JP2002343847A - ウェハ搬送装置 - Google Patents
ウェハ搬送装置Info
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- JP2002343847A JP2002343847A JP2001149013A JP2001149013A JP2002343847A JP 2002343847 A JP2002343847 A JP 2002343847A JP 2001149013 A JP2001149013 A JP 2001149013A JP 2001149013 A JP2001149013 A JP 2001149013A JP 2002343847 A JP2002343847 A JP 2002343847A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- arm
- constant temperature
- temperature chamber
- transfer device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ウェハ26を搬送するウェハ搬送装置におい
て、ウェハ26面内の温度分布を均一に保ちウェハを搬
送させる。 【解決手段】ウェハ26を収納し温度制御板2である温
調機能付き恒温室1を軌道部22を走行する移動機構2
1上に設け、受け取ったレジスト27付きウェハ26の
温度を維持し搬送し、搬送経路途中の環境温度に影響さ
れずウェハ26面内の温度分布を均一に保つ。
て、ウェハ26面内の温度分布を均一に保ちウェハを搬
送させる。 【解決手段】ウェハ26を収納し温度制御板2である温
調機能付き恒温室1を軌道部22を走行する移動機構2
1上に設け、受け取ったレジスト27付きウェハ26の
温度を維持し搬送し、搬送経路途中の環境温度に影響さ
れずウェハ26面内の温度分布を均一に保つ。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板である
ウェハを載置し次工程に搬送するウェハ搬送装置に関
し、特に、一主面にレジストが塗布されたウェハを搬送
するウェハ搬送装置に関する。
ウェハを載置し次工程に搬送するウェハ搬送装置に関
し、特に、一主面にレジストが塗布されたウェハを搬送
するウェハ搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レジストが塗布されたウェハは、
次工程であるポストベ−クあるいは露光工程などの工程
にウェハ搬送装置によって搬送されていた。また、これ
ら工程では製造設備が一枚づつウェハを処理する枚葉式
処理装置であるため、ウェハは一枚づつ搬送されてい
た。
次工程であるポストベ−クあるいは露光工程などの工程
にウェハ搬送装置によって搬送されていた。また、これ
ら工程では製造設備が一枚づつウェハを処理する枚葉式
処理装置であるため、ウェハは一枚づつ搬送されてい
た。
【0003】図5は従来の一例におけるウェハ搬送装置
を示す図である。従来、この種のウェハ搬送装置は、例
えば、図5に示すように、キャリアからウェハ26が移
載されたア−ム25と、ウェハ26の一主面にレジスト
27が塗布されたウェハ26を載置されたア−ム24
と、これらア−ム24,25を移載時に伸縮させるア−
ム駆動機構23と、ア−ム駆動機構23を軌道22に案
内され移動さえる移動機構21とを備えている。
を示す図である。従来、この種のウェハ搬送装置は、例
えば、図5に示すように、キャリアからウェハ26が移
載されたア−ム25と、ウェハ26の一主面にレジスト
27が塗布されたウェハ26を載置されたア−ム24
と、これらア−ム24,25を移載時に伸縮させるア−
ム駆動機構23と、ア−ム駆動機構23を軌道22に案
内され移動さえる移動機構21とを備えている。
【0004】そして、このウェハ搬送装置は、ウェハが
収納されたキャリアのあるステ−ジに停止し、ア−ム2
5を伸ばしキャリアから一枚のウェハ26を取り出しア
−ム25に載せる。ア−ム25が縮み、ウェハ搬送装置
は軌道部22を走行し、レジスト塗布装置の前で停止す
る。
収納されたキャリアのあるステ−ジに停止し、ア−ム2
5を伸ばしキャリアから一枚のウェハ26を取り出しア
−ム25に載せる。ア−ム25が縮み、ウェハ搬送装置
は軌道部22を走行し、レジスト塗布装置の前で停止す
る。
【0005】レジスト塗布装置から引き出されたレジス
ト27塗布済みのウェハ26は、伸ばされたア−ム24
に移載され、ア−ム24が縮み移動機構21上にア−ム
24が停留する。一方、ア−ム25はア−ム駆動機構2
