JP7115316B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本技術は、磁気記録媒体に関する。

高記録密度のためには、記録ヘッドから発生する磁界のうち、記録層に垂直な成分を用いて、垂直記録を行うことが有効である。垂直記録を行うためには、磁性粉の垂直配向度を高めること(すなわち長手配向度を低くすること)が重要である。一方で、磁気テープでは、記録ヘッドとしてハードディスクメディアのような単磁極ヘッドを用いることが難しく、現行のフォーマットで用いられてきたリング型ヘッドが将来的にも用いられる可能性が高い。

垂直磁気記録方式の磁気記録媒体（以下「垂直磁気記録媒体」という。）の磁性粉としては、バリウムフェライト磁性粉が用いられている。しかしながら、バリウムフェライト磁性粒子は板状を有するため、スタッキングしやすい。ここで、スタッキングとは、板状の磁性粒子がその主面同士を重ね合うようにして凝集することをいう。スタッキングが発生すると、ノイズが上昇し、Ｃ／Ｎ（Carrier to Noise Ratio）値が低下する。このため、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを用いて信号が記録される垂直磁気記録媒体において、Ｃ／Ｎ値を向上することが望まれている。

特許文献１～３には、バリウムフェライト磁性粉の分散性を高めて、Ｃ／Ｎ値を向上する技術が提案されている。

特開２００２－２９８３３３号公報 特開２００９－９９２４０号公報 特開２００２－３７３４１３号公報

本技術の目的は、Ｃ／Ｎ値を向上することができる磁気記録媒体を提供することにある。

上述の課題を解決するために、本技術は、最短記録波長が７５ｎｍ以下である記録再生装置に用いられる磁気記録媒体であって、ε酸化鉄を含む立方体状の粒子を含む記録層を備え、磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が、３０％以下であり、粒子の平均最長径Ｄ_ｍａｘと平均最短径Ｄ_ｍｉｎとの比率（Ｄ_ｍａｘ／Ｄ_ｍｉｎ）が、１．０≦（Ｄ_ｍａｘ／Ｄ_ｍｉｎ）≦１．１の関係を満たし、記録層の平均厚みδ_ｍａｇが、１００ｎｍ以下であり、記録層の平均厚みδ_ｍａｇと粒子の平均最短径Ｄ_ｍｉｎとの比率（δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ）が、δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ≦５の関係を満たす磁気記録媒体である。

本技術によれば、磁気記録媒体のＣ／Ｎ値を向上することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果またはそれらと異質な効果であってもよい。

図１は、本技術の第１の実施形態に係る磁気記録媒体の構成を示す断面図である。 図２は、ＳＦＤ曲線の一例を示すグラフである。 図３は、平均最長径および平均最短径の定義を説明するための概略図である。 図４は、磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。 図５Ａ～図５Ｄは、磁性粉末の製造方法を説明するための断面図である。 図６は、磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。 図７Ａ～図７Ｄは、磁性粉末の製造方法を説明するための断面図である。 図８は、磁気記録媒体の構成を示す断面図である。 図９は、磁気記録媒体の構成を示す断面図である。 図１０は、磁気記録媒体の構成を示す断面図である。 図１１は、本技術の第２の実施形態に係る磁気記録媒体で用いられる磁性粉末の構成を示す断面図である。 図１２は、本技術の第２の実施形態に係る磁気記録媒体で用いられる磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。 図１３は、本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体で用いられる磁性粉末の構成を示す断面図である。 図１４は、本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体で用いられる磁性粉末の製造方法を説明するための工程図である。

本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１ 第１の実施形態（磁気記録媒体の例）
２ 第２の実施形態（磁気記録媒体の例）
３ 第３の実施形態（磁気記録媒体の例）

＜１ 第１の実施形態＞
［磁気記録媒体の構成］
本技術の第１の実施形態に係る磁気記録媒体は、７５ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成された垂直磁気記録媒体（垂直磁気記録方式の磁気記録媒体）である。より具体的には最短記録波長が７５ｎｍ以下である記録再生装置に用いられる垂直磁気記録媒体である。上記記録再生装置は、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備え、リング型ヘッドにより最短記録波長７５ｎｍ以下で信号を磁気記録媒体に記録する。また、磁気記録媒体は長尺状を有し、記録再生の際には長手方向に走行される。

磁気記録媒体は、図１に示すように、長尺状の基体１１と、基体１１の一方の主面上に設けられた下地層（非磁性層）１２と、下地層１２上に設けられた記録層（磁性層）１３とを備える。磁気記録媒体が、必要に応じて、記録層１３上に設けられた保護層（図示せず）および潤滑剤層（図示せず）などをさらに備えるようにしてもよい。また、必要に応じて、基体１１の他方の主面上に設けられたバックコート層１４をさらに備えるようにしてもよい。

（角形比）
磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比Ｓが、好ましくは３０％以下、より好ましくは２５％以下である。角形比Ｓが３０％を超えると、磁性粉の垂直配向性が低いため、Ｃ／Ｎ値が低下する虞がある。

上記の角形比Ｓは以下のようにして求められる。まず、振動試料型磁力計（Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ）を用いて、磁気記録媒体の走行方向（長手方向）に磁気記録媒体全体のＭ－Ｈループを測定する。次に、アセトンおよびエタノールなどを用いて塗膜（下地層１２、記録層１３など）を払拭し、基体１１のみを残して、バックグラウンド補正用として、基体１１のＭ－Ｈループを同様に走行方向に測定する。その後、磁気記録媒体全体のＭ－Ｈループから基体１１のＭ－Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを算出する。得られたＭ－Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）および残留磁化Ｍｒ（ｅｍｕ）を以下の式に代入して、角形比Ｓ（％）を計算する。なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、室温（２３℃）にて行われるものとする。
角形比Ｓ（％）＝Ｍｒ／Ｍｓ×１００

（活性化体積）
活性化体積Ｖ_actが、好ましくは５０００ｎｍ³以下、より好ましくは４０００ｎｍ³以下、さらにより好ましくは３０００ｎｍ³以下である。活性化体積Ｖ_actが５０００ｎｍ³以下であると、ビット反転領域を急峻にすることができ、より優れたＣ／Ｎ値が得られる。

上記の活性化体積Ｖ_actは、Ｓｔｒｅｅｔ＆Ｗｏｏｌｌｅｙにより導出された下記の式により求められる。
Ｖ_act（ｎｍ³）＝ｋ_B×Ｔ×Χ_irr／（μ₀×Ｍｓ×Ｓ）
（但し、ｋ_B：ボルツマン定数（１．３８×１０^-23Ｊ／Ｋ）、Ｔ：温度（Ｋ）、Χ_irr：非可逆磁化率、μ₀：真空の透磁率、Ｓ：磁気粘性係数、Ｍｓ：飽和磁化（ｅｍｕ／ｃｍ³））

上記式に代入される非可逆磁化率Χ_irr、飽和磁化Ｍｓおよび磁気粘性係数Ｓは、振動試料型磁力計(Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ)を用いて以下のようにして求められる。なお、ＶＳＭによる測定方向は、磁気記録媒体の記録面に対して垂直方向とする。また、ＶＳＭによる測定は、長尺状の磁気記録媒体から切り出された測定サンプルに対して、室温（２３℃）にて行われるものとする。

