かつ処理モジュール３のＹ軸方向中央の位置である。搬入出位置は、受渡位置よりもＸ軸方向正側にずれた位置であってよい。この場合、処理モジュール３に対して第１ボート３３を搬入出させやすい。

例えば、第１ボート３３は、基板移載装置２３との間で基板Ｗの受け渡しをする際に、受渡位置に移動する。例えば、第１ボート３３は、基板Ｗに対して所望の処理を施す際に、処理位置に移動する。例えば、第１ボート３３は、メンテナンスのために処理モジュール３から搬出される際に、搬入出位置に移動する。

第２ボート３４は、複数枚の基板ＷをＺ軸方向に沿って棚状に保持する。第２ボート３４は、受渡位置と、処理位置（図３（ａ）及び図３（ｂ）に示される位置）と、搬入出位置との間で移動可能である。受渡位置は、第２処理容器３２の下方の位置である。受渡位置は、第２処理容器３２の真下であってよい。処理位置は、第２処理容器３２内に収容される位置であり、受渡位置の上方の位置である。処理位置は、受渡位置の真上であってよい。搬入出位置は、処理モジュール３のＺ軸方向負側の位置、かつ処理モジュール３のＹ軸方向中央の位置である。搬入出位置は、処理モジュール３のＸ軸方向正側の位置であってよい。この場合、処理モジュール３に対して第２ボート３４を搬入出させやすい。第２ボート３４の搬入出位置は、第１ボート３３の搬入出位置と同じ位置であってよい。

例えば、第２ボート３４は、基板移載装置２３との間で基板Ｗの受け渡しをする際に、受渡位置に移動する。例えば、第２ボート３４は、基板Ｗに対して所望の処理を施す際に、処理位置に移動する。例えば、第２ボート３４は、メンテナンスのために処理モジュール３から搬出される際に、搬入出位置に移動する。

第１駆動機構３５は、第１ボート３３を、少なくとも受渡位置と処理位置との間で移動させるよう構成される。第１駆動機構３５は、ボートエレベータを含んでよい。第１駆動機構３５は、第１ボート３３を、受渡位置と処理位置と搬入出位置との間で移動させるよう構成されてもよい。

第２駆動機構３６は、第２ボート３４を、少なくとも受渡位置と処理位置との間で移動させるよう構成される。第２駆動機構３６は、ボートエレベータを含んでよい。第２駆動機構３６は、第２ボート３４を、受渡位置と処理位置と搬入出位置との間で移動させるよう構成されてもよい。

第２側壁３ｂには、メンテナンス開口３ｃが設けられる。メンテナンス開口３ｃは、第２側壁３ｂのＺ軸方向負側に設けられる。メンテナンス開口３ｃは、搬送室Ａ２と同じ高さ位置に設けられる。メンテナンス開口３ｃは、Ｙ軸方向において第１処理容器３１と第２処理容器３２との中間位置を含んで設けられる。メンテナンス開口３ｃは、Ｙ軸方向において第１排気ボックス４１ａと第２排気ボックス４２ａとの間に設けられる。メンテナンス開口３ｃは、処理モジュール３をメンテナンスするための開口である。メンテナンス開口３ｃは、処理モジュール３に対して、第１処理容器３１、第２処理容器３２、第１ボート３３及び第２ボート３４を搬入出する際に用いられる共通の開口である。このため、メンテナンス開口３ｃは、第１処理容器３１、第２処理容器３２、第１ボート３３及び第２ボート３４が通過可能な大きさを有する。

例えば、メンテナンス開口３ｃは、第１処理容器３１（第２処理容器３２）の破損による交換や第１処理容器３１（第２処理容器３２）の洗浄のために、第１処理容器３１（第２処理容器３２）を処理モジュール３の内部から搬出する場合に利用される。例えば、メンテナンス開口３ｃは、第１ボート３３（第２ボート３４）の破損による交換や第１ボート３３（第２ボート３４）の洗浄のために、第１ボート３３（第２ボート３４）を処理モジュール３の内部から搬出する場合に利用される。

