JP7264751B2 - 検査装置及び検査方法 - Google Patents
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Description
本実施形態の検査装置は、被検査試料上に形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行う照射源と、照射により第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得する検出回路と、第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、第1の輪郭に垂直な方向に第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得するフィルタ回路と、第2の検査画像と所定の基準画像とを比較する比較回路と、を備える。
本実施形態の検査装置は、モールドの第2のパターンをウェハ上に転写して形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行う照射源と、照射により前記第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得する検出回路と、第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、第1の輪郭に垂直な方向に第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得するフィルタ回路と、第2の検査画像と所定の基準画像を比較する比較回路と、を備える検査装置である。
本実施形態の検査装置においては、第2のパターンは、光ナノインプリント法によりウェハ上に転写されている。ここで、第1の実施形態および第2の実施形態と重複する内容については、記載を省略する。
本実施形態の検査装置は、自己組織化リソグラフィにより形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行う照射源と、照射により第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得する検出回路と、第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、第1の輪郭に垂直な方向に第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得するフィルタ回路と、第2の検査画像と所定の基準画像を比較する比較回路と、を備える。
本実施形態の検査装置は、被検査試料であるフォトマスク上に形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行う照射源と、照射により前記第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得する検出回路と、第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、第1の輪郭に垂直な方向に第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得するフィルタ回路と、第2の検査画像と所定の基準画像を比較する比較回路と、を備える検査装置である。
11 点
20 マルチ1次電子ビーム
22 穴
28,36 画素
29 サブ照射領域
33 マスクダイ
34 照射領域
36 画素
90 局所領域
100 検査装置
101 基板(被検査試料)
102 電子ビームカラム
103 検査室
106 検出回路
107 位置回路
109 設計データ保存部
110 制御計算機
111 展開回路
114 ステージ制御回路
117 モニタ
118 メモリ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
124 レンズ制御回路
126 ブランキング制御回路
127 駆動機構
128 偏向制御回路
132 画像保存部
139 フィルタ回路
140 輪郭抽出回路
141 比較回路
142 ガイド画像生成回路
143 分割回路
144 位置合わせ回路
155 電子光学画像取得機構(画像取得機構)
160 制御系回路
200 電子ビーム
201 電子銃(照射源)
202 電磁レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
205 電磁レンズ(縮小レンズ)
206 電磁レンズ
207 電磁レンズ(対物レンズ)
208 主偏向器
209 副偏向器
212 一括ブランキング偏向器
213 制限アパーチャ基板
214 ビームセパレーター
216 ミラー
222 マルチ検出器
224,226 電磁レンズ
228 偏向器
300 マルチ2次電子ビーム
330 検査領域
332 チップ(ウェハダイ)
400 EUVマスク
402 導電膜
404 ガラス基板
406 反射膜
408a Si膜
408b Mo膜
410 バッファ層
412 吸収体
414 第1のパターン
Claims (9)
- 被検査試料上に形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行う照射源と、
前記照射により前記第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得する検出回路と、
前記第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、前記第1の輪郭に垂直な方向に前記第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、前記平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得するフィルタ回路と、
前記第2の検査画像と所定の基準画像とを比較する比較回路と、
を備え、
前記第2のサイズは前記電子ビームのビーム径の(1/2)倍以上2倍以下の半値全幅に等しい、
検査装置。 - 前記フィルタ回路は、前記局所領域及び所定のガイド画像を用いたジョイントバイラテラルフィルタにより前記平滑化を行い、前記平滑化により生成された前記第2の輪郭を含む前記第2の検査画像を取得する、
請求項1記載の検査装置。 - 前記被検査試料はウェハであり、
前記第1のパターンは露光装置を用いてフォトマスクの第2のパターンを前記ウェハ上に転写して形成されたものであり、
前記第1のサイズは前記露光装置の分解能と略等しい、
請求項1又は請求項2記載の検査装置。 - 前記被検査試料はウェハであり、
前記第1のパターンは露光装置を用いてフォトマスクの第2のパターンを前記ウェハ上に転写して形成されたものであり、
前記第1のサイズは前記露光装置の波長(λ)と開口数(NA)の商(λ/(NA))の(1/3)倍以上1倍以下の半値全幅に等しい、
請求項1又は請求項2記載の検査装置。 - 前記第2のパターンの設計データを用いて前記所定のガイド画像を生成するガイド画像生成回路をさらに備える請求項2記載の検査装置。
- 前記第1の検査画像を用いて前記所定のガイド画像を生成するガイド画像生成回路をさらに備える請求項2記載の検査装置。
- 前記第2のサイズは前記電子ビームのビーム径と略等しい、
請求項1乃至請求項6いずれか一項記載の検査装置。 - 前記第2の検査画像から前記第2の輪郭の抽出を行なう輪郭抽出回路を備え、
前記比較回路は前記第2の輪郭を前記所定の基準画像に含まれる基準輪郭と比較することにより、前記第2の検査画像と前記所定の基準画像を比較する請求項1乃至請求項7いずれか一項記載の検査装置。 - 被検査試料上に形成された第1のパターンに、電子ビームの照射を行い、
前記照射により前記第1のパターンから生じる第1の検査画像を取得し、
前記第1の検査画像に含まれる第1の輪郭に平行な方向に第1のサイズを有し、前記第1の輪郭に垂直な方向に前記第1のサイズより小さな第2のサイズを有する局所領域を用いて平滑化を行い、前記平滑化により生成された第2の輪郭を含む第2の検査画像を取得し、
前記第2の検査画像と所定の基準画像を比較し、
前記第2のサイズは前記電子ビームのビーム径の(1/2)倍以上2倍以下の半値全幅に等しい、
検査方法。
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