JP7390081B1 - 地盤注入工法 - Google Patents
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- Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)
Abstract
Description
本発明において、酸性溶液に用いる酸としては、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸、スルファミン酸等の無機酸、クエン酸などの有機酸および、これらの混酸やこれらの塩を用いることができ、pHを調整できる酸であれば限定されない。また、酸として作用する塩(例えば塩化アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム等)を用いることができる。また、任意の塩やアルカリやpH調整剤を添加剤としてゲルタイムを調整したり、強度を調整することができる。
シリカ溶液としては、水ガラスや活性シリカ、コロイダルシリカ、金属シリカ、地熱水由来のシリカやこれらの一種または複数種を用いることが可能である。
本発明において、使用する水ガラスの種類や濃度、モル比も限定されない。
この方法は、固結材として反応剤の水溶液あるいはセメント物質を含む懸濁液(A液)と、水ガラス水溶液(B液)とを用い、これらをY字管を用いて合流させながら地盤中に圧入する方法であるが、ボーリングロッドと地盤との間に隙間が生じ、この隙間から固結材が地表に噴出したり、また粗い層を通して注入液が逸脱してしまうため、細粒土層部分への固結や所定固結範囲の固結が困難である。
この方法は、A液として水ガラスを、B液としてゲル化反応剤を用いて、地盤中に設置された二重管の先端部で合流して、短いゲルタイムでも固結する配合のグラウトを注入する方法である。この工法によれば、ゲルタイムが短いためロッド周辺に沿ってグラウトが地上部に噴出することは防止できるが、ゲルタイムが短いため粗い層を脈状にしか固結し得ず、土粒子間に浸透させることはできない。このため掘削にあたって、湧水土砂の崩壊が生じやすい。
上記問題を解決するために、従来より、まずゲルタイムの短い方の注入材で注入管と地盤との隙間を充填することによりパッカー効果のあるシールを形成するとともに、粗い層や層の境界面を填充した脈状の主体とする固結層を形成し、その後、ゲルタイムの長い方の注入材を上記シールを破ってゲルタイムの短い方の注入材が既に注入してある領域に注入する地盤注入工法が開発されている。この工法は、ゲルタイムの長い方の注入材は注入管周囲や粗い層から逸脱することがないので、注入対象を確実に浸透して固結することを目的としたものである(特許文献2、図3)。
このように、耐久性と浸透性に優れた注入材は非アルカリ領域のシリカグラウトであるが、非アルカリシリカグラウトは、瞬結領域(pHが8付近)から超長結領域(pH3付近)の中間領域のゲルタイムを緩結グラウトとして最適のゲルタイムを設定して適用することが困難であった点と、ゲルタイムの瞬結グラウトと緩結グラウトの変換においてシリカ濃度が変わって、強度が大幅に変わるため地盤状況や注入状況に応じてゲルタイムや強度の変換を連続的に行うことが困難であった。また、シリカ濃度を変えることなく(強度を変えることなく)ゲルタイムを地盤状況や注入状況に合わせて連続的に可変することが困難であった。もちろんアルカリ領域においてはさらにこれらが困難であった。また、特許文献3には、地盤中に多量の硫酸根を持ち込まない地盤硬化法が記載されているが、使用する硬化剤は硫酸と硫酸アルミニウムであり、薬液の配合をpHで調整する考えである。しかし、硫酸根を含むグラウトの影響はpHでなくて硫酸根の濃度である。しかし、この特許文献3には硫酸根を含む注入材が地盤状況や地下水状況でどのように挙動して硫酸根の濃度が地盤改良領域で変動するか、その濃度が環境に影響しない範囲に低減するかの記載はないし、また、硫酸イオン濃度が環境に影響しない範囲内に管理する手法は示していない。