メンテナンスドア３７は、水平回転することでメンテナンス開口３ｃを開閉する。メンテナンスドア３７は、ヒンジ３７ａと、ドア本体３７ｂとを有する。ヒンジ３７ａは、第２側壁３ｂとドア本体３７ｂとを連結する。ヒンジ３７ａは、例えばＹ軸方向負側に設けられる。ドア本体３７ｂは、第２側壁３ｂに対し、ヒンジ３７ａを介して水平回転可能であってよい。ドア本体３７ｂが開かれると、メンテナンス開口３ｃを介して、第１処理容器３１、第２処理容器３２、第１ボート３３及び第２ボート３４を搬入出できる。図１においては、開いた状態のドア本体３７ｂを実線で示し、閉じた状態のドア本体３７ｂを破線で示し、ドア本体３７ｂが開閉される際のドア本体３７ｂの先端の軌跡を点線で示す。

クリーンユニット３８は、ドア本体３７ｂに取り付けられる。クリーンユニット３８は、搬送室Ａ２内にクリーンエアを循環させるように構成される。クリーンエアは、例えば不活性ガスである。搬送室Ａ２内に供給されたクリーンエアは、クリーンユニット３８と対向する第１側壁３ａに設置された排気部（図示せず）によって搬送室Ａ２内から排気され、クリーンユニット３８から搬送室Ａ２内に再供給される。

排気ユニット４は、第１排気ボックス４１ａと、第１排気配管４１ｂと、第１圧力制御弁４１ｃと、第２排気ボックス４２ａと、第２排気配管４２ｂと、第２圧力制御弁４２ｃとを有する。

第１排気ボックス４１ａは、処理モジュール３のＹ軸方向正側において、第２側壁３ｂと隣接して配置される。第１排気配管４１ｂは、第１処理容器３１の排気ポート３１ａと、真空ポンプ（図示せず）とを接続する。第１排気配管４１ｂは、一端と他端との間の部分が第１排気ボックス４１ａの内部に収容される。第１圧力制御弁４１ｃは、第１排気ボックス４１ａの内部に設けられる。第１圧力制御弁４１ｃは、第１排気配管４１ｂの途中に介設される。第１圧力制御弁４１ｃは、第１処理容器３１の内部の圧力を所望の圧力に制御する。

第２排気ボックス４２ａは、処理モジュール３のＹ軸方向負側において、第２側壁３ｂと隣接して配置される。第２排気ボックス４２ａは、第１排気ボックス４１ａに対してＹ軸方向に間隔をあけて配置される。第１排気ボックス４１ａと第２排気ボックス４２ａとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。第１排気ボックス４１ａと第２排気ボックス４２ａとの間の領域は、メンテナンス開口３ｃが露出するメンテナンス領域となる。第２排気配管４２ｂは、第２処理容器３２の排気ポート３２ａと、真空ポンプ（図示せず）とを接続する。第２排気配管４２ｂは、一端と他端との間の部分が第２排気ボックス４２ａの内部に収容される。第２圧力制御弁４２ｃは、第２排気ボックス４２ａの内部に設けられる。第２圧力制御弁４２ｃは、第２排気配管４２ｂの途中に介設される。第２圧力制御弁４２ｃは、第２処理容器３２の内部の圧力を所望の圧力に制御する。

ガス供給ユニット５は、第１供給ボックス５１ａと、第１供給ユニット５１ｂと、第１供給配管５１ｃ、５１ｄと、第１供給バルブ５１ｅ、５１ｆとを有する。

第１供給ボックス５１ａは、第１排気ボックス４１ａのＸ軸方向正側に隣接して配置される。第１供給ユニット５１ｂは、第１供給ボックス５１ａの内部に収容される。第１供給配管５１ｃ、５１ｄは、それぞれ、第１供給ユニット５１ｂと、第１処理容器３１の内部に処理ガスを供給するノズル（図示せず）とを接続する。第１供給配管５１ｃには、第１供給バルブ５１ｅが介設される。第１供給配管５１ｄには、第１供給バルブ５１ｆが介設される。第１供給配管５１ｃ及び第１供給配管５１ｄには、マスフローコントローラ（図示せず）が介設されてもよい。第１供給ユニット５１ｂは、第１供給配管５１ｃ、５１ｄを介して第１処理容器３１の内部に処理ガスを供給する。

ガス供給ユニット５は、第２供給ボックス５２ａと、第２供給ユニット（図示せず）と、第２供給配管（図示せず）と、第２供給バルブ（図示せず）とを有する。

第２供給ボックス５２ａは、第２排気ボックス４２ａのＸ軸方向正側に隣接して配置される。第２供給ユニット、第２供給配管及び第２供給バルブは、第１供給ユニット５１ｂ、第１供給配管５１ｃ、５１ｄ及び第１供給バルブ５１ｅ、５１ｆと同様の構成であってよい。

