JP7307045B2 - 光モジュール - Google Patents

Description

本発明は、光モジュールに関する。

従来、光モジュールは、レーザ光を受光する受光素子を金属部品によって覆うことによって、パッケージ内で発生する迷光が受光素子に受光されることを抑制する技術が知られている（特許文献１参照）。

特開２００５－１９７４６号公報

しかしながら、上述した特許文献１では、迷光を抑制するため、受光素子を金属部品によって完全に覆う必要があるため、光モジュールの構造が複雑化するという問題点があった。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、簡易な構造で迷光を抑制することができる光モジュールを提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る光モジュールは、光学部品と、光学部品を介してレーザ光を受光する受光素子と、をパッケージ内に収容した光モジュールであって、前記レーザ光および前記光学部品を介して出射される前記レーザ光の少なくとも一方が前記パッケージ内または前記光学部品で反射または散乱することによって生じる迷光が前記受光素子に入射することを抑制する遮蔽部を備えることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光学部品に向けて前記レーザ光を出射する発光素子をさらに備えることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記レーザ光は、外部光源から出射され、当該光モジュールに入射することを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、光反射体、光散乱体または光吸収体によって構成されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、前記光学部品の表面に配置されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光学部品は、前記パッケージ内に複数設けられ、前記遮蔽部は、複数の前記光学部品の中で前記発光素子が出射する前記レーザ光の光路中において最も前記発光素子に近い位置に配置された第１の光学部品と、前記受光素子との間に配置されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記第１の光学部品は、レンズであることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、複数の前記光学部品の中から前記第１の光学部品を除いた他の前記光学部品の少なくとも１つと、前記受光素子との間にさらに配置されていることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、前記レーザ光の光路を除く前記光学部品の表面に配置されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光学部品、前記発光素子および前記受光素子が載置されるベース部をさらに備え、前記遮蔽部は、少なくとも前記発光素子と前記受光素子とを結ぶ直線上における前記ベース部の位置に***させて壁状に形成されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、前記レーザ光の光路を除く前記光学部品の表面を覆うように樹脂を塗布して形成されることを形成されることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光学部品は、レンズ、ビームスプリッタ、ミラー、光アイソレータ、エタロンフィルタ、波長検出用フィルタおよび導波路素子のいずれか１つ以上を含むことを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光反射体は、金属コーティング膜であることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光反射体は、誘電体多層膜であることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光反射体は、鏡面処理された反射部材であることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記光散乱体または前記光吸収体は、遮光性の樹脂であることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮光性の樹脂は、フィラー粒子を有し、前記フィラー粒子は、０．１～５００μｍであることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、表面が凹凸に形成されていることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、前記遮蔽部は、無電界ニッケルメッキ処理またはレイデント処理が施されて形成されていることを特徴とする。

また、本開示に係る光モジュールは、当該光モジュールは、波長帯域が９００～１６５０ｎｍであることを特徴とする。

本発明によれば、簡易な構造で迷光を抑制することができるという効果を奏する。

図１は、実施形態１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２は、実施形態１の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３は、実施形態１の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４は、実施形態２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５は、実施形態２の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６は、実施形態２の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７は、実施形態２の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８は、実施形態３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図９は、実施形態３の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１０は、実施形態３の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１１は、実施形態３の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１２は、実施形態４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１３は、実施形態４の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１４は、実施形態４の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１５は、実施形態４の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１６は、実施形態５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１７は、実施形態５の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１８は、実施形態５の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図１９は、実施形態５の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２０は、実施形態５の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２１は、実施形態５の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２２は、実施形態６に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２３は、実施形態６の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２４は、実施形態６の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２５は、実施形態６の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２６は、実施形態７に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２７は、実施形態７の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２８は、実施形態７の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図２９は、実施形態７の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３０は、実施形態８に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３１は、実施形態８の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３２は、実施形態８の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３３は、実施形態８の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３４は、実施形態９に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３５は、実施形態９の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３６は、実施形態９の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３７は、実施形態９の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３８は、実施形態１０に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図３９は、実施形態１０の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４０は、実施形態１０の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４１は、実施形態１１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４２は、実施形態１１の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４３は、実施形態１１の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４４は、実施形態１１の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４５は、実施形態１２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４６は、実施形態１２の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４７は、実施形態１２の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４８は、実施形態１２の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図４９は、実施形態１３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５０は、実施形態１３の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５１は、実施形態１３の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５２は、実施形態１３の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５３は、実施形態１４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５４は、実施形態１４の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５５は、実施形態１４の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５６は、実施形態１４の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５７は、実施形態１５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５８は、実施形態１５の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図５９は、実施形態１５の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６０は、実施形態１５の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６１は、実施形態１６に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６２は、実施形態１６の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６３は、実施形態１６の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６４は、実施形態１６の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６５は、実施形態１７に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６６は、実施形態１７の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６７は、実施形態１７の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６８は、実施形態１７の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図６９は、実施形態１８に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７０は、実施形態１８の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す図である。 図７１は、実施形態１８の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す図である。 図７２Ａは、実施形態１８の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７２Ｂは、実施形態１８の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７２Ｃは、実施形態１８の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７３は、実施形態１９に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７４は、実施形態１９に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。 図７５は、実施形態１９の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７６は、実施形態２０に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７７は、実施形態２０の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７８は、実施形態２０の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図７９は、実施形態２０の変形例２に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。 図８０Ａは、実施形態２０の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８０Ｂは、実施形態２０の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８０Ｃは、実施形態２０の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８０Ｄは、実施形態２０の変形例５に係る別の光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８１は、実施形態２１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８２は、実施形態２１に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。 図８３は、実施形態２１の変形例１に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。 図８４は、実施形態２１の変形例２に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。 図８５は、実施形態２２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。 図８６は、実施形態２２に係る光モジュールの遮蔽部の断面を模式的に示す図である。

以下、図面を参照して実施形態について説明する。なお、この実施形態により、この発明が限定されるものではない。また、図面の記載において、同一または対応する要素には、適宜同一の符号を付し、重複説明を適宜省略する。また、図面は、模式的なものであり、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は、現実と異なる場合があることに留意する必要がある。さらに、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。

（実施形態１）
〔光モジュールの構成〕
図１は、実施形態１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１に示す光モジュール１０１は、マウントして機能するベース部２と、発光素子３００と、レンズ４００と、光ファイバ５００と、受光素子６００と、遮蔽部７００と、を備える。なお、光モジュール１０１は、図示しないペルチェ素子等の温度調節器を介して各光学部材が図示しないパッケージ内に収容される。さらに、図示しない制御器は、温度調節器に駆動電流を供給することによって、発光素子３００の温度を調節する。

ベース部２は、矩形状をなす。ベース部２は、発光素子３００と、レンズ４００と、光ファイバ５００と、受光素子６００と、遮蔽部７００と、が載置される。ベース部２は、図示しないペルチェ素子等の温度調節器を介して図示しないパッケージ内に収容される。さらに、図示しない制御器は、温度調節器に駆動電流を供給することによって、発光素子３００の温度を調節する。

発光素子３００は、レーザ光Ｌ１およびレーザ光Ｌ２の各々を出射する。例えば発光素子３００は、半導体レーザ素子を用いて構成される。また、発光素子３００は、固定波長のレーザまたは波長可変レーザであっても良いし、ＦＰレーザ、ＤＦＢレーザおよびＤＲレーザ等であって良いし、もちろん複数のレーザがカプラで結合されたり、ＳＯＡが集積されたりしたモノリシック集積型であってもよい。発光素子３００が出射するレーザ光Ｌ１およびレーザ光Ｌ２の波長帯域は、９００～１６５０ｎｍである。発光素子３００は、不図示の制御器から供給された駆動電流に応じて、レーザ光Ｌ１およびレーザ光Ｌ２の各々を出射する。なお、実施形態１では、発光素子３００がレーザ光Ｌ１を出射する側を前方側とし、その反対側を後方側として説明する。

レンズ４００は、発光素子３００から出射されたレーザ光Ｌ１をコリメートまたは結合して光ファイバ５００へ出射する。レンズ４００は、コリメートレンズまたは集光レンズを用いて構成される。なお、実施形態１では、レンズ４００が光学部品として機能する。

光ファイバ５００は、レンズ４００によってコリメートまたは結合されたレーザ光Ｌ１を伝搬する。

受光素子６００は、フォトダイオードを用いて構成される。受光素子６００は、発光素子３００から出射されたレーザ光Ｌ２を受光し、その受光パワーに応じた電流信号を不図示の制御器へ出射する。不図示の制御器は、受光素子６００から受光した電流信号に基づいて、発光素子３００へ供給する駆動電流を制御する。例えば、不図示の制御器は、受光素子６００から受信した電流信号が一定値となるように発光素子３００へ供給する駆動電流を制御する。これにより、不図示の制御器は、光出力を一定に制御することができる。

