JP7282640B2 - 基板処理装置、および、基板処理方法 - Google Patents
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Description
以下、本実施の形態に関する基板処理装置、および、基板処理方法について説明する。
図1は、本実施の形態に関する基板処理装置100の全体構成の例を示す図である。図1に例が示されるように、基板処理装置100は、処理対象である基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の処理装置である。なお、処理対象となる基板には、たとえば、半導体基板、液晶表示装置用基板、有機EL(electroluminescence)表示装置などのflat panel display(FPD)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、または、太陽電池用基板などが含まれる。
基板処理装置100における基板Wの通常の処理は、順に、主搬送ロボット103がインデクサ102から受け取った処理対象の基板Wを各洗浄処理ユニット1に搬入する工程、当該洗浄処理ユニット1が基板Wに基板処理を行う工程、および、主搬送ロボット103が当該洗浄処理ユニット1から処理済みの基板Wを搬出してインデクサ102に戻す工程を含む。
次に、図8、図9および図10を参照しつつ、本実施の形態に関する基板処理装置による、ノズルの位置検出について説明する。本実施の形態におけるノズル30は、図4などに例が示されたように移動可能であるため、以下では、移動するノズル30の位置検出が必要となる。
それぞれのマッチングウィンドウにおけるノズル30の画像は、カメラ70からの距離または角度などによって異なる。そのため、当該画像との比較に用いるテンプレートマッチング用の基準画像データ(すなわち、それぞれのマッチングウィンドウにおける吐出ヘッド31の画像データ)は、それぞれのマッチングウィンドウごとに対応させて登録することが望ましい。
位置ずれ検出部91は、上記のように検出された移動するノズル30の位置を用いて、当該位置の基準位置に対する位置ずれを検出することができる。基準位置は、たとえば、レシピなどにしたがってあらかじめ定められるノズル30の座標位置である。
次に、図14、図15および図16を参照しつつ、ノズルから処理液が吐出されているか否かを判定する吐出判定について説明する。ここで、図14は、吐出判定のための判定領域301の例を示す図である。
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。
9 制御部
10 チャンバー
11 側壁
12 天井壁
13 床壁
14 FFU
15 仕切板
18 排気ダクト
20 スピンチャック
21 スピンベース
21a 保持面
22 スピンモータ
23 カバー部材
24 回転軸
25 鍔状部材
26 チャックピン
28 下面処理液ノズル
30,60,65 ノズル
31 吐出ヘッド
32,62,67 ノズルアーム
33,63,68 ノズル基台
40 処理カップ
41 内カップ
42 中カップ
43 外カップ
43a,52a 下端部
43b,47b,52b 上端部
43c,52c 折り返し部
44 底部
45 内壁部
46 外壁部
47 第1案内部
48 中壁部
49 廃棄溝
50 内側回収溝
51 外側回収溝
52 第2案内部
53 処理液分離壁
70 カメラ
71 照明部
90 位置検出部
91 位置ずれ検出部
92 コマンド送信部
94 吐出判定部
95 表示部
96 入力部
100 基板処理装置
102 インデクサ
103 主搬送ロボット
201A,202A,302 ROI
201,202 マッチングウィンドウ
301 判定領域
332 モータ
400 処理液
1102A,1102B 処理回路
1103 記憶装置
Claims (5)
- 揺動可能であり、かつ、基板に対し処理液を吐出するためのノズルと、
前記ノズルを撮像し、かつ、前記ノズルの画像データを出力するための撮像部と、
前記画像データに基づいて、前記ノズルの位置を検出するための位置検出部とを備え、
前記ノズルの揺動可能な範囲には、前記ノズルが停止する停止領域と、前記ノズルが移動する移動領域とがそれぞれ少なくとも1つずつ含まれ、
前記位置検出部は、
前記停止領域において、前記画像データを、基準画像データを用いてマッチング処理することによって、前記ノズルの位置を検出し、
前記移動領域において、前記停止領域において検出された前記ノズルの位置を基準として、連続する前記画像データ間でトラッキング処理することによって、前記ノズルの位置を検出する、
基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であり、
前記ノズルの揺動可能な範囲に、前記停止領域が複数含まれ、
前記基準画像データは、それぞれの前記停止領域に応じて設定される、
基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であり、
前記位置検出部は、
前記ノズルの位置に対応するターゲット領域と、前記ターゲット領域の直下に位置し、かつ、前記ノズルから吐出される前記処理液の吐出の有無を判定するための判定領域とを設定し、
前記マッチング処理および前記トラッキング処理に連動させて、前記ターゲット領域の大きさおよび前記判定領域の大きさを変更する、
基板処理装置。 - 請求項1から3のうちのいずれか1つに記載の基板処理装置であり、
前記位置検出部によって検出された前記ノズルの位置と、あらかじめ測定された前記ノズルの基準位置とを比較することによって、前記ノズルの位置ずれを検出する位置ずれ検出部をさらに備える、
基板処理装置。 - 揺動可能であり、かつ、基板に対し処理液を吐出するためのノズルを撮像し、かつ、前記ノズルの画像データを出力する工程と、
前記画像データに基づいて、前記ノズルの位置を検出する工程とを備え、
前記ノズルの揺動可能な範囲には、前記ノズルが停止する停止領域と、前記ノズルが移動する移動領域とがそれぞれ少なくとも1つずつ含まれ、
前記ノズルの位置を検出する工程は、
前記停止領域において、前記画像データを、基準画像データを用いてマッチング処理することによって、前記ノズルの位置を検出する工程と、
前記移動領域において、前記停止領域において検出された前記ノズルの位置を基準として、連続する前記画像データ間でトラッキング処理することによって、前記ノズルの位置を検出する工程とを含む、
基板処理方法。
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