（非可逆磁化率Χ_irr）
非可逆磁化率Χ_irrは、残留磁化曲線（ＤＣＤ曲線）の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近における傾きと定義される。まず、磁気記録媒体全体に－１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に約１５．９ｋＡ／ｍ（２００Ｏｅ）の磁界を印加し再びゼロに戻し残留磁化量を測定する。その後も同様に、先ほどの印加磁界よりもさらに１５．９ｋＡ／ｍ大きい磁界を印加しゼロに戻す測定を繰り返し行い、印加磁界に対して残留磁化量をプロットしＤＣＤ曲線を測定する。得られたＤＣＤ曲線から、磁化量ゼロとなる点を残留保磁力Ｈｒとし、さらにＤＣＤ曲線を微分し、各磁界におけるＤＣＤ曲線の傾きを求める。このＤＣＤ曲線の傾きにおいて、残留保磁力Ｈｒ付近の傾きがΧ_irrとなる。

（飽和磁化Ｍｓ）
まず、磁気記録媒体の垂直方向に磁気記録媒体（測定サンプル）全体のＭ－Ｈループを測定する。次に、アセトンおよびエタノールなどを用いて塗膜（下地層１２、記録層１３など）を払拭し、基体１１のみを残して、バックグラウンド補正用として、基体１１のＭ－Ｈループを同様に垂直方向に測定する。その後、磁気記録媒体全体のＭ－Ｈループから基体１１のＭ－Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを算出する。得られたＭ－Ｈループの飽和磁化Ｍｓ（ｅｍｕ）の値と、測定サンプル中の記録層１３の体積（ｃｍ³）から、Ｍｓ（ｅｍｕ／ｃｍ³）を算出する。なお、記録層１３の体積は測定サンプルの面積に記録層１３の平均厚みδ_magを乗ずることにより求められる。記録層１３の体積の算出に必要な記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法については後述する。

（磁気粘性係数Ｓ）
まず、磁気記録媒体（測定サンプル）全体に－１１９３ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁界を印加し、磁界をゼロに戻し残留磁化状態とする。その後、反対方向に、ＤＣＤ曲線より得られた残留保磁力Ｈｒの値と同等の磁界を印加する。磁界を印加した状態で１０００秒間、磁化量を一定の時間間隔で継続的に測定する。このようにして得られた、時間ｔと磁化量Ｍ（ｔ）の関係を以下の式に照らし合わせて、磁気粘性係数Ｓを算出する。
Ｍ（ｔ）＝Ｍ０＋Ｓ×ｌｎ（ｔ）
（但し、Ｍ（ｔ）：時間ｔの磁化量、Ｍ０：初期の磁化量、Ｓ：磁気粘性係数、ｌｎ（ｔ）：時間の自然対数）

（ＳＦＤ）
磁気記録媒体のＳＦＤ（Switching Field Distribution）曲線において、メインピーク高さＸと磁場ゼロ付近のサブピークの高さＹとの比率Ｙ／Ｘが、０．５以下であることが好ましい（図２参照）。比率Ｙ／Ｘが０．５を超えると、記録層１３の磁気特性が低下し、Ｃ／Ｎ値が悪化する虞がある。これは、比率Ｙ／Ｘが０．５を超えると、実際の記録に寄与するε酸化鉄粒子の他に軟磁性粒子や超常磁性粒子が多く存在することになるためと考えられる。

上記の比率Ｙ／Ｘは、以下のようにして求められる。まず、ＶＳＭを用いて磁気記録媒体（測定サンプル）全体のＭ－Ｈループを測定する。その後、アセトンおよびエタノールなどを用いて塗膜（下地層１２、記録層１３など）を払拭し、基体１１のみを残して、バックグラウンド補正用として、基体１１のＭ－Ｈループを測定する。その後、磁気記録媒体全体のＭ－Ｈループから基体１１のＭ－Ｈループを引き算して、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループを得る。次に、得られたＭ－ＨループからＳＦＤカーブを算出する。ＳＦＤカーブの算出には測定機に付属のプログラムを用いてもよいし、その他のプログラムを用いてもよい。算出したＳＦＤカーブがＹ軸（ｄＭ／ｄＨ）を横切る点の絶対値を「Ｙ」とし、Ｍ－Ｈループで言うところの保磁力Ｈｃ近傍に見られるメインピークの高さを「Ｘ」として、比率Ｙ／Ｘを算出する。なお、上記のＭ－Ｈループの測定はいずれも、室温（２３℃）にて行われるものとする。また、ＶＳＭのＭ－Ｈループ測定において、バックグラウンド補正後のＭ－Ｈループが飽和しない場合には、より高い印加磁界を得られるＳＱＵＩＤを用いるものとする。上記の比率Ｙ／Ｘは、記録層１３に対して垂直方向に測定をした値である。また、垂直方向に測定する際の“反磁界補正”は行わないものとする。