遮蔽部７００は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７００は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。具体的には、遮蔽部７００は、遮蔽性を有し、ベース部２内に各光学部品を接合するための接着剤として用いる樹脂を用いて形成される。この樹脂は、フィラー粒子を有すことが好ましい。この場合、フィラー粒子は、０．１～５００μｍである。さらに、遮蔽部７００は、受光素子６００が出射するレーザ光Ｌ１の光路中における発光素子３００に最も近い位置に配置されたレンズ４００の側面に樹脂を塗布することによって配置される。具体的には、遮蔽部７００は、レンズ４００に入力されるレーザ光Ｌ１の光路以外のレンズ４００の側面および上面に樹脂を塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６００に入射することを抑制することができる。

また、実施形態１によれば、遮蔽部７００を接着剤の樹脂をレンズ４００に塗布することによって形成したので、簡易な構成で受光素子６００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態１の変形例１）
次に、実施形態１の変形例１について説明する。図２は、実施形態１の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２に示す光モジュール１０２は、上述した実施形態１の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７０１を備える。

遮蔽部７０１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７０１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。さらに、遮蔽部７０１は、発光素子３００の一部に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７０１は、発光素子３００がレーザ光Ｌ２を出射する後方側の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１の変形例１によれば、遮蔽部７０１を発光素子３００の後方側に塗布して配置したので、簡易な構成で発光素子３００からの迷光が受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１の変形例２）
次に、実施形態１の変形例２について説明する。図３は、実施形態１の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３に示す光モジュール１０３は、上述した遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７０２を備える。

遮蔽部７０２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７０２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。具体的には、遮蔽部７０２は、発光素子３００が出射するレーザ光Ｌ２の光路における両端の外側に樹脂を塗布させて***させ、壁状に形成される。具体的には、遮蔽部７０２は、発光素子３００と受光素子６００との区間（隙間）であって、レーザ光Ｌ２の光路を除く区間上のベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態１の変形例２によれば、遮蔽部７０２を発光素子３００と受光素子６００との区間であって、レーザ光Ｌ２の光路を除く区間のベース部２上に樹脂を塗布して***させ、壁状に形成することによって配置したで、簡易な構成で発光素子３００から出射されたレーザ光Ｌ１，Ｌ２が図示しないパッケージ等で反射または散乱することによって生じた迷光が受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態２）
次に、実施形態２について説明する。図４は、実施形態２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４に示す光モジュール１０４は、上述した実施形態１の構成に加えて、ビームスプリッタ８００と、光アイソレータ９００と、を備える。なお、図４においては、上述した光ファイバ５００は、ベース部２の前方側に取り付けられているため、詳細な説明は省略する。

ビームスプリッタ８００は、レンズ４００から入射されたレーザ光Ｌ１の一部を分岐して受光素子６００へ向けて反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を光アイソレータ９００へ透過する。

光アイソレータ９００は、ビームスプリッタ８００を透過したレーザ光Ｌ１を図示しない光ファイバ５００側に透過させる一方、図示しない光ファイバ５００側から入射された光を遮断する。

以上説明した実施形態２によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態２の変形例１）
次に、実施形態２の変形例１について説明する。図５は、実施形態２の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５に示す光モジュール１０５は、上述した実施形態２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７０５を備える。さらに、上述した光アイソレータ９００がレンズ４００とビームスプリッタ８００との間に配置される。

遮蔽部７０５は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７０５は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７０５は、光アイソレータ９００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７０５は、発光素子３００と受光素子６００とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に塗布されて配置される。

以上説明した実施形態２の変形例１によれば、遮蔽部７０５を発光素子３００と受光素子６００とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で発光素子３００からの迷光が受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態２の変形例２）
次に、実施形態２の変形例２について説明する。図６は、実施形態２の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６に示す光モジュール１０６は、上述した実施形態２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７０６を備える。

遮蔽部７０６は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７０６は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７０６は、発光素子３００と受光素子６００とを結ぶ直線上に位置するベース部２上に樹脂を塗布して***させ、壁状または突起に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２の変形例２によれば、遮蔽部７０６を発光素子３００と受光素子６００とを結ぶ直線上に位置するベース部２上に樹脂を塗布して***させて形成することによって配置したので、簡易な構成で発光素子３００からの迷光が受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態２の変形例３）
次に、実施形態２の変形例３について説明する。図７は、実施形態２の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７に示す光モジュール１０７は、上述した実施形態２の変形例２におけるビームスプリッタ８００と光アイソレータ９００との配置が異なり、光アイソレータ９００およびビームスプリッタ８００の順でベース部２内に配置される。

以上説明した実施形態２の変形例３によれば、遮蔽部７０６を発光素子３００と受光素子６００とを結ぶ直線上に位置するベース部２上に樹脂を塗布して***させて形成することによって配置したので、簡易な構成で発光素子３００からの迷光が受光素子６００に入射することを抑制することができる。

（実施形態３）
次に、実施形態３について説明する。図８は、実施形態３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図８に示す光モジュール１０８は、上述した実施形態１に係る光モジュール１０１の受光素子６００に換えて、受光素子６０８を備える。さらに、光モジュール１０８は、上述した実施形態１に係る光モジュール１０１の構成に加えて、ビームスプリッタ８０８と、光アイソレータ９００と、エタロンフィルタ１０００と、受光素子１１００と、を備える。

受光素子６０８は、フォトダイオードを用いて構成される。受光素子６０８は、ビームスプリッタ８０８を介して入射されたレーザ光Ｌ１を受光し、その受光パワーに応じた電流信号を不図示の制御器へ出射する。

ビームスプリッタ８０８は、レンズ４００から入射されたレーザ光Ｌ１の一部を分岐して受光素子６０８およびエタロンフィルタ１０００の各々へ向けて反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を光アイソレータ９００へ透過する。

エタロンフィルタ１０００は、光の波長に対して周期的な透過特性を有する。エタロンフィルタ１０００は、ビームスプリッタ８０８から入射されたレーザ光Ｌ１を受光素子１１００へ透過する。

受光素子１１００は、フォトダイオードを用いて構成される。受光素子１１００は、エタロンフィルタ１０００を透過したレーザ光Ｌ１を受光し、その受光パワーに応じた電流信号を不図示の制御器へ出射する。

不図示の制御器は、受光素子６０８および受光素子１１００の各々から入射された２つの電流信号に基づいて、エタロンフィルタ１０００を透過していない光の強度とエタロンフィルタ１０００を透過した光の強度との強度比を測定することによってレーザ光Ｌ１の波長を特定する。

以上説明した実施形態３によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態３の変形例１）
次に、実施形態３の変形例１について説明する。図９は、実施形態３の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図９に示す光モジュール１０９は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて遮蔽部７０９を備える。

遮蔽部７０９は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７０９は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７０９は、エタロンフィルタ１０００の一部に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７０９は、光アイソレータ９００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態３の変形例１によれば、遮蔽部７０９を光アイソレータ９００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態３の変形例２）
次に、実施形態３の変形例２について説明する。図１０は、実施形態３の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１０に示す光モジュール１１０は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１０を備える。

遮蔽部７１０は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７１０は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１０は、ビームスプリッタ８０８の一部に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７１０は、発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態３の変形例２によれば、遮蔽部７１０を発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態３の変形例３）
次に、実施形態３の変形例３について説明する。図１１は、実施形態３の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１１に示す光モジュール１１１は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１１を備える。

遮蔽部７１１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７１１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１１は、発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させ、壁状または突起状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態３の変形例３によれば、遮蔽部７１１を発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態４）
次に、実施形態４について説明する。図１２は、実施形態４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１２に示す光モジュール１１２は、上述した実施形態３と同様の構成を有し、各光学部材の配置が異なる。具体的には、光モジュール１１２は、レンズ４００とビームスプリッタ８０８との間に光アイソレータ９００が設けられている。

以上説明した実施形態４によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態４の変形例１）
次に、実施形態４の変形例１について説明する。図１３は、実施形態４の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１３に示す光モジュール１１３は、上述した実施形態４に係る光モジュール１１２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１３を備える。

遮蔽部７１３は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７１３は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１３は、エタロンフィルタ１０００の一部に樹脂を塗布して配置される。具体的には、遮蔽部７１３は、レンズ４００と受光素子１１００とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態４の変形例１によれば、遮蔽部７１３をレンズ４００と受光素子１１００とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態４の変形例２）
次に、実施形態４の変形例２について説明する。図１４は、実施形態４の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１４に示す光モジュール１１４は、上述した実施形態４に係る光モジュール１１２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１４を備える。

遮蔽部７１４は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７１４は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１４は、ビームスプリッタ８０８の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７１４は、レンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態４の変形例２によれば、遮蔽部７１４をレンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態４の変形例３）
次に、実施形態４の変形例３について説明する。図１５は、実施形態４の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１５に示す光モジュール１１５は、上述した実施形態４に係る光モジュール１１２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１５を備える。

遮蔽部７１５は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７１５は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１５は、発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状または突起に形成することによって配置される。