前記A液は水ガラス溶液であって、前記B液は反応剤と水とからなる溶液であって、該A液とB液をそれぞれA液ポンプとB液ポンプで送液する複数の駆動装置とインバータと該複数の駆動装置を一括管理する制御装置とを用いて、前記インバータを制御して、地盤状況に応じて前記A液と前記B液の流量と合流比率を瞬結配合から緩結配合に連続的に可変制御することによって、ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物の濃度を連続的に変化させて、前記反応剤を過大な量で処方することなく、ゲルタイムの設定に必要な量となる合流比率で注入することによって、地盤改良領域における該反応生成物の濃度をゲルタイムの設定に必要な所定の濃度内にして地盤を固結させることを特徴とするものである。
本発明においては、ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物のイオン濃度を連続的に変化させて、ゲルタイムおよび反応生成物のイオン濃度をリアルタイムで可視化し、前記反応剤を過大な量で処方することなく、該反応生成物のイオン濃度をゲルタイムの設定に必要な所定の濃度内にして地盤を固結させることが好ましい。
また、本発明においては、A液とB液との合流液であって、シリカ濃度が1~40w/vol%、pHが1~10である非アルカリシリカグラウトを地盤に注入する地盤注入工法であって、前記B液が酸を含む溶液であって、前記A液とB液の流量と合流比率を瞬結配合から緩結配合に連続的にゲルタイムに対応したpHおよびシリカ濃度にして、ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物のイオン濃度を連続的に変化させて、ゲルタイムおよび反応生成物のイオン濃度をリアルタイムで可視化し、前記反応剤を過大な量で処方することなく、ゲルタイムの設定に必要な所定の限度内となる合流比率で注入することによって、地盤を固結させることが好ましい。
前記地盤改良領域の地盤状況および地下水状況から、地盤内に溶出した硫酸イオンの該地盤中における挙動に基づき、注入地盤を下記の(1)開放系、(2)停滞系または(3)濃縮系のいずれかに分類し、
(1)開放系:地下水が前記コンクリート構造物よりも外方向に流れており、硫酸イオン濃度が低減していく地盤
(2)停滞系:地下水流が停滞しており、硫酸イオン濃度がほとんど変化しない地盤
(3)濃縮系:硫酸イオンが前記コンクリート構造物の表面から浸透して濃縮され、硫酸イオン濃度が増大していく地盤
前記分類された注入地盤のタイプに応じ、該注入地盤における硫酸イオンの低減要因(Y)として、下記△1~△7のうちから選ばれるいずれかまたは複数を設定し、
△1:前記地盤改良領域内に非注入部分を設け、非注入部分の比率を硫酸イオンの溶出率α1としたときの、改良地盤中における硫酸イオンの残存率 △1=1-α1
△2:地下水中に硫酸イオンが溶出する溶出率をα2としたときの、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △2=1-α2
△3:前記地盤改良領域内における硫酸イオンの固定率を溶出率α3としたときの、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △3=1-α3
△4:前記地盤改良領域内における非硫酸系注入材、または、低硫酸系注入材による硫酸系注入材の硫酸イオンの置換率を溶出率α4としたとき、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △4=1-α4
△5:前記地盤注入材中のシリカ成分のコロイドによる置換率を溶出率α5としたとき、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △5=1-α5
△6:前記地盤注入材中において硫酸イオンの一部または全部を捕捉し、その捕捉率を溶出率α6としたとき、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △6=1-α6