以上に説明したように、基板処理装置１Ａによれば、Ｘ軸方向において離隔する第１側壁３ａと第２側壁３ｂとを有する処理モジュール３と、第１側壁３ａに隣接して配置され、処理モジュール３に基板Ｗを搬送する搬送モジュール２とを備える。処理モジュール３は、Ｙ軸方向に隣り合う第１処理容器３１及び第２処理容器３２を有する。第２側壁３ｂには、第１処理容器３１及び第２処理容器３２をメンテナンスするための共通のメンテナンス開口３ｃが設けられる。この場合、メンテナンス開口３ｃの開口幅を、第１処理容器３１と第２処理容器３２とに個別のメンテナンス開口を設ける場合の２つのメンテナンス開口の開口幅の合計の半分程度に狭くできる。これにより、第１排気ボックス４１ａ及び第２排気ボックス４２ａを処理モジュール３に隣接して配置しつつ、第１排気ボックス４１ａ及び第２排気ボックス４２ａの幅（Ｙ軸方向の長さ）を拡げることができる。このため、第１排気配管４１ｂ及び第２排気配管４２ｂをそれぞれ第１処理容器３１及び第２処理容器３２の近くに配置しつつ、第１排気配管４１ｂ及び第２排気配管４２ｂを大口径化できる。その結果、基板処理装置１Ａのフットプリントを低減しつつ、排気効率を向上できる。

例えば、原子層堆積（ＡＬＤ：Atomic Layer deposition）により基板Ｗに膜を形成する場合、排気効率の向上によって排気時間を短縮できるので、生産性が向上する。

例えば、表面にパターンが形成された基板Ｗの表面上に膜を形成する場合、排気効率の向上によって大流量の処理ガスを用いた処理ができるので、パターンの形状によらずにローディング効果の発生を抑制できる。

〔第２実施形態〕
図５を参照し、第２実施形態に係る基板処理装置１Ｂについて説明する。図５は、第２実施形態に係る基板処理装置１Ｂを示す平面図である。

基板処理装置１Ｂは、第２側壁３ｂが、Ｚ軸方向から見たときに、第１側壁３ａの側に凸となる第２頂部３ｈを有するようにＶ字状に配置される一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇを有する点で、基板処理装置１Ａと異なる。以下、基板処理装置１Ａと異なる点を中心に説明する。

図５に示されるように、第２側壁３ｂは、一対の第２非傾斜部３ｄ、３ｅと、一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇとを有する。

一対の第２非傾斜部３ｄ、３ｅは、Ｙ軸方向に間隔をあけて配置される。第２非傾斜部３ｄと第２非傾斜部３ｅとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。第２非傾斜部３ｄには、第１排気ボックス４１ａが隣接して配置される。第２非傾斜部３ｅには、第２排気ボックス４２ａが隣接して配置される。

一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇは、Ｙ軸方向において、第２非傾斜部３ｄと第２非傾斜部３ｅとの間に配置される。一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇは、Ｚ軸方向から見たときに、第１側壁３ａの側に凸となる第２頂部３ｈを有するようにＶ字状に配置される。第２頂部３ｈは、Ｙ軸方向において第１処理容器３１と第２処理容器３２との間に位置する。第２傾斜部３ｆと第２傾斜部３ｇとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。第２頂部３ｈの角度は、例えば９０°以上である。

メンテナンス開口３ｃは、一方の第２傾斜部３ｆから他方の第２傾斜部３ｇにわたって連続して設けられる。メンテナンス開口３ｃは、Ｚ軸方向から見たときに、例えば一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇの全体にわたって設けられる。この場合、メンテナンス開口３ｃの開口幅が広くなるので、処理モジュール３をメンテナンスする際に、処理モジュール３に対して、第１処理容器３１、第２処理容器３２、第１ボート３３及び第２ボート３４を搬入出させやすい。ただし、メンテナンス開口３ｃは、Ｚ軸方向から見たときに、一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇの一部のみに設けられてもよい。