以上説明した実施形態４の変形例３によれば、遮蔽部７１５を発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状または突起に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態５）
次に、実施形態５について説明する。図１６は、実施形態５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１６に示す光モジュール１１６は、上述した実施形態４に係る光モジュール１１２のビームスプリッタ８０８に換えて、ビームスプリッタ８１６を備える。さらに、光モジュール１１６は、反射部材１２００をさらに備える。

ビームスプリッタ８１６は、光アイソレータ９００から入射されたレーザ光Ｌ１を受光素子６０８および反射部材１２００の各々に反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を透過する。

反射部材１２００は、ミラー等を用いて構成され、ビームスプリッタ８１６から反射されたレーザ光Ｌ１をエタロンフィルタ１０００へ反射する。

以上説明した実施形態５によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態５の変形例１）
次に、実施形態５の変形例１について説明する。図１７は、実施形態５の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１７に示す光モジュール１１７は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６の遮蔽部７００に換えて、上述した実施形態２の変形例１に係る遮蔽部７１７を備える。

遮蔽部７１７は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７１７は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１７は、発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態５の変形例１によれば、遮蔽部７１７を発光素子３００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置したので、発光素子３００からの迷光を簡易な構成によって抑制することができる。

（実施形態５の変形例２）
次に、実施形態５の変形例２について説明する。図１８は、実施形態５の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１８に示す光モジュール１１８は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１８を備える。

遮蔽部７１８は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７１８は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１８は、エタロンフィルタ１０００の一部に樹脂を塗布して配置される。具体的には、遮蔽部７１８は、発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側壁に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態５の変形例２によれば、遮蔽部７１８を発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上におけるエタロンフィルタ１０００の側壁に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態５の変形例３）
次に、実施形態５の変形例３について説明する。図１９は、実施形態５の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図１９に示す光モジュール１１９は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７１９を備える。

遮蔽部７１９は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７１９は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７１９は、ビームスプリッタ８１６の一部に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７１９は、ビームスプリッタ８１６におけるレーザ光Ｌ１の光路を除く領域に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態５の変形例３によれば、遮蔽部７１９をビームスプリッタ８１６におけるレーザ光Ｌ１の光路を除く領域に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態５の変形例４）
次に、実施形態５の変形例４について説明する。図２０は、実施形態５の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２０に示す光モジュール１２０は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２０を備える。

遮蔽部７２０は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２０は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２０は、レンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態５の変形例４によれば、遮蔽部７２０をレンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態５の変形例５）
次に、実施形態５の変形例５について説明する。図２１は、実施形態５の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２１に示す光モジュール１２１は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２１を備える。

遮蔽部７２１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７２１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２１は、発光素子３００と受光素子１１００とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態５の変形例５によれば、遮蔽部７２１を発光素子３００と受光素子１１００とを結ぶ直線上におけるベース部２上に樹脂を塗布して***させて壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１１００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態６）
次に、実施形態６について説明する。図２２は、実施形態６に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２２に示す光モジュール１２２は、上述した実施形態５に係る光モジュール１１６のビームスプリッタ８１６に換えて、ビームスプリッタ８２２を備える。

ビームスプリッタ８２２は、光アイソレータ９００から入射されたレーザ光Ｌ１を受光素子６０８およびエタロンフィルタ１０００に反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を透過する。

以上説明した実施形態６によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態６の変形例１）
次に、実施形態６の変形例１について説明する。図２３は、実施形態６の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２３に示す光モジュール１２３は、上述した実施形態６に係る光モジュール１２２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２３を備える。

遮蔽部７２３は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２３は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２３は、ビームスプリッタ８２２の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７２３は、発光素子３００とビームスプリッタ８２２とを結ぶ直線上に位置するビームスプリッタ８２２の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態６の変形例１によれば、遮蔽部７２３を発光素子３００とビームスプリッタ８２２とを結ぶ直線上に位置するビームスプリッタ８２２の側面に樹脂を配置して形成したので、簡易な構成によって発光素子３００からの迷光が受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態６の変形例２）
次に、実施形態６の変形例２について説明する。図２４は、実施形態６の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２４に示す光モジュール１２４は、上述した実施形態６に係る光モジュール１２２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２４を備える。

遮蔽部７２４は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７２４は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２４は、エタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７２４は、発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上に位置するようにエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態６の変形例２によれば、遮蔽部７２４を発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上に位置するようにエタロンフィルタ１０００の側面に塗布して配置したので、簡易な構成によって発光素子３００からの迷光が受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態６の変形例３）
次に、実施形態６の変形例３について説明する。図２５は、実施形態６の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２５に示す光モジュール１２５は、上述した実施形態６に係る光モジュール１２２の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２５を備える。

遮蔽部７２５は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２５は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２５は、光アイソレータ９００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７２５は、レンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態６の変形例３によれば、遮蔽部７２５をレンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して形成したので、簡易な構成によって発光素子３００からの迷光が受光素子６０８に入射することを抑制することができる。

（実施形態７）
次に、実施形態７について説明する。図２６は、実施形態７に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２６に示す光モジュール１２６は、上述した実施形態６のビームスプリッタ８２２に換えて、ビームスプリッタ８２６を備える。

ビームスプリッタ８２６は、光アイソレータ９００から入射されたレーザ光Ｌ１を受光素子６０８およびエタロンフィルタ１０００に反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を透過する。

以上説明した実施形態６によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態７の変形例１）
次に、実施形態７の変形例１について説明する。図２７は、実施形態７の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２７に示す光モジュール１２７は、上述した実施形態７に係る光モジュール１２６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２７を備える。

遮蔽部７２７は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２７は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２７は、エタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７２７は、受光素子６０８とレンズ４００とを結ぶ直線上に位置するエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態７の変形例１によれば、遮蔽部７２７を受光素子６０８とレンズ４００とを結ぶ直線上に位置するエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態７の変形例２）
次に、実施形態７の変形例２について説明する。図２８は、実施形態７の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２８に示す光モジュール１２８は、上述した実施形態７に係る光モジュール１２６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２８を備える。

遮蔽部７２８は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２８は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２８は、光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置される。具体的には、遮蔽部７２８は、レンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置する光アイソレータ９００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態７の変形例２によれば、遮蔽部７２８をレンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置する光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態７の変形例３）
次に、実施形態７の変形例３について説明する。図２９は、実施形態７の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図２９に示す光モジュール１２９は、上述した実施形態７に係る光モジュール１２６の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７２９を備える。

遮蔽部７２９は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７２９は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７２９は、エタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７２９は、レンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態７の変形例３によれば、遮蔽部７２９をレンズ４００と受光素子６０８とを結ぶ直線上に位置するエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態８）
次に、実施形態８について説明する。図３０は、実施形態８に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３０に示す光モジュール１３０は、上述した実施形態７に係る光モジュール１２６のビームスプリッタ８２６に換えて、ビームスプリッタ８３０を備える。さらに、図３０に示す光モジュール１３０は、上述した実施形態７に対して、ビームスプリッタ８３０と光アイソレータ９００との配置が逆である。具体的には、光モジュール１３０は、発光素子３００、レンズ４００、ビームスプリッタ８３０および光アイソレータ９００の順にベース部２上に配置される。

ビームスプリッタ８３０は、レンズ４００から入射されたレーザ光Ｌ１の一部を分岐して受光素子６０８およびエタロンフィルタ１０００の各々へ向けて反射する一方、残りのレーザ光Ｌ１を光アイソレータ９００へ透過する。

以上説明した実施形態８によれば、レンズ４００に遮蔽部７００を設けることによって、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に入射することを抑制することができる。

（実施形態８の変形例１）
次に、実施形態８の変形例１について説明する。図３１は、実施形態８の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３１に示す光モジュール１３１は、上述した実施形態８に係る光モジュール１３０の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７３１を備える。

遮蔽部７３１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６０８に入射することを抑制する。遮蔽部７３１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７３１は、光アイソレータ９００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７３１は、受光素子６０８と光アイソレータ９００とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して配置される。

以上説明した実施形態８の変形例１によれば、遮蔽部７３１を受光素子６０８と光アイソレータ９００とを結ぶ直線上に位置するように光アイソレータ９００の側面に樹脂を塗布して形成したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態８の変形例２）
次に、実施形態８の変形例２について説明する。図３２は、実施形態８の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３２に示す光モジュール１３２は、上述した実施形態８に係る光モジュール１３０の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７３２を備える。

遮蔽部７３２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７３２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７３２は、ビームスプリッタ８３０の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７３２は、レンズ４００とビームスプリッタ８３０とを結ぶ直線上に位置するようにビームスプリッタ８３０の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態８の変形例２によれば、遮蔽部７３２をレンズ４００とビームスプリッタ８３０とを結ぶ直線上に位置するようにビームスプリッタ８３０の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１１００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態８の変形例３）
次に、実施形態８の変形例３について説明する。図３３は、実施形態８の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３３に示す光モジュール１３３は、上述した実施形態８に係る光モジュール１３０の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７３３を備える。

