JP7190802B2 - 静電チャックおよび基板保持方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施例1の静電チャック10の平面図である。図2Aは、図1の2A-2A線に沿った断面図である。図2Bは、図1の2B-2B線に沿った断面図である。
第1の層11A、第2の層11B及び第3の層11Cのそれぞれを構成する複数のセラミックグリーンシートを作製する。セラミックグリーンシートは、例えば、AlN(窒化アルミニウム)セラミックグリーンシートである。第2の層11Bを形成するセラミックグリーンシートの一方の面には、吸着電極13をスクリーン印刷等で形成する。また、第3の層11Cを形成するセラミックグリーンシートの一方の面には、キャパシタ電極15をスクリーン印刷等で形成する。
実施例1の静電チャック10を用いた基板保持方法としては、以下の方法が一例として挙げられる。まず、基体11の基板載置面11SにウェハWを載置する。次に、給電端子19を電源PSに電気的に接続して電圧を印加して、吸着電極13とキャパシタ電極15との間に電位差を生じさせる。この状態で、基板載置面11SにウェハWが吸着されウェハWが保持される。次に、電源PSが接続された給電端子19と電源PSとの電気的な接続を遮断して給電端子19への電圧の印加を停止する。上述のように、実施例1の静電チャック10では、電源PSによる電圧の印加の停止後も、基板載置面11SとウェハWとのクーロン力が維持され、ウェハWが基板載置面11Sに吸着され続けるため、基板載置面11S上にウェハWを長時間保持可能である。
図5に、実施例1の静電チャック10の変形例の電極構造の概略図を示す。図5に示すように、キャパシタ電極15を多層に形成してもよい。キャパシタ電極15を多層にすると、多層に形成したキャパシタ電極15同士の間にも電荷が蓄積され、図4に示すキャパシタ回路部分CPのキャパシタC5及びC6と並列にさらにキャパシタが接続される回路となる。
第1の層11A、第2の層11B及び第3の層11Cのそれぞれを構成する複数のセラミックグリーンシートを作製する。セラミックグリーンシートは、例えば、AlNセラミックグリーンシートである。第2の層11Bを形成するセラミックグリーンシートの一方の面には、吸着電極23をスクリーン印刷等で形成する。また、第3の層11Cを形成するセラミックグリーンシートの一方の面には、キャパシタ電極25をスクリーン印刷等で形成する。キャパシタ電極25の形成の際に、開口部25Hを形成しておく。
図10に、実施例2の静電チャック20の変形例の電極構造の概略図を示す。図10に示すように、キャパシタ電極25を多層に形成してもよい。キャパシタ電極25を多層にすると、多層に形成したキャパシタ電極25同士の間にも電荷が蓄積され、図9に示すキャパシタ回路部分CPのキャパシタC3と並列にさらにキャパシタが接続される回路となる。
Claims (4)
- 基板が載置される基板載置面を有するセラミックス焼結体からなるセラミック基体と、
前記セラミック基体内に設けられ、第1の電極及び前記第1の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出している1つの第1の給電部分を含む第1の電極構造と、
前記セラミック基体内に設けられ、前記第1の電極と対向する第2の電極及び前記第2の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出している1つの第2の給電部分を含む第2の電極構造と、を有し、
前記第1の電極はそれぞれが前記基板載置面に沿った方向において延在する略半円状の第1の吸着電極および第1のキャパシタ電極を有し、前記第2の電極はそれぞれが前記基板載置面に沿った方向において延在する略半円状の第2の吸着電極および第2のキャパシタ電極を有し、
前記第1の吸着電極および前記第1のキャパシタ電極は前記セラミック基体内で接続導体を介して互いに電気的に接続されており、前記第2の吸着電極および前記第2のキャパシタ電極は前記セラミック基体内で接続導体を介して互いに電気的に接続され、
前記基板載置面は、第1の領域及び前記第1の領域と重ならない第2の領域を有し、前記基板載置面と垂直な方向において前記第1の領域と重なって位置する前記セラミック基体内の第1の内部領域と前記基板載置面と垂直な方向において前記第2の領域と重なって位置する前記セラミック基体内の第2の内部領域とが存在し、
前記第1の内部領域内には前記第1の吸着電極および前記第2のキャパシタ電極が存在し、かつ、前記第1の吸着電極が前記第2のキャパシタ電極よりも前記基板載置面側に位置し、前記第2の内部領域内には前記第2の吸着電極および前記第1のキャパシタ電極が存在し、かつ、前記第2の吸着電極が前記第1のキャパシタ電極よりも前記基板載置面側に位置することを特徴とする静電チャック。 - 前記セラミック基体内の前記第1の電極と前記基板載置面と垂直な方向において前記第1の電極と対向する前記第2の電極との間の領域の誘電率は、他の領域の誘電率よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 前記第1の給電部分に第1の極性の電圧を印加する第1の電源と、前記第2の給電部分に第1の極性と反対の第2の極性の電圧を印加する第2の電源と、を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の静電チャック。
- 基板が載置される基板載置面を有するセラミックス焼結体からなるセラミック基体と、
前記セラミック基体内に設けられ、第1の電極及び前記第1の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出している1つの第1の給電部分を含む第1の電極構造と、