3により伸ばされレジスト塗布装置のステ−ジに未処理
のウェハ26を移載する。
ト27塗布済みのウェハ26は、伸ばされたア−ム24
に移載され、ア−ム24が縮み移動機構21上にア−ム
24が停留する。一方、ア−ム25はア−ム駆動機構2
3により伸ばされレジスト塗布装置のステ−ジに未処理
のウェハ26を移載する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たウェハ搬送装置では、レジストが塗布されたウェハが
運搬中にその温度が変化し、ウェハの面内温度分布にば
らつきを生じ、レジスト膜厚の均一性を悪化させるとい
う問題があった。
たウェハ搬送装置では、レジストが塗布されたウェハが
運搬中にその温度が変化し、ウェハの面内温度分布にば
らつきを生じ、レジスト膜厚の均一性を悪化させるとい
う問題があった。
【0007】また、室内が常温であっても、レジストが
塗布されていないウェハは、運搬中にウェハの温度が変
化しウェハ面内の温度分布が一様ではなくなる。従っ
て、レジスト塗布装置において、レジストの滴下後の濡
れ性にばらつきがあり一様の厚さのレジスト膜が得られ
ないという問題がある。
塗布されていないウェハは、運搬中にウェハの温度が変
化しウェハ面内の温度分布が一様ではなくなる。従っ
て、レジスト塗布装置において、レジストの滴下後の濡
れ性にばらつきがあり一様の厚さのレジスト膜が得られ
ないという問題がある。
【0008】従って、本発明の目的は、ウェハ面内の温
度分布を均一に保ちウェハを搬送できるウェハ搬送装置
を提供することにある。
度分布を均一に保ちウェハを搬送できるウェハ搬送装置
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、表面に
レジストが塗布されたウェハを載置するア−ムと、前記
ア−ムを伸縮するア−ム駆動機構と、扉を開閉して前記
ウェハを載置する前記ア−ムを引き込み前記ア−ムと前
記ウェハを収納するとともに室内の温度を所望の温度に
維持する恒温室と、この恒温室を搬送する搬送機構とを
備えるウェハ搬送装置とを備えるウェハ搬送装置であ
る。
レジストが塗布されたウェハを載置するア−ムと、前記
ア−ムを伸縮するア−ム駆動機構と、扉を開閉して前記
ウェハを載置する前記ア−ムを引き込み前記ア−ムと前
記ウェハを収納するとともに室内の温度を所望の温度に
維持する恒温室と、この恒温室を搬送する搬送機構とを
備えるウェハ搬送装置とを備えるウェハ搬送装置であ
る。
【0010】また、前記ア−ムとは別に未処理のウェハ
を載置し前記恒温室から他の扉を開いて前記未処理のウ
ェハを搬出入する他のア−ムを備えることが望ましい。
さらに、前記ア−ムを収納する前記恒温室と前記他のア
−ムを収納する前記恒温室とを仕切る断熱部材を備える
ことが望ましい。
を載置し前記恒温室から他の扉を開いて前記未処理のウ
ェハを搬出入する他のア−ムを備えることが望ましい。
さらに、前記ア−ムを収納する前記恒温室と前記他のア
−ムを収納する前記恒温室とを仕切る断熱部材を備える
ことが望ましい。
【0011】一方、好ましくは、前記ア−ムと前記他の
ア−ムとが上下に配置されてることである。また、前記
ア−ムが収納される部屋と前記他のア−ムが収納される
部屋とに前記恒温室を分割し、これらの部屋の温度を独
立して温度制御する手段を備えることが望ましい。さら
に、前記恒温室の高さを調節する高さ調節機構を備える
ことが望ましい。
ア−ムとが上下に配置されてることである。また、前記
ア−ムが収納される部屋と前記他のア−ムが収納される
部屋とに前記恒温室を分割し、これらの部屋の温度を独
立して温度制御する手段を備えることが望ましい。さら
に、前記恒温室の高さを調節する高さ調節機構を備える
ことが望ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【0013】図1(a)および(b)は本発明の一実施
の形態におけるウェハ搬送装置を説明するための構成を
示す図である。このウェハ搬送装置は、図1に示すよう
に、表面にレジスト27が塗布されたウェハ26を載置
するア−ム24と、ア−ム24,25を伸縮するア−ム
駆動機構23と、扉3a,3bを開閉してウェハ26を
載置するア−ム24,25を引き込みア−ム24,25
とウェハ26およびレジストが塗布されたウェハ26を
収納する恒温室1と、この恒温室1室内の温度を制御し
所望の温度に維持する温度制御板2と、恒温室1を搬送
する搬送機構である軌道部22および移動機構21とを
備えている。
の形態におけるウェハ搬送装置を説明するための構成を
示す図である。このウェハ搬送装置は、図1に示すよう
に、表面にレジスト27が塗布されたウェハ26を載置
するア−ム24と、ア−ム24,25を伸縮するア−ム
駆動機構23と、扉3a,3bを開閉してウェハ26を
載置するア−ム24,25を引き込みア−ム24,25
とウェハ26およびレジストが塗布されたウェハ26を
収納する恒温室1と、この恒温室1室内の温度を制御し
所望の温度に維持する温度制御板2と、恒温室1を搬送
する搬送機構である軌道部22および移動機構21とを
備えている。
【0014】なお、恒温室1は内壁はステンレス鋼板で
内張りされ、断熱材を介して鋼板で外装されている。ま
た恒温室1の後壁には、複数のヒ−タエレメント2aお
よび冷媒体2bが埋設された温度制御板2が設けられて
いる。ヒ−タエレメント2aは、図示していない電流制
御コントロ−ラに接続され、冷媒体2bは冷却管の冷媒
液の温度を制御する図示してないコントロ−ラに接続さ
れている。そして、温度センサ5からの信号により電流
制御コントロ−ラおよび冷媒体コントロ−ラを制御し、
恒温室1内を所望の温度に維持する。
内張りされ、断熱材を介して鋼板で外装されている。ま
た恒温室1の後壁には、複数のヒ−タエレメント2aお
よび冷媒体2bが埋設された温度制御板2が設けられて
いる。ヒ−タエレメント2aは、図示していない電流制
御コントロ−ラに接続され、冷媒体2bは冷却管の冷媒
液の温度を制御する図示してないコントロ−ラに接続さ
れている。そして、温度センサ5からの信号により電流
制御コントロ−ラおよび冷媒体コントロ−ラを制御し、
恒温室1内を所望の温度に維持する。
【0015】恒温室1を取り付けるステ−ジ4は、ア−
ム24,25の位置を制御するためにXおよびY方向に
移動できるとともに高さ方向にも移動できる。このこと
によりウェハ受け渡し治具の位置がレジスト塗布装置や
露光装置によって変わっても、ステ−ジ4の位置調整で
ア−ム24,25が対応できる。
ム24,25の位置を制御するためにXおよびY方向に
移動できるとともに高さ方向にも移動できる。このこと
によりウェハ受け渡し治具の位置がレジスト塗布装置や
露光装置によって変わっても、ステ−ジ4の位置調整で
ア−ム24,25が対応できる。
【0016】次に、このウェハ搬送装置の動作について
説明する。予め常温(25℃)に保たれた恒温室をウェ
ハの複数枚を収納した保管箱から一枚取り出したウェハ
26をア−ム25に移載する。そして、ア−ム25が後
退し、ウェハ26を載置したア−ム25は恒温室に収納
されると同時に扉3bが閉じる。この状態は図1(a)
に示す。そして、移動機構21により軌道部22上を走
行し、レジスト塗布装置の前で停止する。
説明する。予め常温(25℃)に保たれた恒温室をウェ
ハの複数枚を収納した保管箱から一枚取り出したウェハ
26をア−ム25に移載する。そして、ア−ム25が後
退し、ウェハ26を載置したア−ム25は恒温室に収納
されると同時に扉3bが閉じる。この状態は図1(a)
に示す。そして、移動機構21により軌道部22上を走
行し、レジスト塗布装置の前で停止する。
【0017】このレジスト塗布装置の前に移動した恒温
室1内のウェハ26は常温にたもたれた状態である。例
えば、保管箱のウェハの表面温度が23℃であったとす
ると、恒温室1に入れてからの経過時間によりウェハの
温度が決まるので、停止時間および移動時間をウェハが
25℃になるように予め決めておくことが望ましい。
室1内のウェハ26は常温にたもたれた状態である。例
えば、保管箱のウェハの表面温度が23℃であったとす
ると、恒温室1に入れてからの経過時間によりウェハの
温度が決まるので、停止時間および移動時間をウェハが
25℃になるように予め決めておくことが望ましい。
【0018】次に、図1(b)に示すように、扉3aを
開きア−ム24を伸ばし、レジスト27が塗布されたウ
ェハ26をア−ム24に移載し、ア−ム24を後退させ
レジスト27付きウェハ26を恒温室1に収納すると同
時に扉3aを閉じる。
開きア−ム24を伸ばし、レジスト27が塗布されたウ
ェハ26をア−ム24に移載し、ア−ム24を後退させ
レジスト27付きウェハ26を恒温室1に収納すると同
時に扉3aを閉じる。
【0019】次に、ステ−ジ4が上昇し、ア−ム25の
高さがレジスト塗布装置の受け渡し位置に対応するよう
に高くする。そして、扉3bが開きア−ム25が前進し
ウェハ26をレジスト塗布装置の受け渡し部に移載す
る。空になったア−ム25が後退しア−ム25が恒温室
1に収納されると同時に扉3bが閉じる。
高さがレジスト塗布装置の受け渡し位置に対応するよう
に高くする。そして、扉3bが開きア−ム25が前進し
ウェハ26をレジスト塗布装置の受け渡し部に移載す