△7:前記地盤改良領域内の前記地盤注入材の注入率を低減し、該注入率の低減率を溶出率α7としたとき、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △7=1-α7
前記注入地盤に応じて設定された前記低減要因(Y)に基づき、
前記地盤注入材として、前記非アルカリシリカグラウト由来の硫酸イオンが、前記地盤改良領域に残存する硫酸イオン濃度の平均値(X)の値で8,000ppm以下になるような反応剤配合処方からなるものを選択することができる。
1)ロッド注入工法
2)ダブルパッカ工法
3)点注入工法
4)多点同時注入工法
5)柱状注入工法
6)瞬結・緩結複合注入工法
7)多ステージ同時注入工法
8)多注入孔同時注入工法
本発明の地盤注入工法は、地盤中に注入管を挿入し、シリカグラウトを注入するに際し、A液とB液を合流して注入管より地盤に注入するものである。
なお、ここでpHが中性領域とはpHがほぼ10以下をいう(図1参照)。
1)ロッド注入工法
2)ダブルパッカ工法
3)点注入工法
4)多点同時注入工法
5)柱状注入工法
6)瞬結・緩結複合注入工法
7)多ステージ同時注入工法
8)多注入孔同時注入工法
また、材料配合部のA液、B液のシリカ濃度や反応剤の濃度を調整することができる。また同時に反応生成物の濃度を管理することができる。
実施例1~12(表3~14、図9~14)
表3(a)から表14(b)には、A液、B液の配合とA液B液合流液の反応生成物である硫酸イオン濃度とリン酸イオン濃度とβ=A/Bに対応したゲルタイムとpHとシリカ濃度を示す。
また、図9~14には、β=A/Bに対応したゲルタイムとシリカ濃度(すなわちA液B液合流比率)の関係が示されている。
一方、この注入液の反応生成物の注入による地盤改良領域における濃度(X)は、注入地盤の地盤条件、地下水条件、注入設計条件が大きく影響することが、本出願人によって解明されている(特許文献1)。
硫酸イオン濃度についていえば、改良地盤中の硫酸イオンの濃度をX、改良地盤中のゲルからの硫酸イオンの溶出率をαとすると、地盤中の硫酸イオンの残存率は△=1-αとなる硫酸イオン残存率△の濃度がコンクリートに影響を与えない濃度X以下となる注入液の処方(反応剤濃度=a)をXがW以内になるようにβ=A/Bが得られるようにA液、B液の吐出量をA液・B液のインバータを制御して注入することにより、地盤中の反応生成物の濃度を所定の値(W)内におさめることができる。一方、室内実験によるシリカ配合液のゲル化物から硫酸イオンの溶出率をαとし図15,図16に示し硫酸ナトリウムの濃度がコンクリート供試体に及ぼす濃度を表16に示す。表16より、コンクリートに影響を及ばさない最小限の濃度をWとする。以上より、図10~15のβ=A/Bに対応した硫酸イオン濃度が地盤条件、地下水条件、注入設計条件に対応した硫酸イオンの残存率が表16より8000ppm(=W)以下になる注入液の配合処方を設定してA液、B液のインバータを制御すればいいことがわかる。
[実験]
地下水が停滞(または滞留)したまま地下水の流動がほとんどない場合を想定して、水溶性反応生成物である硫酸ナトリウム水溶液の濃度が1年間変化することなくコンクリート(モルタル)に作用すると仮定して、硫酸イオン濃度が10,000ppm、8,000ppm、5,000ppm、3,000ppm、0ppmの硫酸ソーダ水溶液に表17(a)のモルタル供試体を1年間養生して、一軸圧縮強度試験を行い、コンクリートに対する影響を調べた。
シリカゾルグラウト(水ガラス+硫酸系の非アルカリシリカグラウト)のゲルからのSO4 --の溶出試験
(1)溶出方法
試験に用いたシリカゾル配合液を表18に示す。また、表18のシリカゾルによる固結豊浦砂を表19に示す。φ6.8cm、L12.7cm(容積430cm3)のポリプロピレン容器に約φ5×h10cmの表18、表19によるホモゲルまたはサンドゲルを入れ、それに水200mLを注水して、ゲル中の硫酸イオンが地下水に拡散あるいは地下水が流動している場合を想定して、定期的に水交換して、1,3,7,28,60日経過時に水のSO4 --を測定した。水交換は、1日目、3日目、7日目、28日目とし、SO4 --濃度測定後に行った。
