JP7384332B2 - 表面処理組成物及び表面処理方法 - Google Patents
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Description
a)所望に応じて、前記表面を洗浄水溶液と接触させること;
b)所望に応じて、前記表面を第一のリンス溶液と接触させること;
c)前記表面を、表面処理組成物と接触させることであって、前記表面処理組成物は、少なくとも1つのシロキサン化合物、及び0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む少なくとも1つの添加剤、を含み、並びに前記表面処理組成物は、前記表面上に表面処理層を、前記表面が約50度以上の水接触角を有するように形成する、表面処理組成物と接触させること;
d)所望に応じて、前記表面を第二のリンス溶液と接触させること;
e)前記表面を乾燥すること;及び
f)所望に応じて、前記表面処理層を除去して、洗浄されたパターン化表面を形成すること、
によって実施されてよい。そのような実施形態では、前記パターンは、約20nm以下の寸法を有するフィーチャを含み得る。
表面処理溶液(すなわち、製剤1~20)を、室温で成分を混合することによって調製した。製剤1~20の組成を、以下の表1にまとめる。特に断りのない限り、表1に挙げたパーセントはすべて重量パーセントである。
前記クーポンを、AST VCA 3000接触角測定ツール上に置き、以下の手順に従って接触角を測定した。
2.垂直調節ノブを時計回りの方向に回して、検体が針のすぐ下に来るまで前記ステージを上げる。
3.脱イオン水を1滴分出し、前記検体の表面に軽く接触させ、続いて前記針から前記水滴が離れるまで前記検体を下げる。
4.ステージを調節するための水平調節ノブを用いて、水滴を視野全体の中心に持ってくる。
5.ガイドレールに沿って前記ステージを移動させることによって視野内の水滴にピントを合わせ、シャープな画像を得る。
6.「AutoFAST」ボタンを押して前記画像を止め、計算を行う。2つの数値が表示され、これらは、左接触角及び右接触角である。
7.手動で計算するためには、マウスを使って前記水滴の周囲に5つのマーカーを置く。
8.Main Menuから水滴アイコンを選択して、接触角を計算する。
9.これによって、前記画像上に対して曲線フィット及び接線が描かれる。スクリーンの左隅に2つの数値が表示され、これらは、左接触角及び右接触角である。
10.上記の手順を3つの基板部位で繰り返し、得られた接触角を平均し、前記平均の結果を表1に報告する。
1 「CA」は、接触角(度)を意味する。
2 「HMDSO」は、ヘキサメチルジシロキサンを意味する。
3 「PGMEA」は、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを意味する。
表面処理溶液(すなわち、製剤21~56)を、室温で成分を混合することによって調製した。製剤21~56の組成を、以下の表2にまとめる。特に断りのない限り、表2に挙げたパーセントはすべて重量パーセントである。
1 「CA」は、接触角(度)を意味する。
2 「HMDSO」は、ヘキサメチルジシロキサンを意味する。
3 「テトラグライム」は、テトラエチレングリコールジメチルエーテルを意味する。
本開示は、以下の実施形態を含む。
<1> ウェハの表面上に配置されたパターンを有する半導体基板を処理するための方法であって、
前記表面を表面処理組成物と接触させて、表面処理層が約50度以上の水接触角を有するように表面処理層を形成することを含み、
前記表面処理組成物は、少なくとも1つのシロキサン化合物、及び0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む少なくとも1つの添加剤を含み、
前記パターンは約20nm以下の寸法を有するフィーチャ(Feature)を含む、方法。
<2> 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ジシロキサン、オリゴシロキサン、シクロシロキサン、又はポリシロキサンを含む、前記<1>に記載の方法。
<3> 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラ-n-オクチルジメチルジシロキサン、ビス(ノナフルオロヘキシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-ブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-オクチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサ-n-ブチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、1,1,1,3,3-ペンタメチル-3-アセトキシジシロキサン、1-アリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(ヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3-ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシロキサン、(3-クロロプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン、1,1,3,3-テトラビニルジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、ビニルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロイソブチル)テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、1,3-ビス[(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3,3-トリメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-メタクリロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(クロロメチル)テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-1,3-ジエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラフェニルジメチルジシロキサン、メタクリロキシペンタメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリエトキシシリルエチル)テトラメチルジシロキサン、3-アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(2-アミノエチルアミノメチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-カルボキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロ-1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,3-ジエチニルテトラメチルジシロキサン、n-ブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-t-ブチルジシロキサン、1,3-ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3-ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラエトキシ-1,3-ジメチルジシロキサン、ビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、白金-[1,3-ビス(シクロヘキシル)イミダゾール-2-イリデンヘキサクロロジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピル-1-クロロジシロキサン、1,1,1-トリメチル-3,3,3-トリフェニルジシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、3,3-ジフェニルテトラメチルトリシロキサン、3-フェニルヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、n-プロピルヘプタメチルトリシロキサン、1,5-ジエトキシヘキサメチルトリシロキサン、3-エチルヘプタメチルトリシロキサン、3-(テトラヒドロフルフリルオキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(3,3,3-トリフルオロプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,5,5-ペンタフェニル-1,3,5-トリメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、1,1,5,5-テトラフェニル-1,3,3,5-テトラメチルトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、オクタクロロトリシロキサン、3-フェニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン、3-(3-アセトキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(m-ペンタデシルフェノキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、リモネニルトリシロキサン、3-ドデシルヘプタメチルトリシロキサン、3-オクチルヘプタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサン、1,1,1,3,3,5,5-ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサエチル-3-メチルトリシロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、3-トリアコンチルへプタメチルトリシロキサン、3-(3-ヒドロキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロメチルホスホノキシトリシロキサン、3-オクタデシルヘプタメチルトリシロキサン、フルフリルオキシトリシロキサン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン、ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、ジメチルシロキサン-[65~70%(60%プロピレンオキシド/40%エチレンオキシド)]ブロックコポリマー、ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、テトラ-n-プロピルテトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリオクタデシルメチルシロキサン、ヘキサコシル末端ポリジメチルシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ポリ(3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシロキサン)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン、又はトリエチルシロキシ末端ポリジエチルシロキサンを含む、前記<2>に記載の方法。
<4> 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、前記表面処理組成物の約0.1重量%~約99.9重量%である、前記<1>に記載の方法。
<5> 前記少なくとも1つの添加剤は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸、無水酢酸、過塩素酸、硝酸、硫酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素酸、塩素酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、又はフルオロ硫酸を含む、前記<1>に記載の方法。
<6> 前記少なくとも1つの添加剤は、前記表面処理組成物の約0.1重量%~約10重量%である、前記<1>に記載の方法。
<7> 前記表面処理組成物は、さらに、少なくとも1つの有機溶媒を含む、前記<1>に記載の方法。
<8> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水物、グリコールエーテル、グリコールエーテルアセテート、アルカン、芳香族炭化水素、スルホン、スルホキシド、ケトン、アルデヒド、エステル、ラクタム、ラクトン、アセタール、ヘミアセタール、アルコール、カルボン酸、及びエーテルから成る群より選択される、前記<7>に記載の方法。
<9> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水酢酸、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、C 6 -C 16 アルカン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、n-ジブチルエーテル、ジメチルスルホン、スルホラン、ベンジルアルコール、t-ブチルアルコール、t-アミルアルコール、メチルエチルケトン、酢酸、又はイソブチルメチルケトンを含む、前記<7>に記載の方法。
<10> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、前記表面処理組成物の約3重量%~約95重量%である、前記<7>に記載の方法。
<11> 前記表面処理組成物は実質的に水を含まない、前記<1>に記載の方法。
<12> 前記表面処理組成物は、前記少なくとも1つのシロキサン化合物、前記少なくとも1つの添加剤、及び所望に応じて少なくとも1つの有機溶媒、から成る、前記<1>に記載の方法。
<13> 前記表面を前記表面処理組成物と接触させる前に、前記表面を少なくとも1つの洗浄水溶液と接触させることをさらに含む、前記<1>に記載の方法。
<14> 前記少なくとも1つの洗浄水溶液は、水、アルコール、水酸化アンモニウム水溶液、塩化水素水溶液、過酸化水素水溶液、有機溶媒、又はこれらの組み合わせを含む、前記<13>に記載の方法。
<15> 前記表面を前記少なくとも1つの洗浄水溶液と接触させた後、前記表面を前記表面処理組成物と接触させる前に、前記表面を第一のリンス溶液と接触させることをさらに含む、前記<13>に記載の方法。
<16> 前記表面を前記表面処理組成物と接触させた後、前記表面を第二のリンス溶液と接触させることをさらに含む、前記<15>に記載の方法。
<17> 前記表面を乾燥することをさらに含む、前記<1>に記載の方法。
<18> 前記表面処理層を除去することをさらに含む、前記<1>に記載の方法。
<19> 前記表面は、SiO 2 、SiN、TiN、SiOC、SiON、Si、SiGe、Ge、又はWを含む、前記<1>に記載の方法。
<20> 表面処理組成物であって、
前記表面処理組成物の約0.1重量%~約99.9重量%の量の少なくとも1つのシロキサン化合物;及び
前記表面処理組成物の約0.1重量%~約10重量%の量の少なくとも1つの添加剤であって、0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む添加剤、
を含む、表面処理組成物。
<21> 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ジシロキサン、オリゴシロキサン、シクロシロキサン、又はポリシロキサンを含む、前記<20>に記載の表面処理組成物。