メンテナンスドア３７は、水平回転することでメンテナンス開口３ｃを開閉する。メンテナンスドア３７は、第１ヒンジ３７ｃと、第１ドア本体３７ｄと、第２ヒンジ３７ｅと、第２ドア本体３７ｆとを有する。第１ヒンジ３７ｃは、第２側壁３ｂと第１ドア本体３７ｄとを連結する。第１ヒンジ３７ｃは、例えば第２非傾斜部３ｅと第２傾斜部３ｇとの境界部分に設けられる。第１ドア本体３７ｄは、第２側壁３ｂに対し、第１ヒンジ３７ｃを介して水平回転可能であってよい。第２ヒンジ３７ｅは、第１ドア本体３７ｄと第２ドア本体３７ｆとを連結する。第２ドア本体３７ｆは、第１ドア本体３７ｄに対し、第２ヒンジ３７ｅを介して水平回転可能であってよい。第１ドア本体３７ｄ及び第２ドア本体３７ｆが開かれると、メンテナンス開口３ｃを介して、第１処理容器３１、第２処理容器３２、第１ボート３３及び第２ボート３４を搬入出できる。図５においては、開いた状態の第１ドア本体３７ｄ及び第２ドア本体３７ｆを実線で示し、閉じた状態の第１ドア本体３７ｄ及び第２ドア本体３７ｆを破線で示す。

以上に説明したように、基板処理装置１Ｂによれば、第２側壁３ｂが、Ｚ軸方向から見たときに、第１側壁３ａの側に凸となる第２頂部３ｈを有するようにＶ字状に配置される一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇを有する。この場合、メンテナンス開口３ｃの開口幅を変えずに、基板処理装置１Ｂの幅方向（Ｙ軸方向）におけるメンテナンス開口３ｃが占める長さが小さくなる。これにより、基板処理装置１Ｂの装置幅を縮小できる。

〔第３実施形態〕
図６を参照し、第３実施形態に係る基板処理装置１Ｃについて説明する。図６は、第３実施形態に係る基板処理装置１Ｃを示す平面図である。

基板処理装置１Ｃは、一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇのそれぞれに個別のメンテナンス開口（第１メンテナンス開口３ｃ１、第２メンテナンス開口３ｃ２）が設けられる点で、基板処理装置１Ｂと異なる。以下、基板処理装置１Ｂと異なる点を中心に説明する。

図６に示されるように、第２側壁３ｂは、一対の第２非傾斜部３ｄ、３ｅと、一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇとを有する。

一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇは、Ｙ軸方向において、第２非傾斜部３ｄと第２非傾斜部３ｅとの間に配置される。一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇは、Ｚ軸方向から見たときに、第１側壁３ａの側に凸となる第２頂部３ｈを有するようにＶ字状に配置される。第２頂部３ｈは、Ｙ軸方向において第１処理容器３１と第２処理容器３２との間に位置する。第２傾斜部３ｆと第２傾斜部３ｇとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。

第２傾斜部３ｆには、第１メンテナンス開口３ｃ１が設けられる。第２傾斜部３ｇには、第２メンテナンス開口３ｃ２が設けられる。第１メンテナンス開口３ｃ１及び第２メンテナンス開口３ｃ２は、それぞれ搬送室Ａ２と同じ高さ位置に設けられる。第１メンテナンス開口３ｃ１及び第２メンテナンス開口３ｃ２は、Ｙ軸方向において第１排気ボックス４１ａと第２排気ボックス４２ａとの間に設けられる。第１メンテナンス開口３ｃ１及び第２メンテナンス開口３ｃ２は、処理モジュール３をメンテナンスするための開口である。第１メンテナンス開口３ｃ１は、処理モジュール３に対して、第１処理容器３１及び第１ボート３３を搬入出する際に用いられる開口である。第２メンテナンス開口３ｃ２は、処理モジュール３に対して、第２処理容器３２及び第２ボート３４を搬入出する際に用いられる開口である。第１処理容器３１及び第１ボート３３は、例えば第２傾斜部３ｆ（第１メンテナンス開口３ｃ１）と直交する方向に沿って搬入出される。第２処理容器３２及び第２ボート３４は、例えば第２傾斜部３ｇ（第２メンテナンス開口３ｃ２）と直交する方向に沿って搬入出される。第１処理容器３１及び第１ボート３３が搬入出される方向と、第２処理容器３２及び第２ボート３４が搬入出される方向とは、交わってよい。第１メンテナンス開口３ｃ１には、第１メンテナンスドア３７１が設けられる。第２メンテナンス開口３ｃ２には、第２メンテナンスドア３７２が設けられる。