（基体）
支持体となる基体１１は、可撓性を有する長尺状の非磁性基体である。非磁性基体はフィルムであり、フィルムの厚さは、例えば３μｍ以上８μｍ以下である。基体１１の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースブチレートなどのセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミドなどのプラスチック、アルミニウム合金、チタン合金などの軽金属、アルミナガラスなどのセラミックなどを用いることができる。

（記録層）
記録層１３は、いわゆる垂直記録層であり、例えば、磁性粉末、結着剤および導電性粒子を含んでいる。記録層１３が、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、防錆剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。

（磁性粉末）
磁性粉末は、ε酸化鉄を含むナノ粒子（以下「ε酸化鉄粒子」という。）の粉末を含んでいる。ε酸化鉄粒子は、球状もしくはほぼ球状を有しているか、または立方体状もしくはほぼ立方体状を有している。ε酸化鉄粒子が上記のような形状を有しているため、磁性粒子としてε酸化鉄粒子を用いた場合、磁性粒子として六角板状のバリウムフェライト粒子を用いた場合に比べて、媒体の厚さ方向における粒子同士の接触面積を低減し、粒子同士の凝集を抑制できる。すなわち、磁性粉末の分散性を高め、Ｃ／Ｎ値を向上することができる。

ε酸化鉄粒子に含まれるε酸化鉄は、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶（Ｆｅサイトの一部が金属元素Ｍで置換されたものを含む）を主相とするものが好ましく、単相のε－Ｆｅ₂Ｏ₃からなるものがより好ましい。金属元素Ｍは、例えば、Ａｌ、ＧａおよびＩｎからなる群より選ばれる１種以上である。但し、鉄酸化物におけるＭとＦｅのモル比をＭ：Ｆｅ＝ｘ：（２－ｘ）と表すとき、０≦ｘ＜１である。

本技術において、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶には、特に断らない限り、Ｆｅサイトが他の元素で置換されていない純粋なε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶の他、Ｆｅサイトの一部が３価の金属元素Ｍで置換されており、純粋なε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶と空間群が同じである（すなわち空間群がＰｎａ２₁である）結晶が含まれる。

（平均粒子径）
磁性粉末の平均粒子径（直径）Ｄ_aveは、好ましくは８ｎｍ以上２５ｎｍ以下、より好ましくは１２ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。磁性粉末の平均粒子径Ｄ_aveが８ｎｍ以上であると、粒子の分散性がより向上し、より優れたＣ／Ｎ値が得られる。一方、磁性粉末の平均粒子径Ｄ_aveが２５ｎｍ以下であると、より高記録密度に適した記録層を得ることができる。

上記の磁性粉末の平均粒子径Ｄ_aveは、以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体をＦＩＢ（Focused Ion Beam）法などにより加工してＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）観察用薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５００個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、それらの各粒子の面積Ｓを求める。次に、粒子の断面形状が円形であると仮定して、以下の式から各粒子の粒径（直径）Ｒを粒子径として算出し、磁性粉末の粒度分布を得る。
Ｒ＝２×（Ｓ／π）^1/2
次に、求めた粒度分布からメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを平均粒子径Ｄ_aveとする。