<22> 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラ-n-オクチルジメチルジシロキサン、ビス(ノナフルオロヘキシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-ブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-オクチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサ-n-ブチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、1,1,1,3,3-ペンタメチル-3-アセトキシジシロキサン、1-アリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(ヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3-ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシロキサン、(3-クロロプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン、1,1,3,3-テトラビニルジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、ビニルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロイソブチル)テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、1,3-ビス[(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3,3-トリメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-メタクリロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(クロロメチル)テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-1,3-ジエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラフェニルジメチルジシロキサン、メタクリロキシペンタメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリエトキシシリルエチル)テトラメチルジシロキサン、3-アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(2-アミノエチルアミノメチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-カルボキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロ-1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,3-ジエチニルテトラメチルジシロキサン、n-ブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-t-ブチルジシロキサン、1,3-ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3-ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラエトキシ-1,3-ジメチルジシロキサン、ビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、白金-[1,3-ビス(シクロヘキシル)イミダゾール-2-イリデンヘキサクロロジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピル-1-クロロジシロキサン、1,1,1-トリメチル-3,3,3-トリフェニルジシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、3,3-ジフェニルテトラメチルトリシロキサン、3-フェニルヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、n-プロピルヘプタメチルトリシロキサン、1,5-ジエトキシヘキサメチルトリシロキサン、3-エチルヘプタメチルトリシロキサン、3-(テトラヒドロフルフリルオキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(3,3,3-トリフルオロプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,5,5-ペンタフェニル-1,3,5-トリメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、1,1,5,5-テトラフェニル-1,3,3,5-テトラメチルトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、オクタクロロトリシロキサン、3-フェニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン、3-(3-アセトキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(m-ペンタデシルフェノキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、リモネニルトリシロキサン、3-ドデシルヘプタメチルトリシロキサン、3-オクチルヘプタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサン、1,1,1,3,3,5,5-ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサエチル-3-メチルトリシロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、3-トリアコンチルへプタメチルトリシロキサン、3-(3-ヒドロキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロメチルホスホノキシトリシロキサン、3-オクタデシルヘプタメチルトリシロキサン、フルフリルオキシトリシロキサン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン、ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、ジメチルシロキサン-[65~70%(60%プロピレンオキシド/40%エチレンオキシド)]ブロックコポリマー、ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、テトラ-n-プロピルテトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリオクタデシルメチルシロキサン、ヘキサコシル末端ポリジメチルシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ポリ(3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシロキサン)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン、又はトリエチルシロキシ末端ポリジエチルシロキサンを含む、前記<21>に記載の表面処理組成物。
<23> 前記少なくとも1つの添加剤は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸、無水酢酸、過塩素酸、硝酸、硫酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素酸、塩素酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、又はフルオロ硫酸を含む、前記<20>に記載の表面処理組成物。
<24> 少なくとも1つの有機溶媒をさらに含む、前記<20>に記載の表面処理組成物。
<25> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水物、グリコールエーテル、グリコールエーテルアセテート、アルカン、芳香族炭化水素、スルホン、スルホキシド、ケトン、アルデヒド、エステル、ラクタム、ラクトン、アセタール、ヘミアセタール、アルコール、カルボン酸、及びエーテルから成る群より選択される、前記<24>に記載の表面処理組成物。
<26> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水酢酸、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、C 6 -C 16 アルカン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、n-ジブチルエーテル、ジメチルスルホン、スルホラン、ベンジルアルコール、t-ブチルアルコール、t-アミルアルコール、メチルエチルケトン、酢酸、又はイソブチルメチルケトンを含む、前記<24>に記載の表面処理組成物。
<27> 前記少なくとも1つの有機溶媒は、前記表面処理組成物の約3重量%~約95重量%である、前記<24>に記載の表面処理組成物。
<28> 前記表面処理組成物は、実質的に水を含まない、前記<20>に記載の表面処理組成物。