第１メンテナンスドア３７１は、水平回転することで第１メンテナンス開口３ｃ１を開閉する。第１メンテナンスドア３７１は、第１ヒンジ３７１ａと、第１ドア本体３７１ｂとを有する。第１ヒンジ３７１ａは、第２側壁３ｂと第１ドア本体３７１ｂとを連結する。第１ヒンジ３７１ａは、例えば第２非傾斜部３ｄと第２傾斜部３ｆとの境界部分に設けられる。第１ドア本体３７１ｂは、第２側壁３ｂに対し、第１ヒンジ３７１ａを介して水平回転可能であってよい。第１ドア本体３７１ｂが開かれると、第１メンテナンス開口３ｃ１を介して、第１処理容器３１及び第１ボート３３を搬入出できる。図６においては、開いた状態の第１ドア本体３７１ｂを実線で示し、閉じた状態の第１ドア本体３７１ｂを破線で示し、第１ドア本体３７１ｂが開閉される際の第１ドア本体３７１ｂの先端の軌跡を点線で示す。

第２メンテナンスドア３７２は、水平回転することで第２メンテナンス開口３ｃ２を開閉する。第２メンテナンスドア３７２は、第２ヒンジ３７２ａと、第２ドア本体３７２ｂとを有する。第２ヒンジ３７２ａは、第２側壁３ｂと第２ドア本体３７２ｂとを連結する。第２ヒンジ３７２ａは、例えば第２非傾斜部３ｅと第２傾斜部３ｇとの境界部分に設けられる。第２ドア本体３７２ｂは、第２側壁３ｂに対し、第２ヒンジ３７２ａを介して水平回転可能であってよい。第２ドア本体３７２ｂが開かれると、第２メンテナンス開口３ｃ２を介して、第２処理容器３２及び第２ボート３４を搬入出できる。第２ドア本体３７２ｂの回転軌跡は、Ｚ軸方向から見たときに、第１ドア本体３７１ｂの回転軌跡と重なっていてよい。図６においては、開いた状態の第２ドア本体３７２ｂを実線で示し、閉じた状態の第２ドア本体３７２ｂを破線で示し、第２ドア本体３７２ｂが開閉される際の第２ドア本体３７２ｂの先端の軌跡を点線で示す。

処理モジュール３は、第１処理容器３１と第２処理容器３２とを区画する区画壁３ｉを有してもよい。区画壁３ｉには、クリーンユニット３８が設けられてよい。

以上に説明したように、基板処理装置１Ｃによれば、第２側壁３ｂが、Ｚ軸方向から見たときに、第１側壁３ａの側に凸となる第２頂部３ｈを有するようにＶ字状に配置される一対の第２傾斜部３ｆ、３ｇを有する。この場合、各メンテナンス開口（第１メンテナンス開口３ｃ１、第２メンテナンス開口３ｃ２）の開口幅を変えずに、基板処理装置１Ｃの幅方向（Ｙ軸方向）における各メンテナンス開口が占める長さが小さくなる。これにより、基板処理装置１Ｃの装置幅を縮小できる。

〔第４実施形態〕
図７を参照し、第４実施形態に係る基板処理装置１Ｄについて説明する。図７は、第４実施形態に係る基板処理装置１Ｄを示す平面図である。

基板処理装置１Ｄは、第１側壁３ａが、Ｚ軸方向から見たときに、第２側壁３ｂの側に凸となる第１頂部３ｎを有するようにＶ字状に配置される一対の第１傾斜部３ｌ、３ｍを有する点で、基板処理装置１Ｃと異なる。以下、基板処理装置１Ｃと異なる点を中心に説明する。

図７に示されるように、第１側壁３ａは、一対の第１非傾斜部３ｊ、３ｋと、一対の第１傾斜部３ｌ、３ｍとを有する。

一対の第１非傾斜部３ｊ、３ｋは、Ｙ軸方向に間隔をあけて配置される。第１非傾斜部３ｊと第１非傾斜部３ｋとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。