（変動係数）
下記の式で表される磁性粉末の変動係数が、３０％以下であることが好ましい。
変動係数［％］＝（［粒子径の標準偏差］／［平均粒子径］）×１００
変動係数が３０％を超えると、ε酸化鉄粒子の粒子径のばらつきが大きくなり、磁性粉末の磁気特性のばらつきが大きくなる虞がある。

上記の磁性粉末の変動係数は、以下のようにして求められる。まず、上記の平均粒子径の算出方法と同様にして磁性粉末の粒度分布を得る。次に、求めた粒度分布からメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを平均粒子径Ｄ_aveとする。また、求めた粒度分布から標準偏差σを求める。次に、求めた平均粒子径Ｄ_aveおよび粒度分布の標準偏差σから変動係数σ／Ｄ_aveを算出する。

（Ｄ_max、Ｄ_min、Ｄ_max／Ｄ_min）
ε酸化鉄粒子の平均最長径Ｄ_maxは、例えば１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。ε酸化鉄粒子の平均最短径Ｄ_minは、例えば９．１ｎｍ以上２７．３ｎｍ以下である。ε酸化鉄粒子の平均最長径Ｄ_maxと平均最短径Ｄ_minとの比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、１．０≦（Ｄ_max／Ｄ_min）≦１．１の関係を満たすことが好ましい。比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が上記の関係を満たさないと、ε酸化鉄粒子がスタッキングを起こしやすいため、Ｃ／Ｎ値が低下する虞がある。

平均最長径Ｄ_max、平均最短径Ｄ_min、比率（Ｄ_max／Ｄ_min）は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体をＦＩＢ法などにより加工してＴＥＭ観察用薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。次に、撮影したＴＥＭ写真から５００個のε酸化鉄粒子を無作為に選び出し、それらの粒子の最長径ｄ_maxおよび最短径ｄ_minをそれぞれ測定して、磁性粉末の最長径ｄ_maxの粒度分布および最短径ｄ_minの粒度分布を求める。ここで、“粒子の最長径ｄ_max”とは、いわゆる最大フェレ径を意味し、具体的には、図３に示すように、ε酸化鉄粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のものをいう。一方、“粒子の最短径ｄ_min”とは、いわゆる最小フェレ径を意味し、図３に示すように、ε酸化鉄粒子の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最小のものをいう。その後、求めた最長径ｄ_maxの粒度分布から最長径ｄ_maxのメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを粒子の平均最長径Ｄ_maxとする。同様に、求めた最短径ｄ_minの粒度分布から最短径ｄ_minのメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを粒子の平均最短径Ｄ_minとする。最後に、上述のようにして求めた平均最長径Ｄ_maxおよび平均最短径Ｄ_minを用いて、比率（Ｄ_max／Ｄ_min）を求める。

（記録層の平均厚み）
記録層１３の平均厚みδ_magが、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは９０ｎｍ以下、さらにより好ましくは８０ｎｍ以下、最も好ましくは７０ｎｍ以下である。平均厚みδ_magが１００ｎｍを超えると、リング型ヘッドからの垂直磁界が記録層１３の下部まで伝わり難くなり、Ｃ／Ｎ値が低下する虞がある。

記録層１３の平均厚みδ_magの下限値は、特に限定されるものではないが、記録層１３の平均厚みδ_magが薄すぎると、均一な厚みの記録層１３を塗布により形成することが困難になる虞がある。この点を考慮すると、記録層１３の平均厚みδ_magは、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは４０ｎｍ以上、さらにより好ましくは５０ｎｍ以上である。

記録層１３の平均厚みδ_mag［ｎｍ］は以下のようにして求められる。まず、測定対象となる磁気記録媒体をＦＩＢ法などにより加工してＴＥＭ観察用薄片を作製し、ＴＥＭにより薄片の断面観察を行う。観察倍率としては、記録層１３の厚みが明瞭に観察できるよう、少なくとも１０万倍以上で行うのが好ましい。断面ＴＥＭの観察は、磁気記録媒体の長手方向（走行方向）に１００ｍごとに合計５か所の位置で行われる。観察方向は、磁気記録媒体の横方向（幅方向）である。一視野あたり均等に５０ポイントにおいて記録層１３の厚みを観察し、５視野全ての厚みを単純に平均（算術平均）して記録層１３の平均厚みδ_mag［ｎｍ］を求める。