遮蔽部７３３は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１１００に入射することを抑制する。遮蔽部７３３は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７３３は、エタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置される。具体的には、遮蔽部７３３は、発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上に位置するようにエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態８の変形例３によれば、遮蔽部７３３を発光素子３００とエタロンフィルタ１０００とを結ぶ直線上に位置するようにエタロンフィルタ１０００の側面に樹脂を塗布して配置したので、受光素子１１００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態９）
次に、実施形態９について説明する。図３４は、実施形態９に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３４に示す光モジュール１３４は、発光素子３３４と、レンズ４００と、遮蔽部７３４と、ビームスプリッタ８３４と、反射部材１２００と、光アイソレータ９００と、結合レンズ１３００と、波長検出用素子１４００と、受光素子１５００と、受光素子１６００と、受光素子１７００と、を備える。

発光素子３３４は、不図示の制御器から供給される駆動電流に応じて、レーザ光Ｌ１とレーザ光Ｌ２とを出射する。

遮蔽部７３４は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７３４は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７３４は、後述する結合レンズ１３００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７３４は、結合レンズ１３００と受光素子１７００とを結ぶ直線上に位置する結合レンズ１３００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

ビームスプリッタ８３４は、レンズ４００によってコリメートされたレーザ光Ｌ１を反射部材１２００に反射する。

反射部材１２００は、ビームスプリッタ８３４から入射されたレーザ光Ｌ１を光アイソレータ９００へ反射する。

結合レンズ１３００は、発光素子３３４から入射されたレーザ光Ｌ２を波長検出用素子１４００へ結合させる。

波長検出用素子１４００は、少なくとも光分岐部（図示せず）と、２つのフィルタ部（図示せず）と、を備える。光分岐部は、レーザ光Ｌ２を３分岐し、１つのレーザ光を受光素子１５００へ入射させる。また、フィルタ部は、光の周波数的に周期的な透過特性を有しており、光分岐部によって３分岐された残りの２つのレーザ光を透過させた後に受光素子１６００、受光素子１７００へ入射させる。

受光素子１５００，受光素子１６００および受光素子１７００の各々は、フォトダイオードを用いて構成される。受光素子１５００，受光素子１６００および受光素子１７００の各々は、レーザ光を受光し、その受光パワーに応じた電流信号を不図示の制御器へ出射する。不図示の制御器は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々から受信した電流信号に基づいて、温度調節器へ供給する駆動電流を制御することによって発光素子３３４の温度を調節し、発光素子３３４が出射するレーザ光Ｌ１の波長を制御する。このような制御は、波長ロックと呼ばれる公知の技術である。波長検出用素子１４００は、ＰＬＣ（Planar Lightwave Circuit）等の光導波路素子や、空間結合系によって実現できる。フィルタ部は、例えばリングフィルタやエタロンフィルタによって実現できる。

以上説明した実施形態９によれば、遮蔽部７３４を結合レンズ１３００と受光素子１７００とを結ぶ直線上に位置する結合レンズ１３００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態９の変形例１）
次に、実施形態９の変形例１について説明する。図３５は、実施形態９の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３５に示す光モジュール１３５は、上述した実施形態９に係る光モジュール１３４の遮蔽部７３４に換えて、遮蔽部７３５を備える。遮蔽部７３５は、結合レンズ１３００の両端に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態９の変形例１によれば、遮蔽部７３５を結合レンズ１３００の両端に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態９の変形例２）
次に、実施形態９の変形例２について説明する。図３６は、実施形態９の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３６に示す光モジュール１３６は、実施形態９の光モジュール１３４の構成に加えて、遮蔽部７３６をさらに備える。

遮蔽部７３６は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７３６は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７３６は、レンズ４００の一方の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７３６は、受光素子１７００が配置されたレンズ４００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態９の変形例２によれば、遮蔽部７３６をレンズ４００に塗布して配置したので、簡易な構成でレンズ４００および結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態９の変形例３）
次に、実施形態９の変形例３について説明する。図３７は、実施形態９の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３７に示す光モジュール１３７は、上述した実施形態９の変形例１の遮蔽部７３５とレンズ４００の両端に塗布して形成された遮蔽部７００を備える。

以上説明した実施形態９の変形例３によれば、遮蔽部７３５を結合レンズ１３００および遮蔽部７００をレンズ４００の各々に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成でレンズ４００および結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１０）
次に、実施形態１０について説明する。図３８は、実施形態１０に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３８に示す光モジュール１３８は、上述した実施形態９の変形例３と同一の構成を有し、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の配置位置が異なるのみである。具体的には、光モジュール１３８は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々が波長検出用素子１４００の下側に配置される。

以上説明した実施形態１０によれば、簡易な構成でレンズ４００および結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１０の変形例１）
次に、実施形態１０の変形例１について説明する。図３９は、実施形態１０の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図３９に示す光モジュール１３９は、上述した実施形態９の変形例３と同一の構成を有し、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の配置位置が異なるのみである。具体的には、光モジュール１３９は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々が波長検出用素子１４００の上側に配置される。

以上説明した実施形態１０の変形例１によれば、簡易な構成でレンズ４００および結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１０の変形例２）
次に、実施形態１０の変形例２について説明する。図４０は、実施形態１０の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４０に示す光モジュール１４０は、上述した実施形態９の変形例３と同一の構成を有し、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の配置位置が異なるのみである。具体的には、光モジュール１４０は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々がベース部２の前方側に配置される。

以上説明した実施形態１０の変形例２によれば、簡易な構成でレンズ４００および結合レンズ１３００を介して出射された迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１１）
次に、実施形態１１について説明する。図４１は、実施形態１１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４１に示す光モジュール１４１は、上述した実施形態９に係る光モジュール１３４の波長検出用素子１４００に換えて、波長検出用素子１４４１と、エタロンフィルタ１０４１と、を備える。さらに、光モジュール１４１は、上述した遮蔽部７３４に換えて、遮蔽部７４１を備える。

遮蔽部７４１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７４１は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と反対側の面に樹脂を塗布して一体的に壁状に形成されることによって配置される。遮蔽部７４１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。

波長検出用素子１４４１は、少なくとも光分岐部（図示せず）と、２つのフィルタ部（図示せず）と、を備える。光分岐部は、レーザ光Ｌ２を３分岐し、１つのレーザ光をエタロンフィルタ１０４１へ入射させる。また、フィルタ部は、光の周波数的に周期的な透過特性を有しており、光分岐部によって３分岐された残りの２つのレーザ光を透過させた後に受光素子１６００、受光素子１７００へ入射させる。

エタロンフィルタ１０４１は、光の波長に対して周期的な透過特性を有する。エタロンフィルタ１０４１は、波長検出用素子１４４１から入射されたレーザ光Ｌ２を受光素子１５００へ透過する。

以上説明した実施形態１１によれば、遮蔽部７４１を受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と反対側の面に樹脂を塗布して一体的に壁状に形成することによって配置したので、レンズ４００で反射または散乱することによって生じる迷光を簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１１の変形例１）
次に、実施形態１１の変形例１について説明する。図４２は、実施形態１１の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４２に示す光モジュール１４２は、上述した実施形態１１の遮蔽部７４１および波長検出用素子１４４１に換えて、遮蔽部７４２および波長検出用フィルタ１８００を備える。

遮蔽部７４２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７４２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７４２は、エタロンフィルタ１０４１および波長検出用フィルタ１８００の側面に樹脂を塗布して配置される。具体的には、遮蔽部７４２は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の反対側のエタロンフィルタ１０４１および波長検出用フィルタ１８００の側面に樹脂を塗布して配置される。

波長検出用フィルタ１８００は、少なくとも光分岐部（図示せず）と、２つのフィルタ部（図示せず）と、を備える。光分岐部は、レーザ光Ｌ２を３分岐し、１つのレーザ光をエタロンフィルタ１０４１へ入射させる。また、フィルタ部は、光の周波数的に周期的な透過特性を有しており、光分岐部によって３分岐された残りの２つのレーザ光を透過させた後に受光素子１６００、受光素子１７００へ入射させる。

以上説明した実施形態１１の変形例１によれば、遮蔽部７４２を受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の反対側のエタロンフィルタ１０４１および波長検出用フィルタ１８００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１１の変形例２）
次に、実施形態１１の変形例２について説明する。図４３は、実施形態１１の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。実施形態１１の変形例２に係る光モジュール１４３は、上述した実施形態１１に係る光モジュール１４１の遮蔽部７４１、エタロンフィルタ１０４１および波長検出用素子１４４１に換えて、遮蔽部７４３、エタロンフィルタ１０４３および波長検出用素子１４４３を備える。

遮蔽部７４３は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７４３は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７４３は、波長検出用素子１４４３の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７４３は、受光素子１６００と受光素子１７００とを結ぶ直線上に位置する波長検出用素子１４４３の側面に樹脂を塗布して突起させて形成されることによって配置される。