一対の第１傾斜部３ｌ、３ｍは、Ｙ軸方向において、第１非傾斜部３ｊと第１非傾斜部３ｋとの間に配置される。一対の第１傾斜部３ｌ、３ｍは、Ｚ軸方向から見たときに、第２側壁３ｂの側に凸となる第１頂部３ｎを有するようにＶ字状に配置される。第１頂部３ｎは、Ｙ軸方向において第１処理容器３１と第２処理容器３２との間に位置する。第１傾斜部３ｌと第１傾斜部３ｍとは、第１処理容器３１の中心及び第２処理容器３２の中心から等距離にある仮想線Ｌに対して線対称となるように配置されてよい。第１頂部３ｎの角度は、例えば９０°以上である。

以上に説明したように、基板処理装置１Ｄによれば、第１側壁３ａが、Ｚ軸方向から見たときに、第２側壁３ｂの側に凸となる第１頂部３ｎを有するようにＶ字状に配置される一対の第１傾斜部３ｌ、３ｍを有する。この場合、基板移載装置２３が移動可能な空間が拡がる。このため、例えば基板処理装置１Ｄの装置幅が狭く、基板移載装置２３のＹ軸方向の移動可能な空間が狭い場合でも、基板移載装置２３がＹ軸方向の中央付近から各ボート（第１ボート３３、第２ボート３４）にアクセスできる。また、ロードポート２１に載置されたカセットＣと対向する位置にあるボートに基板Ｗを移載する際の基板移載装置２３のＹ軸方向への移動距離が短くなるので、基板Ｗの搬送時間を短縮できる。

〔第５実施形態〕
図８を参照し、第５実施形態に係る基板処理装置１Ｅについて説明する。図８は、第５実施形態に係る基板処理装置１Ｅを示す平面図である。

基板処理装置１Ｅは、隣接して配置される基板処理装置１Ｆとの間でメンテナンス領域を共有する点で、基板処理装置１Ｄと異なる。以下、基板処理装置１Ｄと異なる点を中心に説明する。基板処理装置１Ｆは、基板処理装置１Ｅと同じ構成を有してよい。

図８に示されるように、第２側壁３ｂは、第２非傾斜部３ｏと、第２傾斜部３ｐと、第２傾斜部３ｑとを有する。

第２非傾斜部３ｏは、Ｙ軸方向において、第２側壁３ｂの中間位置に設けられる。第２非傾斜部３ｏには、第１排気ボックス４１ａ及び第２排気ボックス４２ａが隣接して配置される。第１排気ボックス４１ａと第２排気ボックス４２ａとは、Ｙ軸方向に隣接して配置される。

第２傾斜部３ｐは、第２非傾斜部３ｏのＹ軸方向正側に位置する。第２傾斜部３ｐは、第２非傾斜部３ｏから離れるにつれてＸ軸方向負側に傾斜する。第２傾斜部３ｑは、第２非傾斜部３ｏのＹ軸方向負側に位置する。第２傾斜部３ｑは、第２非傾斜部３ｏから離れるにつれてＸ軸方向負側に傾斜する。

第２傾斜部３ｐには、第１メンテナンス開口３ｃ１が設けられる。第２傾斜部３ｑには、第２メンテナンス開口３ｃ２が設けられる。第１メンテナンス開口３ｃ１及び第２メンテナンス開口３ｃ２は、それぞれ搬送室Ａ２と同じ高さ位置に設けられる。第１メンテナンス開口３ｃ１及び第２メンテナンス開口３ｃ２は、処理モジュール３をメンテナンスするための開口である。第１メンテナンス開口３ｃ１は、処理モジュール３に対して、第１処理容器３１及び第１ボート３３を搬入出する際に用いられる開口である。第２メンテナンス開口３ｃ２は、処理モジュール３に対して、第２処理容器３２及び第２ボート３４を搬入出する際に用いられる開口である。第１メンテナンス開口３ｃ１には、第１メンテナンスドア３７１が設けられる。第２メンテナンス開口３ｃ２には、第２メンテナンスドア３７２が設けられる。

基板処理装置１Ｅの第２メンテナンス開口３ｃ２及び基板処理装置１Ｆの第１メンテナンス開口３ｃ１は、Ｙ軸方向において基板処理装置１Ｅの第２排気ボックス４２ａと基板処理装置１Ｆの第１排気ボックス４１ａとの間に設けられる。すなわち、基板処理装置１Ｅの第２メンテナンス開口３ｃ２と基板処理装置１Ｆの第１メンテナンス開口３ｃ１との間には、排気ユニット４及びガス供給ユニット５が設置されない。この場合、基板処理装置１Ｅの第２排気ボックス４２ａと基板処理装置１Ｆの第１排気ボックス４１ａとの間の領域は、基板処理装置１Ｅの第２メンテナンス開口３ｃ２及び基板処理装置１Ｆの第１メンテナンス開口３ｃ１が露出する共有のメンテナンス領域となる。