シリカゾルグラウトは、地盤中に注入した場合、ゲル中のNa+イオンとSO4 --は地下水中に短期間のうちに溶出してしまい、不溶性のシリカ分のみでゲルとして残る。
地下水中に溶出したSO4 --は、地下水中に拡散されて短期間のうちに消滅するとみなしてよい(図15、表20)。
実験によれば、ほぼ1日で40%のSO4 --が溶出し(ゲル中残存率ほぼ60%)、1ヶ月で85%が溶出し(ゲル中残存率ほぼ15%)、2ケ月でほぼ100%が溶出する(ゲル中残存率ほぼ0%)。以上において、注入地盤中において注入液中に含有する硫酸イオン濃度よりも注入した地盤中における硫酸イオンが低減する要因を(Y)とすると、(Y)は硫酸イオンのゲルからの溶出率(α)とゲル中の硫酸イオンの残存率(=△)にかかわることが判る(△=1-α)。
水ガラスグラウトの劣化要因となるアルカリを酸性中和剤で除去した非アルカリシリカグラウトには、酸性中和剤として、(1)硫酸、(2)リン酸、(3)硫酸とリン酸の混酸、(4)非硫酸系酸、(5)非硫酸系酸性塩、(6)上記(1)~(5)のいずれかの併用、が用いられる(表21~表23)。
上述したように、硫酸イオンは、数か月内に養生水中に溶出して、ほぼ一定値になると思われる(図16)。実際の現場では、固結物に対して地下水が極めて多く、地下水が流動して希釈される場合は、溶出と拡散の速度は早くなると思われるが、その希釈速度やSO4 --のゲル中残存率は、地盤条件や地下水条件や注入領域の大きさ等が影響することを考慮する必要がある。従って、希釈を伴わない場合でも、モルタル供試体にほとんど影響を生じないシリカグラウトの検討が有効となる。それが、金属イオン封鎖剤を含有する非アルカリシリカグラウトの適用である。
表26のモルタルを、表23に示す金属イオン封鎖剤を含む非アルカリシリカグラウトを図18の養生方法で16年養生した養生試験の状況を図18、図19に、その間の養生水のpHと強度比を図20に、それぞれ示した。モルタル供試体を養生した蒸留水のpHは12付近であるが、硫酸塩水溶液中で崩壊する場合のpHは13以上となり、モルタル中のアルカリが溶出していることが判る。それに対して、金属イオン封鎖剤を含む非アルカリシリカにより被覆されている場合、pHはほぼ中性値を保っている。この結果より、上記シリカはモルタル中のアルカリの溶出を遮断(中性化を抑制)するとともに、モルタル内部への硫酸イオンの侵入を防いでいると考えられる。以上より、金属イオン封鎖剤の機能が確認された(図17~図20、図21~図25)。
図26(a)に示すように、表17(a)のモルタルを表27の△印の金属イオン封鎖剤を含む表25(a)のシリカグラウトのサンドゲルで包み、それを表27の〇印の硫酸系シリカグラウトのホモゲル内で養生した(図26(b))。6ヶ月後にホモゲル、サンドゲルを解体して(図26(c))、モルタルを観察したところ、変化はなく、表面には、上記金属イオン封鎖剤を含むシリカ(マスキングシリカ)による白色被覆が形成されて(図26(d))、モルタルに変状は見られなかった。モルタル表面にフェノールフタレインを噴霧しても赤色反応を生じず、さらにモルタルに傷を付けて(図26(d))フェノールフタレインを噴霧したところ、傷部のみがコンクリート内部のアルカリを示す赤色反応を呈した。また、取り出したモルタル供試体を水に浸漬したところ、養生水のpHは中性付近を呈した。このことから、マスキングシリカ層が硫酸イオンのモルタル内部への侵入を防ぐとともに、モルタル供試体内部からのアルカリの溶出を防いでいることが判った。
また、コンクリートが高品質の場合、硫酸イオンは侵入せず問題を生じない(表17(b))。