エタロンフィルタ１０４３は、光の波長に対して周期的な透過特性を有する。エタロンフィルタ１０４３は、結合レンズ１３００から入射されたレーザ光Ｌ２を波長検出用素子１４４３へ反射するとともに、残りのレーザ光Ｌ２を受光素子１７００へ透過する。

波長検出用素子１４４３は、少なくとも光分岐部（図示せず）と、１つのフィルタ部（図示せず）と、を備える。光分岐部は、レーザ光Ｌ２を２分岐し、１つのレーザ光を受光素子１５００へ入射させる。また、フィルタ部は、光の周波数的に周期的な透過特性を有しており、光分岐部によって２分岐された残りのレーザ光を透過させた後に受光素子１６００へ入射させる。

以上説明した実施形態１１の変形例２によれば、遮蔽部７４３を受光素子１６００と受光素子１７００とを結ぶ直線上に位置する波長検出用素子１４４３の側面に樹脂を塗布して突起させて形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１１の変形例３）
次に、実施形態１１の変形例３について説明する。図４４は、実施形態１１の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４４に示す光モジュール１４４は、上述した実施形態１１の変形例２の遮蔽部７４３および波長検出用素子１４４３に換えて、遮蔽部７４４および波長検出用フィルタ１８４４を備える。

遮蔽部７４４は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７４４は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７４４は、エタロンフィルタ１０４３の側面に塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７４４は、エタロンフィルタ１０４３がレーザ光Ｌ２を反射する側面の逆側面に樹脂が塗布されて配置される。

波長検出用フィルタ１８４４は、少なくとも光分岐部（図示せず）と、１つのフィルタ部（図示せず）と、を備える。光分岐部は、レーザ光Ｌ２を２分岐し、１つのレーザ光を受光素子１５００へ入射させる。また、フィルタ部は、光の周波数的に周期的な透過特性を有しており、光分岐部によって２分岐された残りの１つのレーザ光を透過させた後に受光素子１６００へ入射させる。

以上説明した実施形態１１の変形例３によれば、遮蔽部７４４をエタロンフィルタ１０４３がレーザ光Ｌ２を反射する側面の逆側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１２）
次に、実施形態１２について説明する。図４５は、実施形態１２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４５に示す光モジュール１４５は、上述した実施形態１１に係る光モジュール１４１の遮蔽部７４１に換えて、上述した遮蔽部７００および遮蔽部７３５を備える。

以上説明した実施形態１２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１２の変形例１）
次に、実施形態１２の変形例１について説明する。図４６は、実施形態１２の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４６に示す光モジュール１４６は、上述した実施形態１１の変形例１に係る光モジュール１４２の遮蔽部７４２に換えて、上述した遮蔽部７００および遮蔽部７３５を備える。

以上説明した実施形態１２の変形例１によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１２の変形例２）
次に、実施形態１２の変形例２について説明する。図４７は、実施形態１２の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４７に示す光モジュール１４７は、上述した実施形態１１の変形例２に係る光モジュール１４３の遮蔽部７４３に換えて、上述した遮蔽部７００および遮蔽部７３５を備える。

以上説明した実施形態１２の変形例２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１２の変形例３）
次に、実施形態１２の変形例３について説明する。図４８は、実施形態１２の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４８に示す光モジュール１４８は、上述した実施形態１１の変形例３に係る光モジュール１４４の遮蔽部７４４に換えて、上述した遮蔽部７００および遮蔽部７３５を備える。

以上説明した実施形態１２の変形例３によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１３）
次に、実施形態１３について説明する。図４９は、実施形態１３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図４９に示す光モジュール１４９は、上述した実施形態１１に係る光モジュール１４１の遮蔽部７４１に換えて、遮蔽部７４９を備える。

遮蔽部７４９は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７４９は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７４９は、波長検出用素子１４４１およびエタロンフィルタ１０４１の側面に塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７４９は、結合レンズ１３００から入射されたレーザ光Ｌ２が入射する入射端と逆方向の波長検出用素子１４４１およびエタロンフィルタ１０４１の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１３によれば、遮蔽部７４９を結合レンズ１３００から入射されたレーザ光Ｌ２が入射する入射端と逆方向の波長検出用素子１４４１およびエタロンフィルタ１０４１の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１３の変形例１）
次に、実施形態１３の変形例１について説明する。図５０は、実施形態１３の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５０に示す光モジュール１５０は、上述した実施形態１１の変形例１に係る光モジュール１４２の遮蔽部７４２に換えて、遮蔽部７５０を備える。

遮蔽部７５０は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７５０は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７５０は、波長検出用フィルタ１８００およびエタロンフィルタ１０４１の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７５０は、波長検出用フィルタ１８００およびエタロンフィルタ１０４１がレーザ光Ｌ２を出射する出射側と逆方向の波長検出用フィルタ１８００およびエタロンフィルタ１０４１の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１３の変形例１によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１３の変形例２）
次に、実施形態１３の変形例２について説明する。図５１は、実施形態１３の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５１に示す光モジュール１５１は、上述した実施形態１１の変形例２に係る光モジュール１４３の遮蔽部７４３に換えて、遮蔽部７５１を備える。

遮蔽部７５１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７５１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７５１は、波長検出用素子１４４３の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７５１は、波長検出用素子１４４３がレーザ光Ｌ２を出射する出射側と逆方向の波長検出用素子１４４３の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１３の変形例２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１３の変形例３）
次に、実施形態１３の変形例３について説明する。図５２は、実施形態１３の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５２に示す光モジュール１５２は、上述した実施形態１１の変形例３に係る光モジュール１４４の遮蔽部７４４に換えて、遮蔽部７５２を備える。

遮蔽部７５２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７５２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７５２は、波長検出用フィルタ１８４４の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７５２は、波長検出用フィルタ１８４４がレーザ光Ｌ２を出射する出射側と逆方向の波長検出用フィルタ１８４４の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１３の変形例３によれば、遮蔽部７５２を波長検出用フィルタ１８４４がレーザ光Ｌ２を出射する出射側と逆方向の波長検出用フィルタ１８４４の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１４）
次に、実施形態１４について説明する。図５３は、実施形態１４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５３に示す光モジュール１５３は、上述した実施形態１１に係る光モジュール１４１の遮蔽部７４１に換えて、遮蔽部７５３を備える。

遮蔽部７５３は、レンズ４００と受光素子１６００とを結ぶ直線上におけるベース部２に樹脂を塗布しつつ、***させることによって壁状に形成されることによって配置される。遮蔽部７５３は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７５３は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。

以上説明した実施形態１４によれば、遮蔽部７５３をレンズ４００と受光素子１６００とを結ぶ直線上におけるベース部２に樹脂を塗布しつつ、***させることによって壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１４の変形例１）
次に、実施形態１４の変形例１について説明する。図５４は、実施形態１４の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５４に示す光モジュール１５４は、上述した実施形態１１の変形例１に係る光モジュール１４２の遮蔽部７４２に換えて、上述した実施形態１４の遮蔽部７５３を備える。

以上説明した実施形態１４の変形例１によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１４の変形例２）
次に、実施形態１４の変形例２について説明する。図５５は、実施形態１４の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５５に示す光モジュール１５５は、上述した実施形態１１の変形例２に係る光モジュール１４３の遮蔽部７４３に換えて、上述した実施形態１４に係る遮蔽部７５３を備える。

以上説明した実施形態１４の変形例２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１４の変形例３）
次に、実施形態１４の変形例３について説明する。図５６は、実施形態１４の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５６に示す光モジュール１５６は、上述した実施形態１１の変形例３に係る光モジュール１４４の遮蔽部７４４に換えて、上述した遮蔽部７５３を備える。

以上説明した実施形態１４の変形例３によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１５）
次に、実施形態１５について説明する。図５７は、実施形態１５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５７に示す光モジュール１５７は、上述した実施形態１１に係る光モジュール１４１の遮蔽部７４１に換えて、遮蔽部７５７を備える。

遮蔽部７５７は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制する。遮蔽部７５７は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７５７は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の両端に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７５７は、受光素子１６００がレーザ光Ｌ２を受光する受光面と直交する両端に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１５によれば、遮蔽部７５７を受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の両端に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１５の変形例１）
次に、実施形態１５の変形例１について説明する。図５８は、実施形態１５の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５８に示す光モジュール１５８は、上述した実施形態１１の変形例１に係る光モジュール１４２の遮蔽部７４２に換えて、上述した実施形態１５の遮蔽部７５７を備える。

以上説明した実施形態１５の変形例１によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１５の変形例２）
次に、実施形態１５の変形例２について説明する。図５９は、実施形態１５の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図５９に示す光モジュール１５９は、上述した実施形態１１の変形例２に係る光モジュール１４３の遮蔽部７４３に換えて、上述した遮蔽部７５７を備える。