第１メンテナンスドア３７１は、水平回転することで第１メンテナンス開口３ｃ１を開閉する。第１メンテナンスドア３７１は、第１ヒンジ３７１ａと、第１ドア本体３７１ｂとを有する。第１ヒンジ３７１ａは、第２側壁３ｂと第１ドア本体３７１ｂとを連結する。第１ヒンジ３７１ａは、例えば第２非傾斜部３ｏと第２傾斜部３ｐとの境界部分に設けられる。第１ドア本体３７１ｂは、第２側壁３ｂに対し、第１ヒンジ３７１ａを介して水平回転可能であってよい。第１ドア本体３７１ｂが開かれると、第１メンテナンス開口３ｃ１を介して、第１処理容器３１及び第１ボート３３を搬入出できる。図８においては、開いた状態の第１ドア本体３７１ｂを実線で示し、閉じた状態の第１ドア本体３７１ｂを破線で示し、第１ドア本体３７１ｂが開閉される際の第１ドア本体３７１ｂの先端の軌跡を点線で示す。

第２メンテナンスドア３７２は、水平回転することで第２メンテナンス開口３ｃ２を開閉する。第２メンテナンスドア３７２は、第２ヒンジ３７２ａと、第２ドア本体３７２ｂとを有する。第２ヒンジ３７２ａは、第２側壁３ｂと第２ドア本体３７２ｂとを連結する。第２ヒンジ３７２ａは、例えば第２非傾斜部３ｏと第２傾斜部３ｑとの境界部分に設けられる。第２ドア本体３７２ｂは、第２側壁３ｂに対し、第２ヒンジ３７２ａを介して水平回転可能であってよい。第２ドア本体３７２ｂが開かれると、第２メンテナンス開口３ｃ２を介して、第２処理容器３２及び第２ボート３４を搬入出できる。図８においては、開いた状態の第２ドア本体３７２ｂを実線で示し、閉じた状態の第２ドア本体３７２ｂを破線で示し、第２ドア本体３７２ｂが開閉される際の第２ドア本体３７２ｂの先端の軌跡を点線で示す。

Ｚ軸方向から見たときに、基板処理装置１Ｆの第１ドア本体３７１ｂの回転軌跡と、基板処理装置１Ｅの第２ドア本体３７２ｂの回転軌跡とは、重なっていてよい。

以上に説明したように、基板処理装置１Ｅによれば、一対の第２傾斜部３ｐ、３ｑの各々が、第２側壁３ｂのＹ軸方向の中間位置から離れるにつれて第１側壁３ａの側に傾斜する。この場合、各メンテナンス開口（第１メンテナンス開口３ｃ１、第２メンテナンス開口３ｃ２）の開口幅を変えずに、基板処理装置１Ｅの幅方向における各メンテナンス開口が占める長さが小さくなる。これにより、基板処理装置１Ｅの装置幅を縮小できる。また、基板処理装置１Ｅの第２メンテナンス開口３ｃ２と基板処理装置１Ｆの第１メンテナンス開口３ｃ１との間には、排気ユニット４及びガス供給ユニット５が設置されない。この場合、基板処理装置１Ｅと、基板処理装置１Ｅに隣接して配置される基板処理装置１Ｆとの間でメンテナンス領域を共有できる。このように、互いに隣接して配置される２つの基板処理装置１Ｅ、１Ｆによって、基板処理装置１Ｃ及び基板処理装置１Ｄが有するメンテナンス領域と同等の幅（Ｙ軸方向の長さ）を有するメンテナンス領域が形成される。

