JP7306675B2 - 2次元フォトニック結晶面発光レーザ - Google Patents
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Description
a) 活性層と、
b) 前記活性層の一方の側に配置された板状の母材に設けられた、
b-1) 第1の2次元フォトニック結晶領域である、逆格子空間の所定の点においてバンド端を有する2つのフォトニックバンド間に形成されるフォトニックバンドギャップである増幅部フォトニックバンドギャップを有する2次元フォトニック結晶光増幅部と、
b-2) 前記2次元フォトニック結晶光増幅部の周囲に設けられた第2の2次元フォトニック結晶領域である、逆格子空間の前記所定の点においてバンド端を有する2つのフォトニックバンド間に形成されるフォトニックバンドギャップである反射部フォトニックバンドギャップを有する2次元フォトニック結晶光反射部と
を有するフォトニック結晶層と
を備え、前記増幅部フォトニックバンドギャップと前記反射部フォトニックバンドギャップのエネルギー範囲が一部重複し且つ異なる。
(1-1) 第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザの構成
第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10は、図1に示すように、第1電極191、第1クラッド層141、活性層11、スペーサ層13、フォトニック結晶層12、第2クラッド層142、及び第2電極192がこの順で積層された構成を有する。但し、活性層11とフォトニック結晶層12の順番は、上記のものとは逆であってもよい。図1では便宜上、第1電極191を下側、第2電極192を上側として示しているが、使用時における2次元フォトニック結晶面発光レーザ10の向きは、この図で示したものは限定されない。また、図1では第1電極191を他の構成要素と離して示しているが、実際には第1クラッド層141の下面に接触している。
次に、第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10の動作を説明する。
第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10につき、その特性を計算で求めた結果を説明する。この計算では、フォトニック結晶層12に異屈折率領域をx方向に80個、y方向に80個配置し、それら異屈折率領域のうち中央付近に縦方向に20個、横方向に20個配置したものを第1異屈折率領域122とし、それら以外の異屈折率領域を第2異屈折率領域124とした。正方格子の格子定数aは280nmとした。第1副異屈折率領域1222の位置は、第1主異屈折率領域1221からx方向に0.44a、y方向に0.44aずらした位置とした。このように、第1主異屈折率領域1221からx方向に0.35a~0.5a、y方向に0.35a~0.5aずらした位置に第1副異屈折率領域1222を配置することにより、フォトニック結晶層12内で増幅される光の帰還効果が強められる。第2副異屈折率領域1242の位置も同様に、第2主異屈折率領域1241からx方向に0.44a、y方向に0.44aずらした位置とした。FFは、第1主異屈折率領域1221では0.09(9%)、第1副異屈折率領域1222では0.03(3%)、第2主異屈折率領域1241では0.06(6%)、第2副異屈折率領域1242では0.03(3%)とした。従って、第1異屈折率領域122のFFは0.12(12%)、第2異屈折率領域124のFFは0.09(9%)である。フォトニック結晶層12の厚みは170nm、フォトニック結晶層12と活性層11の距離は60nmとした。以上のパラメータを有する第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10を「第1実施例」とする。
次に、第1実施形態の変形例である2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Aを説明する。この2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Aは、前述のフォトニック結晶層12の代わりに、図10に平面図で示す構成を有するフォトニック結晶層12Aを備える。フォトニック結晶層12A以外の構成は第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10と同じである。フォトニック結晶層12Aは、板状の母材121と、母材121のうちの中央付近の正方形の領域内に周期長aで正方格子状に配置されている第1異屈折率領域122Aと、該正方形の領域の外側に周期長aで正方格子状に配置されている第2異屈折率領域124Aとを有する。前記正方形の領域内は2DPC光増幅部123Aに該当し、該正方形の領域の外側の第2異屈折率領域124Aが配置されている領域内は2DPC光反射部125Aに該当する。第1異屈折率領域122Aは、第1主異屈折率領域1221Aと、該第1主異屈折率領域1221AよりもFFが小さい第1副異屈折率領域1222Aとを有する。また、第2異屈折率領域124Aは、第2主異屈折率領域1241Aと、該第2主異屈折率領域1241AよりもFFが小さい第2副異屈折率領域1242Aとを有する。第2主異屈折率領域1241Aは、第1主異屈折率領域1221Aよりも体積が大きい(面積が大きく厚みが同じである)。第2副異屈折率領域1242Aと第1副異屈折率領域1222Aは、体積(面積及び厚み)が同じである。従って、第2異屈折率領域124Aは第1異屈折率領域122AよりもFFが大きい。このFFの点で、変形例は第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10と相違する。
(2-1) 第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザの構成及び動作
第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Cは、第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10におけるフォトニック結晶層12の代わりに、以下に述べるフォトニック結晶層12Cを備える。フォトニック結晶層12C以外の構成は、第1実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10と同様である。