以上説明した実施形態１５の変形例２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１５の変形例３）
次に、実施形態１５の変形例３について説明する。図６０は、実施形態１５の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６０に示す光モジュール１６０は、上述した実施形態１１の変形例３に係る光モジュール１４４の遮蔽部７４４に換えて、上述した遮蔽部７５７を備える。

以上説明した実施形態１５の変形例３によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１６）
次に、実施形態１６について説明する。図６１は、実施形態１６に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６１に示す光モジュール１６１は、発光素子３３４がレーザ光Ｌ１を出射する出射方向に、レンズ４００、光アイソレータ９００およびビームスプリッタ８００の順でベース部２内に配置される。さらに、光モジュール１６１は、発光素子３３４がレーザ光Ｌ２を出射する出射方向に、結合レンズ１３００、波長検出用素子１４００および各受光素子（受光素子１５００、受光素子１６００、受光素子１７００）がベース部２内に配置される。さらに、光モジュール１６１は、遮蔽部７６１を備える。

遮蔽部７６１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７６１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７６１は、結合レンズ１３００の側面に樹脂が塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７６１は、結合レンズ１３００と受光素子１５００とを結ぶ直線上における結合レンズ１３００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１６によれば、遮蔽部７６１を結合レンズ１３００と受光素子１５００とを結ぶ直線上における結合レンズ１３００の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１６の変形例１）
次に、実施形態１６の変形例１について説明する。図６２は、実施形態１６の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６２に示す光モジュール１６２は、上述した実施形態１６の構成に加えて、遮蔽部７６２をさらに備える。

遮蔽部７６２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７６２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて配置される。遮蔽部７６２は、レンズ４００の側面に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７６２は、レンズ４００と受光素子１５００とを結ぶ直線上におけるレンズ４００の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１６の変形例１によれば、レンズ４００で生じた迷光が受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射することを抑制することができる。

（実施形態１６の変形例２）
次に、実施形態１６の変形例２について説明する。図６３は、実施形態１６の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６３に示す光モジュール１６３は、上述した実施形態１６に係る光モジュール１６１の遮蔽部７６１に換えて、上述した遮蔽部７３５を備える。

以上説明した実施形態１６の変形例２によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１６の変形例３）
次に、実施形態１６の変形例３について説明する。図６４は、実施形態１６の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６４に示す光モジュール１６４は、上述した実施形態１６の変形例２の構成に加えて、上述した遮蔽部７００をさらに備える。

以上説明した実施形態１６の変形例３によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１７）
次に、実施形態１７について説明する。図６５は、実施形態１７に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６５に示す光モジュール１６５は、上述した実施形態１６の遮蔽部７６１に換えて、遮蔽部７６５を備える。

遮蔽部７６５は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７６５は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７６５は、波長検出用素子１４００の側面に塗布されて配置される。具体的には、遮蔽部７６５は、結合レンズ１３００と受光素子１５００との間を遮光するように波長検出用素子１４００の側面から樹脂を塗布しながら***させることによって壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態１７によれば、遮蔽部７６５を結合レンズ１３００と受光素子１５００との間を遮光するように波長検出用素子１４００の側面から樹脂を塗布しながら***させることによって壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１７の変形例１）
次に、実施形態１７の変形例１について説明する。図６６は、実施形態１７の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６６に示す光モジュール１６６は、上述した実施形態１７の遮蔽部７６５に換えて、遮蔽部７６６を備える。

遮蔽部７６６は、波長検出用素子１４００の側面に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７６６は、レーザ光Ｌ２が入射される入射端と逆方向の側面に樹脂が塗布されて配置される。なお、遮蔽部７６６は、レーザ光Ｌ２が入射される入射端と平行な側面に樹脂を塗布することによって形成することによって配置してもよい。

以上説明した実施形態１７の変形例１によれば、遮蔽部７６６をレーザ光Ｌ２が入射される入射端と逆方向の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１７の変形例２）
次に、実施形態１７の変形例２について説明する。図６７は、実施形態１７の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６７に示す光モジュール１６７は、上述した実施形態１７の遮蔽部７６５に換えて、遮蔽部７６７を備える。

遮蔽部７６７は、レンズ４００と受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々と結ぶ直線上におけるベース部２の位置に樹脂を塗布して***させることによって壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態１７の変形例２によれば、遮蔽部７６７をレンズ４００と受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々とを結ぶ直線上におけるベース部２の位置に塗布して***させることによって壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態１７の変形例３）
次に、実施形態１７の変形例３について説明する。図６８は、実施形態１７の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６８に示す光モジュール１６８は、上述した実施形態１７の遮蔽部７６５に換えて、遮蔽部７６８を備える。

遮蔽部７６８は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と逆方向の側面に樹脂が塗布されて壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態１７の変形例３によれば、遮蔽部７６８を受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と逆方向の側面に樹脂を塗布して壁状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態１８）
次に、実施形態１８について説明する。図６９は、実施形態１８に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図６９に示す光モジュール１６９は、上述した実施形態１６の変形例３の波長検出用素子１４００に換えて、波長検出用素子１４４９およびエタロンフィルタ１０４９を備える。

以上説明した実施形態１８によれば、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態１８の変形例１）
次に、実施形態１８の変形例１について説明する。図７０は、実施形態１８の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す図である。図７０に示す光モジュール１７０は、上述した実施形態１８の波長検出用素子１４４９に換えて、波長検出用フィルタ１８００を備える。さらに、光モジュール１７０は、上述した遮蔽部７００および遮蔽部７３５に換えて、遮蔽部７７０を備える。

遮蔽部７７０は、受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と逆方向の側面に樹脂が塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１８の変形例１によれば、遮蔽部７７０を受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００の各々の受光面と逆方向の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に入射する迷光を抑制することができる。

（実施形態１８の変形例２）
次に、実施形態１８の変形例２について説明する。図７１は、実施形態１８の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す図である。図７１に示す光モジュール１７１は、上述した実施形態１８の遮蔽部７００、遮蔽部７３５、波長検出用素子１４４９およびエタロンフィルタ１０４９に換えて、遮蔽部７７１、エタロンフィルタ１０７１および波長検出用素子１４００を備える。

遮蔽部７７１は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７７１は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７７１は、エタロンフィルタ１０７１の側壁に塗布されて配置される。遮蔽部７７１は、レーザ光Ｌ２の光路上の近傍であるエタロンフィルタ１０７１の側壁に樹脂が塗布されて配置される。

エタロンフィルタ１０７１は、結合レンズ１３００から入射されたレーザ光Ｌ２を受光素子１７００へ透過するとともに、レーザ光Ｌ２の一部を波長検出用素子１４００へ反射する。

波長検出用素子１４００は、レーザ光Ｌ２の一部を受光素子１５００へ入射させるとともに、残りのレーザ光Ｌ２を受光素子１６００へ入射させる。

（実施形態１８の変形例３）
次に、実施形態１８の変形例３について説明する。図７２Ａは、実施形態１８の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７２Ａに示す光モジュール１７２は、上述した実施形態１８の変形例２の遮蔽部７７１および波長検出用素子１４００に換えて、遮蔽部７７２および波長検出用フィルタ１８００を備える。

遮蔽部７７２は、ベース部２内で反射または散乱することによって生じる迷光が受光素子６００に入射することを抑制する。遮蔽部７７２は、迷光を反射する光反射体、迷光を散乱する光散乱体および光を吸収する光吸収体のいずれかを用いて構成される。遮蔽部７７２は、レンズ４００と受光素子１５００および受光素子１６００とを結ぶ直線上における位置に樹脂を塗布して***させることによって壁状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態１８の変形例３によれば、遮蔽部７７２をレンズ４００と受光素子１５００および受光素子１６００とを結ぶ直線上における位置に樹脂を塗布して***させることによって壁状に形成させたので、簡易な構成で受光素子１５００および受光素子１６００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１８の変形例４）
次に、実施形態１８の変形例４について説明する。図７２Ｂは、実施形態１８の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７２Ｂに示す光モジュール１７２Ａは、導波路素子２１００と、受光素子２２００と、遮蔽部７７２Ａと、を備える。

遮蔽部７７２Ａは、導波路素子２１００の上面に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７７２Ａは、光モジュール１７２Ａ外に配置されたファイバ２０００を介して図示しない外部光源から出射されたレーザ光が入射される導波路素子２１００の入射端と逆方向の上面に樹脂が塗布することによって配置される。

以上説明した実施形態１８の変形例４によれば、遮蔽部７７２Ａを光モジュール１７２Ａ外に配置されたファイバ２０００を介して図示しない外部光源から出射されたレーザ光が入射される導波路素子２１００の入射端と逆方向の上面に樹脂が塗布することによって配置したので、簡易な構成で受光素子２２００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１８の変形例５）
次に、実施形態１８の変形例５について説明する。図７２Ｃは、実施形態１８の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７２Ｃに示す光モジュール１７２Ｂは、導波路素子２１００と、受光素子２２００と、遮蔽部７７２Ａと、を備える。

