JP6259634B2 - 検査装置 - Google Patents
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Description
このようなブロック状のパターンにおいて、差画像の欠陥位置あるいは欠陥位置の近傍で、正の画素値と負の画素値が混在する場合がある。この現象は、ウェーハ上の所定のブロックのサイズが実質的に結像光学系の光学解像度以下である場合に発生することが多いことを本発明では見出した。
そして、ステップ204では第2の差画像における上記部分領域の中心位置に、上記の出力値、すなわちMAX−MINまたはCENのいずれかを代入する。
一方、結像光学系7の光学解像度に比べて、ブロックのサイズが大きい(より具体的には十分大きい)場合や、ラインパターンが非常に長い場合、第1の差画像の欠陥位置あるいは欠陥位置の近傍で、画素値は正だけになる。この場合、第2の差画像は第1の差画像に比べて、欠陥信号は同じだが、閾値が大きいので、検出感度は低い。つまり、第1の差画像について閾値処理を行う方が、高い検出感度が得られる。
2・・・画像取得部
3・・・画像処理部
4・・・ステージ
5・・・光源
6・・・照明光学系
7・・・結像光学系
8・・・画像センサ
9・・・画像入力部
10・・・画像比較部
11・・・フィルタ処理部
12a・・・第2の閾値処理部
12b・・・第1の閾値処理部
13・・・欠陥検出部
Claims (5)
- 所定のブロックが形成された試料へ光を供給する照明光学系と、
前記試料からの光を検出する結像光学系と、
処理部と、を有し、
前記処理部は、
前記結像光学系による画像から第1の差画像を得て、
前記第1の差画像に対して、前記ブロックのサイズが実質的に前記結像光学系の光学解像度以下である場合の為の第1の欠陥判定を行い、
前記第1の欠陥判定は、前記第1の差画像に対して所定のフィルタ処理を行い第2の差画像を出力するフィルタ処理、及び前記第2の差画像に対する第1の閾値を使用した第1の閾値処理を含み、
前記処理部は、前記第1の差画像に対して、前記ブロックのサイズが実質的に前記結像光学系の光学解像度より大きい場合の為の第2の欠陥判定を行い、
前記第2の欠陥判定は、前記第1の差画像に対する第2の閾値を使用した第2の閾値処理を含み、
前記第1の閾値は前記第2の閾値よりも大きい検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記第1の欠陥判定は、前記第1の差画像に対して所定の行列である所定の部分領域を設定し、前記第1の差画像を部分領域で走査し、第2の差画像を出力するフィルタ処理、及び前記部分領域において、正の画素値が存在しかつ負の画素値が存在するか否か判定する判定処理を含む検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置において、
前記処理部は、正の画素値が存在しかつ負の画素値が存在すると判定した場合、前記正の画素値の最大値と前記負の画素値の最小値との差分値を出力値とする検査装置。 - 請求項3に記載の検査装置において、
前記処理部は、正の画素値または負の画素値が存在しないと判定した場合、前記部分領域の中心位置の画素値を出力値とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の欠陥判定の結果と前記第2の欠陥判定の結果との論理和を得る検査装置。
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