（δ_mag／Ｄ_min）
記録層１３の平均厚みδ_magとε酸化鉄粒子の平均最短径Ｄ_minとの比率（δ_mag／Ｄ_min）が、δ_mag／Ｄ_min≦５の関係を満たすことが好ましく、δ_mag／Ｄ_min≦４．５の関係を満たすことがより好ましい。比率（δ_mag／Ｄ_min）が上記関係を満たさないと、リング型ヘッドからの垂直磁界が記録層１３の下部側に存在するε酸化鉄粒子に伝わり難くなるため、Ｃ／Ｎ値が低下する虞がある。

比率（δ_mag／Ｄ_min）は以下のようにして求められる。まず、上述の記録層１３の平均厚みδ_magおよびε酸化鉄粒子の平均最短径Ｄ_minの算出方法と同様にして、それらの値を求める。次に、求めた平均厚みδ_magおよびε酸化鉄粒子の平均最短径Ｄ_minを用いて、比率（δ_mag／Ｄ_min）を算出する。

（結着剤）
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂などに架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体に対して要求される物性などに応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂としては、通常、塗布型の磁気記録媒体において一般的に用いられる樹脂であれば、特に限定されない。

例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル－塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル－エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴムなどが挙げられる。

また、熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

また、上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、－ＳＯ₃Ｍ、－ＯＳＯ₃Ｍ、－ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂などの極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍは、水素原子、あるいはリチウム、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ金属である。

更に、極性官能基としては、－ＮＲ１Ｒ２、－ＮＲ１Ｒ２Ｒ３⁺Ｘ^-の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２⁺Ｘ^-の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ^-は弗素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＮ、エポキシ基なども挙げられる。

（添加剤）
記録層１３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）などをさらに含有していてもよい。

（下地層）
下地層１２は、非磁性粉末および結着剤を主成分として含む非磁性層である。下地層１２が、必要に応じて、導電性粒子、潤滑剤、硬化剤および防錆剤などのうちの少なくとも１種の添加剤をさらに含んでいてもよい。

（下地層の平均厚み）
下地層１２の平均厚みは、好ましくは０．６μｍ以上２．０μｍ以下、より好ましくは０．８μｍ以上１．４μｍ以下である。下地層１２の平均厚みが０．６μｍ未満であると、表面性悪化により電磁変換特性が劣化する虞がある。一方、下地層１２の平均厚みが２．０μｍを超えると、塗膜の乾燥ムラによる粗大突起が発生してしまい、同様に電磁変換特性が劣化する虞がある。なお、上記の下地層１２の平均厚みの算出方法は、記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法と同様である。

（非磁性粉末）
非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性粉末は、カーボンブラックなどでもよい。無機物質としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。非磁性粉末の形状としては、例えば、針状、球状、立方体状、板状などの各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。

（結着剤）
結着剤は、上述の記録層１３と同様である。

［磁性粉末の製造方法］
以下、図４、図５Ａ～図５Ｄを参照して、上述の磁性粉末の製造方法の一例について説明する。この磁性粉末の製造方法は、ＦｅＯ（酸化第一鉄）を含むナノ粒子（以下「ＦｅＯ粒子」という。）の粉末を出発原料としてε酸化鉄粒子の粉末を合成するものである。