遮蔽部７７２Ａは、導波路素子２１００の上面に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７７２Ａは、光モジュール１７２Ｂ外に配置されたファイバ２０００を介して図示しない外部光源から出射されたレーザ光が入射される導波路素子２１００の入射端と逆方向の上面に樹脂が塗布することによって配置される。

以上説明した実施形態１８の変形例５によれば、上述した実施形態１８の変形例４と同様に、遮蔽部７７２Ａを光モジュール１７２Ｂ外に配置された外部光源２３００から出射されたレーザ光が入射される導波路素子２１００の入射端と逆方向の上面に樹脂が塗布することによって配置したので、簡易な構成で受光素子２２００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１９）
次に、実施形態１９について説明する。図７３は、実施形態１９に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７３に示す光モジュール１７３は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７７３を備える。

遮蔽部７７３は、ビームスプリッタ８０８がレーザ光Ｌ１を出射するビームスプリッタ８０８の出射端またはレンズ４００から入射するビームスプリッタ８０８の入射端以外を樹脂で塗布または黒色の色素によって染色することによって形成される。具体的には、図７４に示すように、遮蔽部７７３は、レーザ光Ｌ１の光路以外を樹脂によって塗布することによって配置または黒色の色素や塗料によって塗りつぶすことによって形成されることによって配置される。この場合、遮蔽部７７３は、ビームスプリッタ８０８がレーザ光Ｌ１を出射するビームスプリッタ８０８の出射端またはレンズ４００から入射するビームスプリッタ８０８の入射端以外を無電界ニッケルメッキ処理またはレイデント処理を施すことによって黒色に塗りつぶすことによって形成される。

以上説明した実施形態１９によれば、遮蔽部７７３をレーザ光Ｌ１の光路以外を樹脂によって塗布することによって配置または黒色の色素や塗料によって塗りつぶすことによって形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態１９の変形例１）
次に、実施形態１９の変形例１について説明する。図７５は、実施形態１９の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７５に示す光モジュール１７５は、上述した実施形態１９の遮蔽部７７３に換えて、遮蔽部７７５を備える。

遮蔽部７７５は、発光素子３００およびレンズ４００の側面に塗布されて形成される。具体的には、遮蔽部７７５は、発光素子３００およびレンズ４００におけるレーザ光Ｌ１の光路以外である発光素子３００およびレンズ４００に塗布されて配置される。

以上説明した実施形態１９の変形例１によれば、遮蔽部７７５を発光素子３００およびレンズ４００におけるレーザ光Ｌ１の光路以外である発光素子３００およびレンズ４００に塗布して配置したので、簡易な構成で発光素子３００およびレンズ４００の各々で生じる迷光を遮光することができる。

（実施形態２０）
次に、実施形態２０について説明する。図７６は、実施形態２０に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７６に示す光モジュール１７６は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７７６を備える。

遮蔽部７７６は、ビームスプリッタ８０８がレーザ光Ｌ１を出射するビームスプリッタ８０８の出射端またはレンズ４００から入射するビームスプリッタ８０８の入射端以外を樹脂で覆うことによって形成される。具体的には、遮蔽部７７６は、ビームスプリッタ８０８のレーザ光Ｌ１の光路以外を樹脂で覆うように形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２０によれば、遮蔽部７７６をビームスプリッタ８０８がレーザ光Ｌ１を出射するビームスプリッタ８０８の出射端またはレンズ４００から入射するビームスプリッタ８０８の入射端以外を樹脂で覆うことによって形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８および受光素子１１００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態２０の変形例１）
次に、実施形態２０の変形例１について説明する。図７７は、実施形態２０の変形例１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７７に示す光モジュール１７７は、上述した実施形態２０の遮蔽部７７６に換えて、遮蔽部７７７を備える。

遮蔽部７７７は、エタロンフィルタ１０００と受光素子１１００との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように樹脂の遮蔽部材によって筒状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２０の変形例１によれば、遮蔽部７７７をエタロンフィルタ１０００と受光素子１１００との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように筒状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子１１００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態２０の変形例２）
次に、実施形態２０の変形例２について説明する。図７８は、実施形態２０の変形例２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図７８に示す光モジュール１７８は、上述した実施形態２０の遮蔽部７７６に換えて、遮蔽部７７８を備える。

遮蔽部７７８は、ビームスプリッタ８０８のレーザ光Ｌ１の出射端と受光素子６０８の受光面との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように樹脂の遮蔽部材によって筒状に形成されることによって配置される。具体的には、図７９に示すように、遮蔽部７７８は、ビームスプリッタ８０８のレーザ光Ｌ１の出射端と受光素子６０８の受光面との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように樹脂の遮蔽部材によって筒状に形成されることによって配置される。具体的には、遮蔽部７７８は、ビームスプリッタ８０８におけるレーザ光Ｌ１の光路を除くビームスプリッタ８０８の表面を覆うように筒状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２０の変形例２によれば、遮蔽部７７８をビームスプリッタ８０８のレーザ光Ｌ１の出射端と受光素子６０８の受光面との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように筒状に形成することによって配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態２０の変形例３）
次に、実施形態２０の変形例３について説明する。図８０Ａは、実施形態２０の変形例３に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図８０Ａに示す光モジュール１８０は、上述した実施形態２０の遮蔽部７７６に換えて、遮蔽部７８０を備える。

遮蔽部７８０は、発光素子３００とレンズ４００との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように樹脂の遮蔽部材によって筒状に形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２０の変形例３によれば、遮蔽部７８０を発光素子３００とレンズ４００との区間におけるレーザ光Ｌ１の光路を覆うように筒状に形成することによって配置したので、発光素子３００およびレンズ４００から出射される迷光を簡易な構成で抑制することができる。

（実施形態２０の変形例４）
次に、実施形態２０の変形例４について説明する。図８０Ｂは、実施形態２０の変形例４に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図８０Ｂに示す光モジュール１８０Ｂは、発光素子３３４がレーザ光Ｌ１を出射する出射方向に、レンズ４００、光アイソレータ９００およびビームスプリッタ８００の順でベース部２内に配置される。さらに、光モジュール１８０Ｂは、発光素子３３４がレーザ光Ｌ２を出射する出射方向に、結合レンズ１３００、波長検出用素子１４００および各受光素子（受光素子１５００、受光素子１６００、受光素子１７００）がベース部２内に配置される。さらに、光モジュール１８０Ｂは、遮蔽部７８０Ｂを備える。

遮蔽部７８０Ｂは、波長検出用素子１４００において発光素子３３４からのレーザ光Ｌ２が入射する入射端および波長検出用素子１４００がレーザ光を出射する出射端以外を樹脂で覆うことによって形成されることによって配置される。具体的には、遮蔽部７８０Ｂは、レーザ光Ｌ２の光路以外を樹脂で覆うように形成されることによって配置される。

以上説明した実施形態２０の変形例４によれば、遮蔽部７８０Ｂが波長検出用素子１４００において発光素子３３４からのレーザ光Ｌ２が入射する入射端および波長検出用素子１４００がレーザ光を出射する出射端以外を樹脂で覆うことによって形成されることによって配置されるので、簡易な構成で受光素子１５００、受光素子１６００および受光素子１７００に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態２０の変形例５）
次に、実施形態２０の変形例５について説明する。図８０Ｃは、実施形態２０の変形例５に係る光モジュールの構成を模式的に示す側面図である。図８０Ｃに示す光モジュール１８０Ｃは、導波路素子３０００と、受光素子６０８と、遮蔽部７８０Ｃと、を備える。

導波路素子３０００は、内部に導波路３００１と、クラッド３００２と、を有する。導波路３００１は、外部から入射された入射光を受光素子６０８へ出射する。

遮蔽部７８０Ｃは、導波路素子３０００の上面全体を覆うように導波路素子３０００の上面全体に形成されることによって配置される。

このように構成された光モジュール１８０Ｃは、入射光で導波路３００１に結合しなかった光がクラッド３００２内を進行して迷光となる場合と、例えば光モジュール１８０Ｃ内で反射した光が導波路３００１内に入り込んで迷光となる場合と、を防止することができる。さらに、クラッド３００２内を進行する光は、クラッド３００２と空気の界面で反射して導波路素子３０００外へ逃げず進むので、吸収性の遮蔽部７８０Ｃが導波路素子３０００に設けられているので、反射せず吸収されたり、乱反射して受光素子６０８までに減衰したりする。さらに、図８０Ｄに示す光モジュール１８０Ｄのように、遮蔽部７８０Ｄを、導波路素子３０００の一部部分を覆うように形成してもよい。

以上説明した実施形態２０の変形例５によれば、遮蔽部７８０Ｃを導波路素子３０００の上面全体を覆うように導波路素子３０００の上面全体に形成することによって配置したので、入射光で導波路３００１に結合しなかった光がクラッド３００２内を進行して迷光となる場合と、例えば光モジュール７８０Ｃ内で反射した光が導波路３００１内に入り込んで迷光となる場合と、を防止することができる。