る。空になったア−ム25が後退しア−ム25が恒温室
1に収納されると同時に扉3bが閉じる。
【0020】そして、レジスト27が塗布されたウェハ
26は恒温室内の温度により温度分布が均一になり、レ
ジストの表面から水分の蒸発量が一定となりレジストの
厚さが一定になる。この状態になる頃、恒温室1は露光
装置の前で停車し、扉3aが開きア−ム24が前進し露
光装置の受け渡し部へレジスト付きウェハ26を移載す
る。移載が完了した空のア−ム24は後退し恒温室1に
収納されると同時に扉3aが閉じる。
26は恒温室内の温度により温度分布が均一になり、レ
ジストの表面から水分の蒸発量が一定となりレジストの
厚さが一定になる。この状態になる頃、恒温室1は露光
装置の前で停車し、扉3aが開きア−ム24が前進し露
光装置の受け渡し部へレジスト付きウェハ26を移載す
る。移載が完了した空のア−ム24は後退し恒温室1に
収納されると同時に扉3aが閉じる。
【0021】もし、露光装置の受け渡しステ−ジに露光
済みのウェハが有れば、ステ−ジ4が上昇し、ア−ム2
5の高さが露光装置の受け渡し位置に対応するように高
くする。そして、扉3bが開きア−ム25が前進し露光
装置の受け渡し部から露光済みのウェハをア−ム25に
移載する。そして、ア−ム25が後退しア−ム25が恒
温室1に収納されると同時に扉3bが閉じる。
済みのウェハが有れば、ステ−ジ4が上昇し、ア−ム2
5の高さが露光装置の受け渡し位置に対応するように高
くする。そして、扉3bが開きア−ム25が前進し露光
装置の受け渡し部から露光済みのウェハをア−ム25に
移載する。そして、ア−ム25が後退しア−ム25が恒
温室1に収納されると同時に扉3bが閉じる。
【0022】次に、露光済みウェハを収納した恒温室1
は、現像装置の前に移動し、扉3bを開きア−ム25が
前進し現像装置の受け渡し部に露光済みウェハを移載す
る。空になったア−ム25は後退し恒温室1に収納され
ると同時に扉3bが閉じる。空になった恒温室1は原点
であるウェハ保管箱の位置へ移動する。
は、現像装置の前に移動し、扉3bを開きア−ム25が
前進し現像装置の受け渡し部に露光済みウェハを移載す
る。空になったア−ム25は後退し恒温室1に収納され
ると同時に扉3bが閉じる。空になった恒温室1は原点
であるウェハ保管箱の位置へ移動する。
【0023】一方、レジスト塗布装置に渡されたウェハ
は、その表面温度が一定に維持されウェハ面内の温度分
布が均一であるので、滴下されたレジストが回転遠心力
でウェハ面内に一様に流れ膜厚を一定にすることができ
る。その他の利点は、常に、ウェハは恒温室1に入れら
れているので、空気中に浮遊するパ−ティクルの付着が
皆無となる。
は、その表面温度が一定に維持されウェハ面内の温度分
布が均一であるので、滴下されたレジストが回転遠心力
でウェハ面内に一様に流れ膜厚を一定にすることができ
る。その他の利点は、常に、ウェハは恒温室1に入れら
れているので、空気中に浮遊するパ−ティクルの付着が
皆無となる。
【0024】図2は図1の恒温室の変形例を示す図であ
る。このウェハ搬送装置は、図2に示すように、恒温室
1内の空気の対流を促進させるために風速発生装置7a
および7bを設けている。この風速発生装置7a,7b
を設けることによって、恒温室1内の温度分布が一定に
なり所望の温度に上昇し早く達成できるという利点があ
る。
る。このウェハ搬送装置は、図2に示すように、恒温室
1内の空気の対流を促進させるために風速発生装置7a
および7bを設けている。この風速発生装置7a,7b
を設けることによって、恒温室1内の温度分布が一定に
なり所望の温度に上昇し早く達成できるという利点があ
る。
【0025】なお、このウェハ搬送装置は、動作は前述
のウェハ搬送装置と同じであるが、扉3aおよび扉3b
を開けるとき、風速発生装置7a,7bは停止すること
が望ましい。この風速発生装置は、市販の換気扇で済
む。
のウェハ搬送装置と同じであるが、扉3aおよび扉3b
を開けるとき、風速発生装置7a,7bは停止すること
が望ましい。この風速発生装置は、市販の換気扇で済
む。
【0026】図3はウェハ搬送装置の変形例を示す図で
ある。このウェハ搬送装置は、図3に示すように、高温
状態のレジスト27付きウエハ26が他のウェハ26に
温度影響を受けないように、恒温室1内の上下のア−ム
24およびア−ム25の間を仕切る断熱部材6を設けて
いる。
ある。このウェハ搬送装置は、図3に示すように、高温
状態のレジスト27付きウエハ26が他のウェハ26に
温度影響を受けないように、恒温室1内の上下のア−ム
24およびア−ム25の間を仕切る断熱部材6を設けて
いる。