（ＦｅＯ粒子合成）
まず、ステップＳ１１において、図５Ａに示すように、出発原料としてのＦｅＯ粒子（第１粒子）２１ａの粉末を真空中で液相錯体熱分解法により合成する。この際、溶媒、兼、配位子としてオレイン酸およびオレイルアミンを使用することが好ましい。凝集が少ないＦｅＯ粒子を合成することができるからである。これにより、シャープな粒度分布を有するＦｅＯ粒子２１ａの粉末が得られる。なお、液相錯体熱分解法における熱処理の時間を調整することにより、前駆体粒子としてのＦｅＯ粒子の粒子径を変化させることができる。具体的には熱処理の時間を長くするに従って、粒子径を小さくすることができる。

上記工程において、ＦｅＯ粒子２１ａの粉末の粒度分布、平均最長径Ｄ_max、平均最短径Ｄ_minおよび比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、目的とする磁性粉末のそれらとほぼ同様なものとなるように、ＦｅＯ粒子２１ａの粉末を合成することが好ましい。ＦｅＯ粒子２１ａの粉末の粒度分布、平均最長径Ｄ_max、平均最短径Ｄ_minおよび比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、最終的に得られる磁性粉末のそれらとほぼ同様なものとなるからである。

（コート処理）
次に、ステップＳ１２において、次工程の高温熱処理による粒子凝集を抑制するために、逆ミセル法によりＦｅＯ粒子２１ａの表面にシリカカート処理を行う。これにより、図５Ｂに示すように、ＦｅＯ粒子２１ａの表面にシリカコート層２１ｂが形成される。

（高温熱処理）
続いて、ステップＳ１３において、シリカコート処理されたＦｅＯ粒子２１ａの粉末を１０００℃以上の高温で焼成することにより、図５Ｃに示すように、ＦｅＯ粒子２１ａの粉末をε酸化鉄粒子（第２粒子）２１の粉末に変態させる。

（コート除去）
最後に、ステップＳ１４において、アルカリ溶液を用いて、図５Ｄに示すように、ε酸化鉄粒子２１の表面のシリカコート層２１ｂを除去することにより、目的とするε酸化鉄粒子２１の粉末を得る。

［磁気記録媒体の製造方法］
次に、上述の構成を有する磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。まず、非磁性粉末および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、下地層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉末および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、記録層形成用塗料を調製する。記録層形成用塗料および下地層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を用いることができる。

上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテートなどのエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２－エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、適宜混合して用いてもよい。

上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダーなどの混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」など）、ホモジナイザー、超音波分散機などの分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。

次に、下地層形成用塗料を基体１１の一方の主面に塗布して乾燥させることにより、下地層１２を形成する。続いて、この下地層１２上に記録層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、記録層１３を下地層１２上に形成する。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉末を基体１１の厚さ方向に磁場配向させる。記録層１３の形成後、必要に応じて、記録層１３上に保護層および潤滑剤層を形成してもよいし、基体１１の他方の主面にバックコート層１４を形成してもよい。

その後、下地層１２および記録層１３が形成された基体１１を大径コアに巻き直し、硬化処理を行う。最後に、下地層１２および記録層１３が形成された基体１１に対してカレンダー処理を行った後、所定の幅に裁断する。以上により、目的とする磁気記録媒体が得られる。

［効果］
本技術の第１の実施形態に係る磁気記録媒体は、最短記録波長が７５ｎｍ以下である記録再生装置に用いられる磁気記録媒体であって、ε酸化鉄を含む粒子の粉末を含む記録層１３を備える。磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が３０％以下であり、粒子の平均最長径Ｄ_maxと平均最短径Ｄ_minとの比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が１．０≦（Ｄ_max／Ｄ_min）≦１．１の関係を満たし、記録層の平均厚みδ_magが１００ｎｍ以下であり、記録層の平均厚みδ_magと粒子の平均最短径Ｄ_minとの比率（δ_mag／Ｄ_min）が、δ_mag／Ｄ_min≦５の関係を満たす。これにより、磁気記録媒体のＣ／Ｎ値を向上することができる。

