JP7386550B2 - 無電解めっき用シリコンウェハの製造方法 - Google Patents
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Description
(1) シリコンウェハと当該シリコンウェハのデバイス面に設けられるデバイス面用樹脂フィルムと当該シリコンウェハの底面に設けられる底面用樹脂フィルムとを有する無電解めっき用シリコンウェハの製造方法であって、
前記シリコンウェハのデバイス面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部およびデバイスを搭載するための開口部を有するデバイス面用樹脂フィルムを設けるとともに、前記シリコンウェハの底面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部を有する底面用樹脂フィルムを設け、
前記シリコンウェハの端部とデバイス面用樹脂フィルムと底面用樹脂フィルムとの境界に空間を形成させてデバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とを一体化させる
ことを特徴とする無電解めっき用シリコンウェハの製造方法、
(2) 前記空間でシリコンウェハおよびデバイス面用樹脂フィルムの双方と非接触である底面用樹脂フィルムのシリコンウェハの直径方向における長さが0.1~8mmである前記(1)に記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法、
(3) 底面用樹脂フィルムの上面から前記空間の上端部までの高さが0.05~1mmである前記(1)または(2)に記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法、
(4) シリコンウェハの底面が平面であるか、またはシリコンウェハの底面に凹部が形成されている前記(1)~(3)のいずれかに記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法、
(5) シリコンウェハの底面でシリコンウェハが露出している前記(1)~(4)のいずれか記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法、
(6) シリコンウェハと当該シリコンウェハのデバイス面に設けられるデバイス面用樹脂フィルムおよび無電解めっき層と当該シリコンウェハの底面に設けられる底面用樹脂フィルムとを有する無電解めっき層含有シリコンウェハを製造する方法であって、
前記シリコンウェハのデバイス面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部およびデバイスを搭載するための開口部およびを有するデバイス面用樹脂フィルムを設けるとともに、前記シリコンウェハの底面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部を有する底面用樹脂フィルムを設け、
前記シリコンウェハの端部とデバイス面用樹脂フィルムと底面用樹脂フィルムとの境界に空間を形成させてデバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とを一体化させて無電解めっき用シリコンウェハを作製し、
当該無電解めっき用シリコンウェハのデバイス面に無電解めっきを施し、無電解めっき層を形成させた後、前記空間が存在している箇所で底面用樹脂フィルムを切断し、デバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とが一体化されている切断片を形成させ、形成された切断片を用いて切断されている底面用樹脂フィルムおよびデバイス面用樹脂フィルムを前記シリコンウェハから剥離して除去する
ことを特徴とする無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法、
(7) 切断された底面用樹脂フィルムとともにデバイス面用樹脂フィルムをシリコンウェハから剥離して除去した後、シリコンウェハに残存している底面用樹脂フィルムを除去する前記(6)に記載の無電解めっき層を有する無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法、
(8) 前記空間でシリコンウェハおよびデバイス面用樹脂フィルムの双方と非接触である底面用樹脂フィルムのシリコンウェハの直径方向における長さが0.1~8mmである前記(6)または(7)に記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法、
(9) 底面用樹脂フィルムの上面から前記空間の上端部までの高さが0.05~1mmである前記(6)~(8)のいずれかに記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法、
(10) シリコンウェハの底面が平面であるか、またはシリコンウェハの底面に凹部が形成されている前記(6)~(9)のいずれかに記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法、および
(11) シリコンウェハの底面でシリコンウェハが露出している前記(6)~(10)のいずれか記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法
に関する。
本発明の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法は、前記したように、シリコンウェハと当該シリコンウェハのデバイス面に設けられるデバイス面用樹脂フィルムと当該シリコンウェハの底面に設けられる底面用樹脂フィルムとを有する無電解めっき用シリコンウェハを製造する方法である。