前記セラミック基体内に設けられ、前記第1の電極と対向する第2の電極及び前記第2の電極に電気的に接続されかつ前記セラミック基体から露出している1つの第2の給電部分を含む第2の電極構造と、を有し、
前記第1の電極はそれぞれが前記基板載置面に沿った方向において延在する略半円状の第1の吸着電極および第1のキャパシタ電極を有し、前記第2の電極はそれぞれが前記基板載置面に沿った方向において延在する略半円状の第2の吸着電極および第2のキャパシタ電極を有し、
前記第1の吸着電極および前記第1のキャパシタ電極は前記セラミック基体内で接続導体を介して互いに電気的に接続されており、前記第2の吸着電極および前記第2のキャパシタ電極は前記セラミック基体内で接続導体を介して互いに電気的に接続され、
前記基板載置面は、第1の領域及び前記第1の領域と重ならない第2の領域を有し、前記基板載置面と垂直な方向において前記第1の領域と重なって位置する前記セラミック基体内の第1の内部領域と前記基板載置面と垂直な方向において前記第2の領域と重なって位置する前記セラミック基体内の第2の内部領域とが存在し、
前記第1の内部領域内には前記第1の吸着電極および前記第2のキャパシタ電極が存在し、かつ、前記第1の吸着電極が前記第2のキャパシタ電極よりも前記基板載置面側に位置し、前記第2の内部領域内には前記第2の吸着電極および前記第1のキャパシタ電極が存在し、かつ、前記第2の吸着電極が前記第1のキャパシタ電極よりも前記基板載置面側に位置することを特徴とする静電チャックを用いて基板を保持する方法であって、
前記基板載置面に前記基板を載置する載置ステップと、
前記第1の給電部分及び前記第2の給電部分の少なくとも一方を電源に電気的に接続して電圧を印加し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電位差を生じさせる電位差発生ステップと、
前記電源が接続された前記第1の給電部分及び前記第2の給電部分の少なくとも一方と電源との電気的な接続を遮断して前記第1の給電部分及び前記第2の給電部分の少なくとも一方への電圧の印加を停止する印加停止ステップと、
前記電源を遮断して前記電圧の印加を停止した後に、前記基板載置面と前記基板との間の吸着力が維持されるステップと、
を含むことを特徴とする基板保持方法。
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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---|---|---|---|---|
JP3596127B2 (ja) * | 1995-12-04 | 2004-12-02 | ソニー株式会社 | 静電チャック、薄板保持装置、半導体製造装置、搬送方法及び半導体の製造方法 |
JP3323135B2 (ja) * | 1998-08-31 | 2002-09-09 | 京セラ株式会社 | 静電チャック |
JP2001237304A (ja) * | 2000-02-21 | 2001-08-31 | Ibiden Co Ltd | 半導体製造・検査装置用セラミック基板 |
JP4346877B2 (ja) * | 2002-08-29 | 2009-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 静電吸着装置および処理装置 |
JP2005166820A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 静電チャック装置 |
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JP5044395B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2012-10-10 | 筑波精工株式会社 | 静電保持装置及びそれを用いた静電ピンセット |
JP5112808B2 (ja) * | 2007-10-15 | 2013-01-09 | 筑波精工株式会社 | 静電型補強装置 |
JP2009170509A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Hitachi High-Technologies Corp | ヒータ内蔵静電チャックを備えたプラズマ処理装置 |
JP2013143518A (ja) * | 2012-01-12 | 2013-07-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 基板の載置構造及びプラズマ処理装置 |
CN103050429A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-04-17 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 静电吸盘及制备方法 |
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DE102014215333B3 (de) * | 2014-08-04 | 2015-08-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Trägerwafer, Verfahren zur Halterung eines flexiblen Substrates und Verfahren zur Herstellung eines Trägerwafers |
WO2016167224A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | 株式会社アルバック | 吸着装置、真空処理装置 |
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