また、金属イオン封鎖剤のうち、特に、ヘキサメタリン酸ソーダを含む非アルカリシリカでは、ゲル化物からの硫酸イオンの溶出量が初期において極めて少なく、用いた硫酸イオン濃度の30%である。このため、コンクリートの保護機能が極めて高い。この理由は、コンクリート表面に形成されたカルシウムと結合したハイドロキシアパタイトの強固な構造の中に、SO4 --イオンが取り込まれたものと推察される。
また、上記において地盤改良領域の硫酸イオン濃度は、硫酸イオン含有注入液の注入率が減少することによって低減するのみならず、硫酸イオンがカルシウムによって硫酸カルシウムとして捕捉(固定)されることによっても低減する。
さらに、同様に一次注入においてカルシウム含有グラウトとして懸濁型グラウトを用いる場合も、地盤改良領域の硫酸イオン濃度は、全注入率から一次注入材の注入率を除いた硫酸イオン含有注入材による二次注入材の注入率が低減したことによる硫酸イオンの低減の他に、二次注入材の硫酸イオンが一次注入材のカルシウムによって捕捉(固定)されることによっても低減される(表15、△3,4,6,7)。
以下に具体例を示す。
X=A×a×Y(=△2(=0.3))=0.4×(21,000~28,000ppm)×0.3=2,520~3,360ppmとなる。(aは注入液中の硫酸イオン濃度)
また、上記において地盤改良領域の硫酸イオン濃度は、硫酸イオン含有注入液の注入率が減少することによって低減するのみならず、硫酸イオンがカルシウムによって硫酸カルシウムとして捕捉(固定)されることによっても低減する。
さらに、同様に一次注入においてカルシウム含有グラウトとして懸濁型グラウトを用いる場合も、地盤改良領域の硫酸イオン濃度は、全注入率から一次注入材の注入率を除いた硫酸イオン含有注入材による二次注入材の注入率が低減したことによる硫酸イオンの低減の他に、二次注入材の硫酸イオンが一次注入材のカルシウムによって捕捉(固定)されることによっても低減される(表15、△3,4,6,7)。
(1)水ガラス系注入材
(2)懸濁系注入材
(3)低硫酸化合物系注入材
(4)硫酸化合物系注入材および非硫酸化合物系注入材の併用
(5)リン酸化合物、金属イオン封鎖剤およびキレート剤のうちのいずれかまたは複数を含む注入材
(1)開放系:地下水が前記コンクリート構造物よりも外方向に流れており、硫酸イオン濃度が低減していく地盤
(2)停滞系:地下水流が停滞しており、硫酸イオン濃度がほとんど変化しない地盤
(3)濃縮系:硫酸イオンが前記コンクリート構造物の表面から浸透して濃縮され、硫酸イオン濃度が増大していく地盤
△1:地盤改良領域内に非注入部分を設け、非注入部分の比率を硫酸イオンの溶出率α1としたときの、改良地盤中における硫酸イオンの残存率 △1=1-α1
△2:地下水中に硫酸イオンが溶出する溶出率をα2としたときの、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △2=1-α2
△3:地盤改良領域内における硫酸イオンの固定率を溶出率α3としたときの、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △3=1-α3
△4:地盤改良領域内における非硫酸系注入材、または、低硫酸系注入材による硫酸系注入材の硫酸イオンの置換率を溶出率α4としたとき、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △4=1-α4
△5:地盤注入材中のシリカ成分のコロイドによる置換率を溶出率α5としたとき、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △5=1-α5
△6:地盤注入材中において硫酸イオンの一部または全部を捕捉し、その捕捉率を溶出率α6としたとき、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △6=1-α6
△7:地盤改良領域内の前記地盤注入材の注入率を低減し、注入率の低減率を溶出率α7としたとき、地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △7=1-α7
2,2’,2” 注入ポンプ
3 多重管外管
3’ 多重管内管