<29> 表面処理層が約50度以上の水接触角を有するように、前記表面処理組成物は表面上に表面処理層を形成する、前記<20>に記載の表面処理組成物。
<30> 表面処理組成物であって、
前記表面処理組成物の約0.1重量%~約99.9重量%の量の少なくとも1つのシロキサン化合物;
スルホン酸及び無水スルホン酸から成る群より選択される化合物を含み、前記表面処理組成物の約0.1重量%~約10重量%の量である少なくとも1つの添加剤;及び
所望に応じて、少なくとも1つの有機溶媒、
から成る、表面処理組成物。
<31> 半導体基板と、
前記半導体基板によって支持された表面処理組成物であって、少なくとも1つのシロキサン化合物、及び0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含有する少なくとも1つの添加剤、を含む表面処理組成物と、
を備えた物品。
<32> 前記半導体基板は、シリコンウェハ、銅ウェハ、二酸化ケイ素ウェハ、窒化ケイ素ウェハ、酸窒化ケイ素ウェハ、炭素ドープ酸化ケイ素ウェハ、SiGeウェハ、又はGaAsウェハである、前記<31>に記載の物品。
<33> 少なくとも1つのシロキサン化合物を含む第一の容器;及び
0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む少なくとも1つの添加剤を含む第二の容器、
を備えたキット。
Claims (36)
- ウェハの表面上に配置されたパターンを有する半導体基板を処理するための方法であって、
前記表面を表面処理組成物と接触させて、表面処理層が50度以上の水接触角を有するように表面処理層を形成することを含み、
前記表面処理組成物は、少なくとも1つのシロキサン化合物、及び0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む少なくとも1つの添加剤を含み、
前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、前記表面処理組成物の20重量%~99.9重量%であり、
前記少なくとも1つの添加剤は、前記表面処理組成物の0.1重量%~10重量%であり、
前記パターンは20nm以下の寸法を有するフィーチャ(Feature)を含む、
方法。 - 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ジシロキサン、オリゴシロキサン、シクロシロキサン、又はポリシロキサンを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラ-n-オクチルジメチルジシロキサン、ビス(ノナフルオロヘキシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-ブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-オクチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサ-n-ブチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、1,1,1,3,3-ペンタメチル-3-アセトキシジシロキサン、1-アリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(ヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3-ジアリルテトラメチルジシロキサン、1
,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシロキサン、(3-クロロプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン、1,1,3,3-テトラビニルジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、ビニルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロイソブチル)テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、1,3-ビス[(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3,3-トリメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-メタクリロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(クロロメチル)テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-1,3-ジエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラフェニルジメチルジシロキサン、メタクリロキシペンタメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリエトキシシリルエチル)テトラメチルジシロキサン、3-アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(2-アミノエチルアミノメチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-カルボキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロ-1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,3-ジエチニルテトラメチルジシロキサン、n-ブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-t-ブチルジシロキサン、1,3-ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3-ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラエトキシ-1,3-ジメチルジシロキサン、ビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、白金-[1,3-ビス(シクロヘキシル)イミダゾール-2-イリデンヘキサクロロジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピル-1-クロロジシロキサン、1,1,1-トリメチル-3,3,3-トリフェニルジシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、3,3-ジフェニルテトラメチルトリシロキサン、3-フェニルヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、n-プロピルヘプタメチルトリシロキサン、1,5-ジエトキシヘキサメチルトリシロキサン、3-エチルヘプタメチルトリシロキサン、3-(テトラヒドロフルフリルオキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(3,3,3-トリフルオロプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,5,5-ペンタフェニル-1,3,5-トリメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、1,1,5,5-テトラフェニル-1,3,3,5-テトラメチルトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、オクタクロロトリシロキサン、3-フェニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン、3-(3-アセトキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(m-ペンタデシルフェノキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、リモネニルトリシロキサン、3-ドデシルヘプタメチルトリシロキサン、3-オクチルヘプタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサン、1,1,1,3,3,5,5-ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサエチル-3-メチルトリシロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、3-トリアコンチルへプタメチルトリシロキサン、3-(3-ヒドロキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロメチルホスホノキシトリシロキサン、3-オクタデシルヘプタメチルトリシロキサン、フルフリルオキシトリシロキサン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン、ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジ
メチルジシロキサン、ジメチルシロキサン-[65~70%(60%プロピレンオキシド/40%エチレンオキシド)]ブロックコポリマー、ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、テトラ-n-プロピルテトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリオクタデシルメチルシロキサン、ヘキサコシル末端ポリジメチルシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ポリ(3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシロキサン)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン、又はトリエチルシロキシ末端ポリジエチルシロキサンを含む、請求項2に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの添加剤は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸、無水酢酸、過塩素酸、硝酸、硫酸、トルエンスルホン酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素酸、塩素酸、又はフルオロ硫酸を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記表面処理組成物は、さらに、少なくとも1つの有機溶媒を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水物、グリコールエーテル、グリコールエーテルアセテート、アルカン、芳香族炭化水素、スルホン、スルホキシド、ケトン、アルデヒド、エステル、ラクタム、ラクトン、アセタール、ヘミアセタール、アルコール、カルボン酸、及びエーテルから成る群より選択される、請求項5に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水酢酸、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、C6-C16アルカン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、n-ジブチルエーテル、ジメチルスルホン、スルホラン、ベンジルアルコール、t-ブチルアルコール、t-アミルアルコール、メチルエチルケトン、酢酸、又はイソブチルメチルケトンを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、前記表面処理組成物の3重量%~75重量%である、請求項5に記載の方法。
- 前記表面処理組成物は実質的に水を含まない、請求項1に記載の方法。
- 前記表面処理組成物は、前記少なくとも1つのシロキサン化合物、前記少なくとも1つの添加剤、及び少なくとも1つの有機溶媒、から成る、請求項1に記載の方法。
- 前記表面を前記表面処理組成物と接触させる前に、前記表面を少なくとも1つの洗浄水溶液と接触させることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの洗浄水溶液は、水、アルコール、水酸化アンモニウム水溶液、塩化水素水溶液、過酸化水素水溶液、有機溶媒、又はこれらの組み合わせを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記表面を前記少なくとも1つの洗浄水溶液と接触させた後、前記表面を前記表面処理組成物と接触させる前に、前記表面を第一のリンス溶液と接触させることをさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 前記表面を前記表面処理組成物と接触させた後、前記表面を第二のリンス溶液と接触させることをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記表面を乾燥することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記表面処理層を除去することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記表面は、SiO2、SiN、TiN、SiOC、SiON、Si、SiGe、Ge、又はWを含む、請求項1に記載の方法。
- 表面処理組成物であって、
前記表面処理組成物の20重量%~99.9重量%の量の少なくとも1つのシロキサン化合物;及び
前記表面処理組成物の0.1重量%~10重量%の量の少なくとも1つの添加剤であって、0以下のpKaを有する酸又はその無水物を含む添加剤、
を含む、
表面処理組成物。 - 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ジシロキサン、オリゴシロキサン、シクロシロキサン、又はポリシロキサンを含む、請求項18に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラ-n-オクチルジメチルジシロキサン、ビス(ノナフルオロヘキシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-ブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-オクチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサ-n-ブチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、1,1,1,3,3-ペンタメチル-3-アセトキシジシロキサン、1-アリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(ヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3-ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシロキサン、(3-クロロプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン、1,1,3,3-テトラビニルジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、ビニルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロイソブチル)テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、1,3-ビス[(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチ
ル-3,3,3-トリメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-メタクリロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(クロロメチル)テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-1,3-ジエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラフェニルジメチルジシロキサン、メタクリロキシペンタメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリエトキシシリルエチル)テトラメチルジシロキサン、3-アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(2-アミノエチルアミノメチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-カルボキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロ-1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,3-ジエチニルテトラメチルジシロキサン、n-ブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-t-ブチルジシロキサン、1,3-ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3-ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラエトキシ-1,3-ジメチルジシロキサン、ビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、白金-[1,3-ビス(シクロヘキシル)イミダゾール-2-イリデンヘキサクロロジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピル-1-クロロジシロキサン、1,1,1-トリメチル-3,3,3-トリフェニルジシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、3,3-ジフェニルテトラメチルトリシロキサン、3-フェニルヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、n-プロピルヘプタメチルトリシロキサン、1,5-ジエトキシヘキサメチルトリシロキサン、3-エチルヘプタメチルトリシロキサン、3-(テトラヒドロフルフリルオキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(3,3,3-トリフルオロプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,5,5-ペンタフェニル-1,3,5-トリメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、1,1,5,5-テトラフェニル-1,3,3,5-テトラメチルトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、オクタクロロトリシロキサン、3-フェニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン、3-(3-アセトキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(m-ペンタデシルフェノキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、リモネニルトリシロキサン、3-ドデシルヘプタメチルトリシロキサン、3-オクチルヘプタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサン、1,1,1,3,3,5,5-ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサエチル-3-メチルトリシロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、3-トリアコンチルへプタメチルトリシロキサン、3-(3-ヒドロキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロメチルホスホノキシトリシロキサン、3-オクタデシルヘプタメチルトリシロキサン、フルフリルオキシトリシロキサン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン、ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、ジメチルシロキサン-[65~70%(60%プロピレンオキシド/40%エチレンオキシド)]ブロックコポリマー、ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、テトラ-n-プロピルテトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリオクタデシルメチルシロキサン、ヘキサコシル末端ポリジメチルシロキサン、デカメチルシクロペンタシロ
キサン、ポリ(3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシロキサン)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン、又はトリエチルシロキシ末端ポリジエチルシロキサンを含む、請求項19に記載の表面処理組成物。 - 前記少なくとも1つの添加剤は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸、無水酢酸、過塩素酸、硝酸、硫酸、トルエンスルホン酸、ヨウ化水素酸、臭化水素酸、塩化水素酸、塩素酸、又はフルオロ硫酸を含む、請求項18に記載の表面処理組成物。
- 少なくとも1つの有機溶媒をさらに含む、請求項18に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水物、グリコールエーテル、グリコールエーテルアセテート、アルカン、芳香族炭化水素、スルホン、スルホキシド、ケトン、アルデヒド、エステル、ラクタム、ラクトン、アセタール、ヘミアセタール、アルコール、カルボン酸、及びエーテルから成る群より選択される、請求項22に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、無水酢酸、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、C6-C16アルカン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、n-ジブチルエーテル、ジメチルスルホン、スルホラン、ベンジルアルコール、t-ブチルアルコール、t-アミルアルコール、メチルエチルケトン、酢酸、又はイソブチルメチルケトンを含む、請求項22に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つの有機溶媒は、前記表面処理組成物の3重量%~75重量%である、請求項22に記載の表面処理組成物。
- 前記表面処理組成物は、実質的に水を含まない、請求項18に記載の表面処理組成物。
- 表面処理層が50度以上の水接触角を有するように、前記表面処理組成物は表面上に表面処理層を形成する、請求項18に記載の表面処理組成物。
- 表面処理組成物であって、
前記表面処理組成物の0.1重量%~96重量%の量の少なくとも1つのシロキサン化合物;
スルホン酸及び無水スルホン酸から成る群より選択される化合物を含み、前記表面処理組成物の0.1重量%~10重量%の量である少なくとも1つの添加剤;及び
少なくとも1つのカルボン酸又は無水物、
を含み、
前記少なくとも1つのカルボン酸又は無水物は、前記表面処理組成物の3重量%~95重量%であり、且つ、酢酸又は無水酢酸を含む、又は、
前記少なくとも1つのカルボン酸又は無水物は、前記表面処理組成物の50重量%~95重量%である、
表面処理組成物。 - 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3-ジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラ-n-オクチルジメチルジシロキサン、ビス(ノナフルオロヘキシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-ブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-n-オクチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジ
シロキサン、ヘキサ-n-ブチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、1,1,1,3,3-ペンタメチル-3-アセトキシジシロキサン、1-アリル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(ヘプタデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロデシル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3-ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシロキサン、(3-クロロプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン、1,1,3,3-テトラビニルジメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、ビニルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロイソブチル)テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、1,3-ビス[(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、1,1,1-トリエチル-3,3,3-トリメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-メタクリロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(クロロメチル)テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-1,3-ジエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラフェニルジメチルジシロキサン、メタクリロキシペンタメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-クロロプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(トリエトキシシリルエチル)テトラメチルジシロキサン、3-アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、1,3-ビス(2-アミノエチルアミノメチル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(3-カルボキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロ-1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、1,3-ジエチニルテトラメチルジシロキサン、n-ブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジ-t-ブチルジシロキサン、1,3-ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3-ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,1,3,3-テトラエトキシ-1,3-ジメチルジシロキサン、ビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、白金-[1,3-ビス(シクロヘキシル)イミダゾール-2-イリデンヘキサクロロジシロキサン、1,1,3,3-テトライソプロピル-1-クロロジシロキサン、1,1,1-トリメチル-3,3,3-トリフェニルジシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、3,3-ジフェニルテトラメチルトリシロキサン、3-フェニルヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、n-プロピルヘプタメチルトリシロキサン、1,5-ジエトキシヘキサメチルトリシロキサン、3-エチルヘプタメチルトリシロキサン、3-(テトラヒドロフルフリルオキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(3,3,3-トリフルオロプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,5,5-ペンタフェニル-1,3,5-トリメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、1,1,5,5-テトラフェニル-1,3,3,5-テトラメチルトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、オクタクロロトリシロキサン、3-フェニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,1,3,5,5-ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリビニル-1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン、3-(3-アセトキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、3-(m-ペンタデシルフェノキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、リモネニルトリシロキサン、3-ドデシルヘプタメチルトリシロキサン、3-オクチルヘプタメチルトリシロキサン、1,3,5-トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサン、1,1,1,3,3,5,5-ヘプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,5,5,5-ヘキサエチル-3-メチルトリシロキサン、
1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、3-トリアコンチルへプタメチルトリシロキサン、3-(3-ヒドロキシプロピル)ヘプタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロメチルホスホノキシトリシロキサン、3-オクタデシルヘプタメチルトリシロキサン、フルフリルオキシトリシロキサン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルテトラシロキサン、ジフェニルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー、1,3-ジフェニル-1,3-ジメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,3-ビス(トリメチルシロキシ)-1,3-ジメチルジシロキサン、ジメチルシロキサン-[65~70%(60%プロピレンオキシド/40%エチレンオキシド)]ブロックコポリマー、ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、テトラ-n-プロピルテトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリオクタデシルメチルシロキサン、ヘキサコシル末端ポリジメチルシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ポリ(3,3,3-トリフルオロプロピルメチルシロキサン)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-デカメチルペンタシロキサン、又はトリエチルシロキシ末端ポリジエチルシロキサンを含む、請求項28に記載の表面処理組成物。 - 前記少なくとも1つのシロキサン化合物は、前記表面処理組成物の0.1重量%~55重量%である、請求項28に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つの添加剤は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸、又はトルエンスルホン酸を含む、請求項28に記載の表面処理組成物。
- 前記少なくとも1つの添加剤は、前記表面処理組成物の0.1重量%~5重量%である、請求項28に記載の表面処理組成物。
- 前記表面処理組成物は、実質的に水を含まない、請求項28に記載の表面処理組成物。
- 表面処理層が50度以上の水接触角を有するように、前記表面処理組成物は表面上に表面処理層を形成する、請求項28に記載の表面処理組成物。
- 半導体基板と、
前記半導体基板によって支持された請求項18~34のいずれか1項に記載の表面処理組成物と、
を備えた半導体物品。 - 前記半導体基板は、シリコンウェハ、銅ウェハ、二酸化ケイ素ウェハ、窒化ケイ素ウェハ、酸窒化ケイ素ウェハ、炭素ドープ酸化ケイ素ウェハ、SiGeウェハ、又はGaAsウェハである、請求項35に記載の半導体物品。
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