【0027】この断熱部材6は、その外表面を薄いステ
ンレス鋼板で製作しケ−ス状にし、このケ−スの内部に
グラスウ−ルを詰め込むことが望ましい。また、この断
熱部材6で仕切られているので、風速発生装置7aおよ
び7bは仕切られた恒温室1の各室に設けることが望ま
しい。
ンレス鋼板で製作しケ−ス状にし、このケ−スの内部に
グラスウ−ルを詰め込むことが望ましい。また、この断
熱部材6で仕切られているので、風速発生装置7aおよ
び7bは仕切られた恒温室1の各室に設けることが望ま
しい。
【0028】図4は本発明の他の実施の形態におけるウ
ェハ搬送装置を説明するための構成を示す図である。こ
のウェハ搬送装置は、図4に示すように、ア−ム駆動機
構23を挟むように上下に恒温室1aおよび恒温室1b
を独立して設けている。すなわち、それぞれの温度制御
板8および温度制御板9により独立してそれぞれの恒温
室1a内の温度と恒温室1b内の温度とを異なる温度に
維持できる。
ェハ搬送装置を説明するための構成を示す図である。こ
のウェハ搬送装置は、図4に示すように、ア−ム駆動機
構23を挟むように上下に恒温室1aおよび恒温室1b
を独立して設けている。すなわち、それぞれの温度制御
板8および温度制御板9により独立してそれぞれの恒温
室1a内の温度と恒温室1b内の温度とを異なる温度に
維持できる。
【0029】こように異なる温度に維持できる恒温室1
a,1bあれば、例えば、高温にされたレジスト27付
きウェハ26はア−ム24で恒温室1a内に収納され、
ウェハ26面内の温度分布が一様でかつ高温の状態で次
工程に搬送される。従って、ウェハ26のレジスト27
の厚みは均一になる。
a,1bあれば、例えば、高温にされたレジスト27付
きウェハ26はア−ム24で恒温室1a内に収納され、
ウェハ26面内の温度分布が一様でかつ高温の状態で次
工程に搬送される。従って、ウェハ26のレジスト27
の厚みは均一になる。
【0030】一方、下にある恒温室1bのア−ム25上
のウェハ26は、常温に維持され次工程であるレジスト
塗布装置に引き渡される。このように、温調機能をもつ
恒温室内にウェハを収納し、製造装置間を搬送するの
で、搬送経路途中の温度が変化しても、ウェハの温度は
一定に維持することができる。
のウェハ26は、常温に維持され次工程であるレジスト
塗布装置に引き渡される。このように、温調機能をもつ
恒温室内にウェハを収納し、製造装置間を搬送するの
で、搬送経路途中の温度が変化しても、ウェハの温度は
一定に維持することができる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェハを
収納し温調機能付き恒温室を搬送機構に設け、受け取っ
たウェハの温度を維持し搬送するので、搬送経路途中の
環境温度に影響されずウェハ面内の温度分布を均一に保
ち得て、レジストの膜厚を一様にでき品質の向上が図れ
るという効果がある。
収納し温調機能付き恒温室を搬送機構に設け、受け取っ
たウェハの温度を維持し搬送するので、搬送経路途中の
環境温度に影響されずウェハ面内の温度分布を均一に保
ち得て、レジストの膜厚を一様にでき品質の向上が図れ
るという効果がある。
【0032】また、二枚のウェハを独立して収納できる
構造に恒温室を構成することで、ウェハの受け渡しが同
時にでき搬送効率の向上する。
構造に恒温室を構成することで、ウェハの受け渡しが同
時にでき搬送効率の向上する。
【図1】本発明の一実施の形態におけるウェハ搬送装置
を説明するための構成を示す図である。
を説明するための構成を示す図である。
【図2】図1の恒温室の変形例を示す図である。
【図3】ウェハ搬送装置の変形例を示す図である。
【図4】本発明の他の実施の形態におけるウェハ搬送装
置を説明するための構成を示す図である。
置を説明するための構成を示す図である。
【図5】従来の一例におけるウェハ搬送装置を示す図で
ある。
ある。
1,1a,1b 恒温室 2,8,9 温度制御板 3a,3b 扉 4 ステ−ジ 5 温度センサ 6 断熱部材 7,7a,7b 風速発生装置 21 移動機構 22 軌道部 23 ア−ム駆動機構 24,25 ア−ム 26 ウェハ 27 レジスト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/30 503E
Claims (7)
- 【請求項1】 表面にレジストが塗布されたウェハを載
置するア−ムと、前記ア−ムを伸縮するア−ム駆動機構
と、扉を開閉して前記ウェハを載置する前記ア−ムを引
き込み前記ア−ムと前記ウェハを収納するとともに室内
の温度を所望の温度に維持する恒温室と、この恒温室を
搬送する搬送機構とを備えることを特徴とするウェハ搬