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

１Ａ基板処理装置
２搬送モジュール
３処理モジュール
３ａ第１側壁
３ｂ第２側壁
３ｃメンテナンス開口
３１第１処理容器
３２第２処理容器

Claims

第１水平方向において離隔する第１側壁と第２側壁とを有する処理モジュールと、
前記第１側壁に隣接して配置され、前記処理モジュールに基板を搬送する搬送モジュールと、
を備え、
前記処理モジュールは、前記第１水平方向と直交する第２水平方向に隣り合う第１処理容器及び第２処理容器を有し、
前記第２側壁には、前記第１処理容器及び前記第２処理容器をメンテナンスするための共通のメンテナンス開口が設けられ、
前記メンテナンス開口は、前記第２水平方向において前記第１処理容器と前記第２処理容器との中間位置を含んで設けられる、
基板処理装置。
前記第２側壁は、鉛直方向から見たときに、前記第１側壁の側に凸となる第２頂部を有するようにＶ字状に配置される一対の第２傾斜部を有し、
前記第２頂部は、前記第２水平方向において前記第１処理容器と前記第２処理容器との間に位置する、
請求項１に記載の基板処理装置。
前記メンテナンス開口は、前記一対の第２傾斜部の一方から他方にわたって連続して設けられる、
請求項２に記載の基板処理装置。
前記処理モジュールは、水平回転することで前記メンテナンス開口を開閉するメンテナンスドアを有する、
請求項３に記載の基板処理装置。
前記処理モジュールは、前記メンテナンスドアに取り付けられるクリーンユニットを有し、
前記クリーンユニットは、前記処理モジュール内にクリーンエアを供給する、
請求項４に記載の基板処理装置。
前記第２水平方向に間隔をあけて配置され、前記第２側壁と隣接する第１排気ボックス及び第２排気ボックスを備え、
前記第１排気ボックスには、前記第１処理容器内を排気する第１排気配管が収容され、
前記第２排気ボックスには、前記第２処理容器内を排気する第２排気配管が収容される、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
前記メンテナンス開口は、前記第１処理容器及び前記第２処理容器が通過可能な大きさを有する、
請求項１に記載の基板処理装置。
第１水平方向において離隔する第１側壁と第２側壁とを有する処理モジュールと、
前記第１側壁に隣接して配置され、前記処理モジュールに基板を搬送する搬送モジュールと、
を備え、
前記処理モジュールは、前記第１水平方向と直交する第２水平方向に隣り合う第１処理容器及び第２処理容器を有し、
前記第２側壁は、鉛直方向から見たときに、Ｖ字状に配置される一対の第２傾斜部を有し、
前記一対の第２傾斜部の一方に、前記第１処理容器をメンテナンスするための第１メンテナンス開口が設けられ、
前記一対の第２傾斜部の他方に、前記第２処理容器をメンテナンスするための第２メンテナンス開口が設けられ、
前記処理モジュールは、
水平回転することで前記第１メンテナンス開口を開閉する第１メンテナンスドアと、
水平回転することで前記第２メンテナンス開口を開閉する第２メンテナンスドアと、
を有し、
鉛直方向から見たときに、前記第１メンテナンスドアの回転軌跡と前記第２メンテナンスドアの回転軌跡とが重なる、
基板処理装置。
前記一対の第２傾斜部は、前記第１側壁の側に凸となる第２頂部を有する、
請求項８に記載の基板処理装置。
前記第２頂部は、前記第２水平方向において前記第１処理容器と前記第２処理容器との間に位置する、
請求項９に記載の基板処理装置。
前記第１側壁は、鉛直方向から見たときに、前記第２側壁の側に凸となる第１頂部を有するようにＶ字状に配置される一対の第１傾斜部を有し、
前記第１頂部は、前記第２水平方向において前記第１処理容器と前記第２処理容器との間に位置する、
請求項８に記載の基板処理装置。
前記第２水平方向に間隔をあけて配置され、前記第２側壁と隣接する第１排気ボックス及び第２排気ボックスを備え、
前記第１排気ボックスには、前記第１処理容器内を排気する第１排気配管が収容され、
前記第２排気ボックスには、前記第２処理容器内を排気する第２排気配管が収容される、
請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
前記一対の傾斜部の各々は、前記第２側壁の前記第２水平方向の中間位置から離れるにつれて前記第１側壁の側に傾斜する、
請求項８に記載の基板処理装置。
前記第２水平方向において、前記第１メンテナンス開口と前記第２メンテナンス開口との間に配置され、前記第２側壁と隣接する第１排気ボックス及び第２排気ボックスを備え、
前記第１排気ボックスには、前記第１処理容器内を排気する第１排気配管が収容され、
前記第２排気ボックスには、前記第２処理容器内を排気する第２排気配管が収容される、
請求項１３に記載の基板処理装置。