本発明の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法では、前記で得られた無電解めっき用シリコンウェハのデバイス面に無電解めっきを施し、無電解めっき層を形成させた後、前記空間が存在している箇所で底面用樹脂フィルムを切断し、デバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とが一体化されている切断片を形成させ、形成された切断片を用いて切断されている底面用樹脂フィルムおよびデバイス面用樹脂フィルムをシリコンウェハから剥離して除去することにより、無電解めっき層含有シリコンウェハを製造することができる。
1a シリコンウェハのデバイス面
1b シリコンウェハの底面
1c シリコンウェハの底面に形成されている凹部
1d シリコンウェハ1の端部
2 デバイス面用樹脂フィルム
2a デバイス面用樹脂フィルムの鍔部
2b デバイス面用樹脂フィルムの開口部
3 底面用樹脂フィルム
3a 底面用樹脂フィルムの鍔部
3b 底面用樹脂フィルムの端部
4 空間
5 切断装置
6 無電解めっき層
7 切断片
Claims (10)
- シリコンウェハと当該シリコンウェハのデバイス面に設けられるデバイス面用樹脂フィルムと当該シリコンウェハの底面に当該シリコンウェハを露出させて設けられる底面用樹脂フィルムとを有する無電解めっき用シリコンウェハの製造方法であって、
前記シリコンウェハのデバイス面に当該シリコンウェハにデバイスを搭載するための開口部および当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部を有するデバイス面用樹脂フィルムを設けるとともに、前記シリコンウェハの底面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部および当該シリコンウェハを外部に露出させるための開口部を有する底面用樹脂フィルムを設け、
シリコンウェハの端部とデバイス面用樹脂フィルムと底面用樹脂フィルムとの境界に空間を形成させてデバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とを一体化させる
ことを特徴とする無電解めっき用シリコンウェハの製造方法。 - 前記空間でシリコンウェハおよびデバイス面用樹脂フィルムの双方と非接触である底面用樹脂フィルムのシリコンウェハの直径方向における長さが0.1~8mmである請求項1に記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法。
- 底面用樹脂フィルムの上面から前記空間の上端部までの高さが0.05~1mmである請求項1または2に記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法。
- シリコンウェハの底面が平面であるか、またはシリコンウェハの底面に凹部が形成されている請求項1~3のいずれかに記載の無電解めっき用シリコンウェハの製造方法。
- シリコンウェハと当該シリコンウェハのデバイス面に設けられるデバイス面用樹脂フィルムおよび無電解めっき層と当該シリコンウェハの底面に設けられる底面用樹脂フィルムとを有する無電解めっき層含有シリコンウェハを製造する方法であって、
前記シリコンウェハのデバイス面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部およびデバイスを搭載するための開口部およびを有するデバイス面用樹脂フィルムを設けるとともに、前記シリコンウェハの底面に当該シリコンウェハの端部から突出する鍔部を有する底面用樹脂フィルムを設け、
前記シリコンウェハの端部とデバイス面用樹脂フィルムと底面用樹脂フィルムとの境界に空間を形成させてデバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とを一体化させて無電解めっき用シリコンウェハを作製し、
当該無電解めっき用シリコンウェハのデバイス面に無電解めっきを施し、無電解めっき層を形成させた後、前記空間が存在している箇所で底面用樹脂フィルムを切断し、デバイス面用樹脂フィルムの鍔部と底面用樹脂フィルムの鍔部とが一体化されている切断片を形成させ、形成された切断片を用いて切断されている底面用樹脂フィルムおよびデバイス面用樹脂フィルムを前記シリコンウェハから剥離して除去する
ことを特徴とする無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。 - 切断された底面用樹脂フィルムとともにデバイス面用樹脂フィルムをシリコンウェハから剥離して除去した後、シリコンウェハに残存している底面用樹脂フィルムを除去する請求項5に記載の無電解めっき層を有する無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。
- 前記空間でシリコンウェハおよびデバイス面用樹脂フィルムの双方と非接触である底面用樹脂フィルムのシリコンウェハの直径方向における長さが0.1~8mmである請求項5または6に記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。
- 底面用樹脂フィルムの上面から前記空間の上端部までの高さが0.05~1mmである請求項5~7のいずれかに記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。
- シリコンウェハの底面が平面であるか、またはシリコンウェハの底面に凹部が形成されている請求項5~8のいずれかに記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。
- シリコンウェハの底面でシリコンウェハが露出している請求項5~9のいずれか記載の無電解めっき層含有シリコンウェハの製造方法。
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