4,4’,4” 送液管
5,5’,5” 圧力測定器
6,6’,6” 流量測定器
7 昇降機
7’ 注入管深度計
8 コントローラ
9 内管から注入管先端部への流入部
9’ 注入管先端部
10,10’,10” 圧力計からコントローラへの情報通知回路
11,11’,11” 流量計からコントローラへの情報通知回路
12 注入深度計からコントローラへの情報通知回路
13,13’,13” コントローラから注入ポンプへの指示回路
14 注入材組み合わせ調整装置
15 コントローラから注入材組み合わせ調整装置への指示回路
16 コントローラから昇降機への指示回路
17,17’,17” コントローラから配合液配合装置への指示回路
A 急結用反応配合液
B 主材配合液
C 反応剤配合液
Claims (12)
- 地盤中に挿入した注入管を通してシリカグラウトを注入する地盤注入工法において、A液とB液を該注入管を通して地上合流または地中合流させた合流液を地盤に注入する地盤注入工法であって、
前記A液は水ガラス溶液であって、前記B液は反応剤と水とからなる溶液であって、該A液とB液をそれぞれA液ポンプとB液ポンプで送液する複数の駆動装置とインバータと該複数の駆動装置を一括管理する制御装置とを用いて、前記インバータを制御して、地盤状況に応じて前記A液と前記B液の流量と合流比率を瞬結配合から緩結配合に連続的に可変制御することによって、ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物の濃度を連続的に変化させて、前記反応剤を過大な量で処方することなく、ゲルタイムの設定に必要な量となる合流比率で注入することによって、地盤改良領域における該反応生成物の濃度をゲルタイムの設定に必要な所定の濃度内にして地盤を固結させることを特徴とする地盤注入工法。 - ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物のイオン濃度を連続的に変化させて、ゲルタイムおよび反応生成物のイオン濃度をリアルタイムで可視化し、前記反応剤を過大な量で処方することなく、該反応生成物のイオン濃度をゲルタイムの設定に必要な所定の濃度内にして地盤を固結させる請求項1記載の地盤注入工法。
- A液とB液との合流液であって、シリカ濃度が1~40w/vol%、pHが1~10である非アルカリシリカグラウトを地盤に注入する地盤注入工法であって、
前記B液が酸を含む溶液であって、前記A液とB液の流量と合流比率を瞬結配合から緩結配合に連続的にゲルタイムに対応したpHおよびシリカ濃度にして、
ゲルタイムおよび前記A液と前記B液の合流液の反応生成物のイオン濃度を連続的に変化させて、ゲルタイムおよび反応生成物のイオン濃度をリアルタイムで可視化し、前記反応剤を過大な量で処方することなく、ゲルタイムの設定に必要な所定の限度内となる合流比率で注入することによって、地盤を固結させる請求項1記載の地盤注入工法。 - あらかじめ前記A液と前記B液の合流比率の連続的変化に対するゲルタイムおよび前記反応生成物のイオン濃度の変化の関係を把握しておくことにより、地盤改良領域における該反応生成物のイオン濃度をゲルタイムの設定に必要な所定の濃度内に管理して地盤を固結する請求項1記載の地盤注入工法。
- あらかじめ前記A液と前記B液の流量と合流比率をインバータにより制御して、該A液と該B液の流量と合流比率の連続的変化に対するゲルタイムおよび前記反応生成物の濃度を把握しておくことにより、改良地盤中における該反応生成物の濃度が所定の濃度内におさまっているか否かをリアルタイムで把握して地盤中に注入する請求項1記載の地盤注入工法。
- 地盤中における前記反応生成物の濃度として、地盤改良領域の地盤状況および地下水状況から、地盤中の該反応生成物の残存イオン濃度が所定の濃度となるように該A液と該B液の流量と合流比率を設定して、改良地盤中における該反応生成物の濃度を所定の濃度内にして地盤を固結させる請求項1記載の地盤注入工法。
- シリカ濃度が1~40w/vol%、pHが1~10である非アルカリシリカグラウトを地盤注入材として注入して地盤改良領域を形成するにあたり、