第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Cにつき、その特性を計算で求めた結果を説明する。この計算では、フォトニック結晶層12Cに異屈折率領域をx方向に80個、y方向に80個配置し、それら異屈折率領域のうち中央付近に縦方向に20個、横方向に20個配置したものを第1異屈折率領域122Cとし、それら以外の異屈折率領域を第2異屈折率領域124Cとした。正方格子の格子定数aは280nmとした。第1副異屈折率領域1222Cの位置は、第1主異屈折率領域1221Cからx方向に0.44a、y方向に0.44aずらした位置とした。第1異屈折率領域122CにおけるFFは、第1主異屈折率領域1221Cでは0.09(9%)、第1副異屈折率領域1222Cでは0.03(3%)、全体では0.12(12%)とした。第2異屈折率領域124CにおけるFFは、第2主異屈折率領域1241Cでは0.05(5%)、第2副異屈折率領域1242C、1243C及び1244Cではそれぞれ0.03(3%)、0.02(2%)及び0.02(2%)とし、全体では0.12(12%)とした。フォトニック結晶層12の厚みは170nm、フォトニック結晶層12と活性層11の距離は60nmとした。以上のパラメータを有する第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Cを「第2実施例」とする。
次に、第2実施形態の変形例である2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Dを説明する。この2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Dでは、図18に示すように、フォトニック結晶層12Dは、第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Cにおける第1異屈折率領域122Cの形状と第2異屈折率領域124Cの形状を入れ替えたものに相当する構成を有する。それ以外の構成は第2実施形態の2次元フォトニック結晶面発光レーザ10Cと同様である。本変形例では、第1異屈折率領域には符号122Dを付し、第2異屈折率領域には符号124Dを付す。また、2DPC光増幅部には符号123Dを付し、2DPC光反射部には符号125Dを付す。
第1及び第2実施形態では、2DPC光増幅部が小さい場合において、増幅部PBGと反射部PBGのエネルギー範囲の相違を利用して、2DPC光増幅部内で増幅される光を2DPC光反射部で強く反射させる例を示した。それに対して第3実施形態では、2DPC光増幅部が大きい場合において、増幅部PBGと反射部PBGのエネルギー範囲の相違を利用して、2DPC光増幅部から2DPC光反射部へ光を侵入させ、反射強度を弱めることを検討する。
11…活性層
111…電流注入領域
12、12A、12B、12C、12D、22…フォトニック結晶層
1201、223…光導入領域
121…母材
122、122A、122B、122C、122D…第1異屈折率領域
1221、1221A、1221C…第1主異屈折率領域
1222、1222A、1222C…第1副異屈折率領域
123、123A、123B、123C、123D…2DPC光増幅部
124、124A、124B、124C、124D…第2異屈折率領域
1241、1241A、1241C…第2主異屈折率領域
1242、1242A、1242C、1243C、1244C…第2副異屈折率領域
125、125A、125B、125C、125D…2DPC光反射部
13…スペーサ層
141…第1クラッド層
142…第2クラッド層
15、15A、15C、15D…増幅部PBG
16、16A、16C、16D…反射部PBG
17、17A…増幅部PBGと反射部PBGの重複範囲
181、181A、181C、181D、182、182A、182C、182D、281、283…バンド端
191、291…第1電極
192、292…第2電極
1921…窓部
1922…枠部
222、224…異屈折率領域
225…非光導入領域
25…光導入領域におけるPBG
26…非光導入領域におけるPBG
Claims (5)
- a) 電流が注入されることによって光が生じる活性層と、
b) 前記活性層に直接又は他の層を介して積層された板状の母材に設けられた、
b-1) 前記母材とは屈折率が異なる第1異屈折率領域が周期的に2次元状に配置された、前記活性層で生じた光が導入される第1の2次元フォトニック結晶領域である、逆格子空間の所定の点においてバンド端を有する2つのフォトニックバンド間に形成されるフォトニックバンドギャップである光導入領域フォトニックバンドギャップを有する光導入領域と、
b-2) 前記光導入領域の周囲に設けられ、前記母材とは屈折率が異なる第2異屈折率領域が前記光導入領域と同じ格子構造で2次元状に配置された第2の2次元フォトニック結晶領域であって、前記光導入領域とは前記格子構造以外のフォトニック結晶の構造が異なり、逆格子空間の前記所定の点においてバンド端を有する2つのフォトニックバンド間に形成されるフォトニックバンドギャップである非光導入領域フォトニックバンドギャップを有する非光導入領域と
を有するフォトニック結晶層と
を備え、
前記光導入領域フォトニックバンドギャップと前記非光導入領域フォトニックバンドギャップのエネルギー範囲が一部重複し且つ異なり、
前記活性層に注入される電流が前記光導入領域に注入されたとき、前記光導入領域フォトニックバンドギャップの下端のエネルギーが前記非光導入領域フォトニックバンドギャップの下端のエネルギーを超えない
2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 個々の前記第1異屈折率領域の体積が、個々の前記第2異屈折率領域の体積よりも小さい、
請求項1に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記光導入領域に前記第1異屈折率領域が配置される周期長が、前記非光導入領域に前記第2異屈折率領域が配置される周期長よりも長い、
請求項1又は2に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記非光導入領域は、前記第1異屈折率領域が第1の所定周期長で配置されており、
前記光導入領域は、前記母材とは屈折率が異なる主異屈折率領域が前記非光導入領域と同じ格子構造で第2の所定周期長で配置されていると共に最隣接する2個の主異屈折率領域の間に該主異屈折率領域よりも体積が小さく前記母材とは屈折率が異なる副異屈折率領域が配置され、該主異屈折率領域及び該副異屈折率領域により前記第2異屈折率領域が構成されている、
請求項1~3のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記光導入領域は、前記母材とは屈折率が異なり非円形の平面形状を有する前記第1異屈折率領域が周期的に2次元状に配置されている、請求項1~4のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
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