送装置。 - 【請求項2】 前記ア−ムとは別に未処理のウェハを載
置し前記恒温室から他の扉を開いて前記未処理のウェハ
を搬出入する他のア−ムを備えることを特徴とする請求
項1記載のウェハ搬送装置。 - 【請求項3】 前記恒温室内の空気の対流をもたらす風
速発生装置を備えることを特徴とする請求項1または請
求項2記載のウェハ搬送装置。 - 【請求項4】 前記ア−ムを収納する前記恒温室と前記
他のア−ムを収納する前記恒温室とを仕切る断熱部材を
備えることを特徴とする請求項1、請求項2または請求
項3記載のウェハ搬送装置。 - 【請求項5】 前記ア−ムと前記他のア−ムとが上下に
配置されてることを特徴とする請求項2、請求項3また
は請求項4記載のウェハ搬送装置。 - 【請求項6】 前記ア−ムが収納される部屋と前記他の
ア−ムが収納される部屋とに前記恒温室を分割し、これ
らの部屋の温度を独立して温度制御する手段を備えるこ
とを特徴とする請求項2、請求項3または請求項5記載
のウェハ搬送装置。 - 【請求項7】 前記恒温室の高さを調節する高さ調節機
構を備えることを特徴とする請求項1、請求項2、請求
項3、請求項4または請求項5記載のウェハ搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001149013A JP2002343847A (ja) | 2001-05-18 | 2001-05-18 | ウェハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001149013A JP2002343847A (ja) | 2001-05-18 | 2001-05-18 | ウェハ搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2002343847A true JP2002343847A (ja) | 2002-11-29 |
Family
ID=18994236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001149013A Pending JP2002343847A (ja) | 2001-05-18 | 2001-05-18 | ウェハ搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002343847A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010157630A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-07-15 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2011035103A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置及び処理システム |
US8989899B2 (en) | 2012-01-13 | 2015-03-24 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Transfer system |
JP7307240B1 (ja) | 2022-06-30 | 2023-07-11 | 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 | 真空ウエーハ搬送システム |
JP7307241B1 (ja) | 2022-06-30 | 2023-07-11 | 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 | 基板自動搬送装置 |
-
2001
- 2001-05-18 JP JP2001149013A patent/JP2002343847A/ja active Pending
Cited By (7)
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JP2024006122A (ja) * | 2022-06-30 | 2024-01-17 | 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 | 基板自動搬送装置 |
JP2024006121A (ja) * | 2022-06-30 | 2024-01-17 | 蘇州芯慧聯半導体科技有限公司 | 真空ウエーハ搬送システム |
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