前記地盤改良領域の地盤状況および地下水状況から、地盤内に溶出した硫酸イオンの該地盤中における挙動に基づき、注入地盤を下記の(1)開放系、(2)停滞系または(3)濃縮系のいずれかに分類し、
(1)開放系:地下水が前記コンクリート構造物よりも外方向に流れており、硫酸イオン濃度が低減していく地盤
(2)停滞系:地下水流が停滞しており、硫酸イオン濃度がほとんど変化しない地盤
(3)濃縮系:硫酸イオンが前記コンクリート構造物の表面から浸透して濃縮され、硫酸イオン濃度が増大していく地盤
前記分類された注入地盤のタイプに応じ、該注入地盤における硫酸イオンの低減要因(Y)として、下記△1~△7のうちから選ばれるいずれかまたは複数を設定し、
△1:前記地盤改良領域内に非注入部分を設け、非注入部分の比率を硫酸イオンの溶出率α1としたときの、改良地盤中における硫酸イオンの残存率 △1=1-α1
△2:地下水中に硫酸イオンが溶出する溶出率をα2としたときの、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △2=1-α2
△3:前記地盤改良領域内における硫酸イオンの固定率を溶出率α3としたときの、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △3=1-α3
△4:前記地盤改良領域内における非硫酸系注入材、または、低硫酸系注入材による硫酸系注入材の硫酸イオンの置換率を溶出率α4としたとき、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △4=1-α4
△5:前記地盤注入材中のシリカ成分のコロイドによる置換率を溶出率α5としたとき、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △5=1-α5
△6:前記地盤注入材中において硫酸イオンの一部または全部を捕捉し、その捕捉率を溶出率α6としたとき、前記地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △6=1-α6
△7:前記地盤改良領域内の前記地盤注入材の注入率を低減し、該注入率の低減率を溶出率α7としたとき、該地盤改良領域内における硫酸イオンの残存率 △7=1-α7
前記注入地盤に応じて設定された前記低減要因(Y)に基づき、
前記地盤注入材として、前記非アルカリシリカグラウト由来の硫酸イオンが、前記地盤改良領域に残存する硫酸イオン濃度の平均値(X)の値で8,000ppm以下になるような反応剤配合処方からなるものを選択する請求項1記載の地盤注入工法。 - 前記A液と前記B液の合流比率を連続的に変化させることにより、ゲルタイムおよび改
良地盤中における前記反応生成物の濃度が、地盤状況、地下水状況および注入設計に応じて所定の値となるように注入液を注入する請求項1記載の地盤注入工法。 - 前記シリカグラウトとして、相対的にゲルタイムの短いグラウトと相対的にゲルタイムの長いグラウトを連続して地盤に注入するものとし、前記ゲルタイムの短いグラウトは地盤に粗結注入する一次注入材として注入し、前記ゲルタイムの長いグラウトは2次注入材として浸透注入する請求項1記載の地盤注入工法。
- 連続的にゲルタイムを変化させながら、同一シリカ濃度の前記シリカグラウトを用いる請求項1記載の地盤注入工法。
- 連続的にゲルタイムを変化させながら、地盤状況に対応したゲルタイムとシリカ濃度が得られる前記シリカグラウトを注入する請求項1記載の地盤注入工法。
- 以下の1)~8)のいずれかの注入方法により、前記A液と前記B液の合流液を地盤に注入する請求項1記載の地盤注入工法。
1)ロッド注入工法
2)ダブルパッカ工法
3)点注入工法
4)多点同時注入工法
5)柱状注入工法
6)瞬結・緩結複合注入工法
7)多ステージ同時注入工法
8)多注入孔同時注入工法
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