（実施形態２１）
次に、実施形態２１について説明する。図８１は、実施形態２１に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図８１に示す光モジュール１８１は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７８１を備える。

遮蔽部７８１は、発光素子３００から出射される迷光の経路上であるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂が塗布されて形成される。この場合、図８２に示すように、遮蔽部７８１は、ビームスプリッタ８０８の側面の両端に塗布されて配置される。これにより、ビームスプリッタ８０８のバランスが一方に傾くことを抑制することができる。

以上説明した実施形態２１によれば、遮蔽部７８１を発光素子３００から出射される迷光の経路上であるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂を塗布して配置したので、簡易な構成で受光素子６０８に迷光が入射することを抑制することができる。

（実施形態２１の変形例１）
なお、実施形態２１では、遮蔽部７８１をベース部２に接触するように塗布して形成していたが、図８３に示す遮蔽部７８２のように、ベース部２に接触しないようにビームスプリッタ８０８に塗布して形成してもよい。

（実施形態２１の変形例２）
また、実施形態２１では、図８４に示す遮蔽部７８３のように、ビームスプリッタ８０８の側面を全て樹脂で塗布して形成するようにしてもよい。

（実施形態２２）
次に、実施形態２２について説明する。図８５は、実施形態２２に係る光モジュールの構成を模式的に示す平面図である。図８５に示す光モジュール１８５は、上述した実施形態３に係る光モジュール１０８の遮蔽部７００に換えて、遮蔽部７８５を備える。

遮蔽部７８５は、発光素子３００とビームスプリッタ８０８との光路上におけるビームスプリッタ８０８の側面に樹脂が塗布されて配置される。この樹脂は、フィラー粒子を有すことが好ましい。この場合、フィラー粒子は、０．１～５００μｍである。これにより、迷光が入射することを抑制することができる。さらに、フィラー粒子を添加したことによって、図８６に示すように、遮蔽部７８５は、表面に凹凸が形成される場合がある。この場合、表面の凹凸での散乱により、迷光が入射することをより抑制することができる。なお、表面の凹凸は、フィラー粒子のサイズで調整可能である。

以上説明した実施形態２２によれば、遮蔽部７８５をフィラー粒子が添加された樹脂によって形成することによって配置したので、表面に凹凸が形成される場合、この表面の凹凸での散乱により、迷光が入射することをより抑制することができる。

なお、実施形態２２では、遮蔽部７８５を樹脂によって形成していたが、これに限定されることなく、例えばビームスプリッタ８０８の側面に対して、金属コーティング膜を施す金属コーティング処理を行って迷光を遮蔽してもよいし、誘電体多層膜を施すコーティング処理を行って迷光を遮蔽してもよい。もちろん、ビームスプリッタ８０８の側面に対して、鏡面処理を行って反射部材を形成するようにしてもよい。さらに、ビームスプリッタ８０８の側面に遮光性シール、レーザ保護シートを塗布してもよい。さらにまた、ビームスプリッタ８０８に対してＡＲコーティング処理やＨＲコーティング処理を行ってもよい。さらにまた、ビームスプリッタ８０８の側面に対して研磨処理を行うことによってスリガラスを形成するようにしてもよい。もちろん、上述した実施形態１～２１において、迷光の光路上に位置する部材や光学部材に対して、上述した金属コーティング処理、コーティング処理、鏡面処理、遮光性シールやレーザ保護シートの塗布、ＡＲコーティング処理、ＨＲコーティング処理および研磨処理のいずれか１つ以上を行ってもよい。

（その他の実施形態）
また、上述した実施形態１～２１では、フィラー粒子が添加された樹脂を用いて遮蔽部を形成する場合において、上述した実施形態２２と同様に、遮蔽部の表面に凹凸が形成されるときがある。このとき、表面の凹凸での散乱により、迷光が入射することをより抑制することができる。もちろん、表面の凹凸は、フィラー粒子のサイズで調整可能である。

また、さらに、上述した実施形態１～２２でモジュール内の発光素子から出射されたレーザ光を用いずに、外部光源から出射されたレーザ光をモジュール内に導入することも可能である。この場合は、空間的または光ファイバを通してモジュール内に外部光源から出射されたレーザ光を導入すればよい。

なお、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。

以上、本願の実施形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、本発明の開示の欄に記載の態様を始めとして、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。

２ ベース部
１０１～１７２，１７２Ａ，１７２Ｂ，１７３～１８０，１８０Ｂ，１８０Ｂ，１８０Ｃ，１８１，１８５ 光モジュール
３００，３３４ 発光素子
４００ レンズ
５００ 光ファイバ
６００，６０８，１１００，１５００，１６００，１７００， 受光素子
７００～７０２，７０５，７０６，７０９，７１０，７１３～７１５，７１７～７２１，７２３～７２５，７２７～７２９，７３１～７３７，７４１～７４４，７４９～７５３，７５７，７６１，７６２，７６６～７６８，７７１～７７２，７７２Ａ，７７３，７７５～７７８，７８０，７８０Ｂ，７８０Ｃ，７８０Ｄ，７８２，７８３，７８５ 遮蔽部
８００，８０８，８１６，８２２，８２６，８３０，８３４ ビームスプリッタ
９００ 光アイソレータ
１０００，１０４１，１０４３，１０４９ エタロンフィルタ
１２００ 反射部材
１３００ 結合レンズ
１４００，１４４１，１４４３，１４４９ 波長検出用素子
１８００，１８４４ 波長検出用フィルタ
２１００，３０００ 導波路素子
Ｌ１，Ｌ２ レーザ光

Claims (17)

1. 光学部品と、光学部品を介してレーザ光を受光する受光素子と、をパッケージ内に収容した光モジュールであって、
   前記レーザ光および前記光学部品を介して出射される前記レーザ光の少なくとも一方が前記パッケージ内または前記光学部品で反射または散乱することによって生じる迷光が前記受光素子に入射することを抑制する遮蔽部を備え、
   前記光学部品は、
   レンズ、ビームスプリッタ、ミラー、光アイソレータ、エタロンフィルタ、波長検出用フィルタおよび導波路素子のいずれか１つ以上を含み、
   前記遮蔽部は、
   光反射体、光散乱体または光吸収体によって構成され、かつ、前記レーザ光の光路を除く前記光学部品の側面に樹脂が塗布されて配置され、
   前記光学部品の側面は、
   前記レーザ光が前記光学部品を伝搬する方向と平行な面である、
   ことを特徴とする光モジュール。
2. 前記光学部品に向けて前記レーザ光を出射する発光素子をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
3. 前記レーザ光は、外部光源から出射され、当該光モジュールに入射することを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
4. 前記遮蔽部は、前記光学部品の表面に配置されることを特徴とする請求項１～３のいずれか一つに記載の光モジュール。
5. 前記光学部品は、前記パッケージ内に複数設けられ、
   前記遮蔽部は、
   複数の前記光学部品の中で前記発光素子が出射する前記レーザ光の光路中において最も前記発光素子に近い位置に配置された第１の光学部品と、前記受光素子との間に配置されることを特徴とする請求項２に記載の光モジュール。
6. 前記第１の光学部品は、レンズであることを特徴とする請求項５に記載の光モジュール。
7. 前記遮蔽部は、
   複数の前記光学部品の中から前記第１の光学部品を除いた他の前記光学部品の少なくとも１つと、前記受光素子との間にさらに配置されていることを特徴とする請求項５または６に記載の光モジュール。
8. 前記光学部品、前記発光素子および前記受光素子が載置されるベース部をさらに備え、
   前記遮蔽部は、少なくとも前記発光素子と前記受光素子とを結ぶ直線上における前記ベース部の位置に***させて壁状に形成されることを特徴とする請求項２に記載の光モジュール。
9. 前記遮蔽部は、前記レーザ光の光路を除く前記光学部品の表面を覆うように樹脂を塗布されることを特徴とする請求項１～８のいずれか一つに記載の光モジュール。
10. 前記光反射体は、金属コーティング膜であることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
11. 前記光反射体は、誘電体多層膜であることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
12. 前記光反射体は、鏡面処理された反射部材であることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
13. 前記光散乱体または前記光吸収体は、遮光性の樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
14. 前記遮光性の樹脂は、フィラー粒子を有し、
    前記フィラー粒子の大きさは、０．１～５００μｍであることを特徴とする請求項１３に記載の光モジュール。
15. 前記遮蔽部は、表面が凹凸に形成されていることを特徴とする請求項１～９のいずれか一つに記載の光モジュール。
16. 前記遮蔽部は、無電界ニッケルメッキ処理が施されて形成されていることを特徴とする請求項１～９のいずれか一つに記載の光モジュール。
17. 当該光モジュールは、波長帯域が９００～１６５０ｎｍであることを特徴とする請求項１～１６のいずれか一つに記載の光モジュール。

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