［変形例］
（変形例１）
Ｆｅ₃Ｏ₄（四酸化三鉄）を含むナノ粒子（以下「Ｆｅ₃Ｏ₄粒子」という。）の粉末を出発原料としてε酸化鉄粒子の粉末を合成してもよい。以下に、図６、図７Ａ～図７Ｄを参照して、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子の粉末を出発原料とする磁性粉末の製造方法の一例について説明する。

（脱泡処理）
まず、ステップＳ２１において、鉄アセチルアセトナートを溶媒に混合して前駆体溶液を調製したのち、前駆体溶液に脱泡処理を施す。溶媒としては、配位子としても機能するものが使用され、オレイン酸およびオレイルアミンが好ましい。凝集が少ないＦｅ₃Ｏ₄粒子を合成することができるため、シャープな粒度分布を有するＦｅ₃Ｏ₄粒子の粉末が得られるからである。前駆体溶液中の鉄アセチルアセトナートの濃度を高くするに従って、前駆体粒子としてのＦｅ₃Ｏ₄粒子の径を大きくすることができる。

脱泡処理の方法は特に限定されるものではないが、調製した溶液を減圧雰囲気下にて加熱処理する方法が好ましい。この方法を採用することで、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子を大量合成する場合にも泡の発生を抑制できる。また、前駆体溶液に含まれている不純物のうち、低沸点のものや、オレイン酸およびオレイルアミンを混合した際に発生する水分を取り除くことができるため、大量合成の系でも粒度分布が揃ったＦｅ₃Ｏ₄粒子を得やすい。

なお、原材料の鉄アセチルアセトナートを溶解性の高い溶媒(例えばフェニルエチルエーテル)に予め溶解させておくことでも、次工程において気泡の発生を抑制することができる。鉄アセチルアセトナートを溶解性の高い溶媒に予め溶解させておく場合、脱泡処理を行ってもよいし、行わなくてもよい。

（液相熱分解法）
次に、ステップＳ２２において、図７Ａに示すように、脱泡処理した溶液を用いて、出発原料（前駆体粒子）としてのＦｅ₃Ｏ₄粒子（第１粒子）２１ｃの粉末を液相錯体熱分解法により合成する。具体的には、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下において、脱泡処理した溶液を加熱する。これにより、前駆体溶液中に核が生成したのち、生成した核が成長して、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃが合成される。

上記工程において、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの粉末の粒度分布、平均最長径Ｄ_max、平均最短径Ｄ_minおよび比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、目的とする磁性粉末のそれらとほぼ同様なものとなるように、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの粉末を合成することが好ましい。Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの粉末の粒度分布、平均最長径Ｄ_max、平均最短径Ｄ_minおよび比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、最終的に得られる磁性粉末のそれらとほぼ同様なものとなるからである。

（コート処理）
次に、ステップＳ２３において、次工程の高温熱処理による粒子凝集を抑制するために、逆ミセル法によりＦｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの表面にシリカカート処理を行う。これにより、図７Ｂに示すように、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの表面にシリカコート層２１ｂが形成される。

（高温熱処理）
続いて、ステップＳ２４において、シリカコート処理されたＦｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの粉末を１０００℃以上の高温で焼成することにより、図７Ｃに示すように、Ｆｅ₃Ｏ₄粒子２１ｃの粉末をε酸化鉄粒子（第２粒子）１１の粉末に変態させる。

（コート除去）
最後に、ステップＳ２５において、アルカリ溶液を用いて、図７Ｄに示すように、ε酸化鉄粒子２１の表面のシリカコート層２１ｂを除去することにより、目的とするε酸化鉄粒子２１の粉末を得る。

（変形例２）
磁気記録媒体が、図８に示すように、基体１１の両主面のうち、バックコート層１４側となる他方の主面（以下「裏面」という。）に設けられた強化層１５をさらに備えていてもよい。この場合、強化層１５上にバックコート層１４が設けられる。

なお、強化層１５は、基体１１の両主面のうちのいずれに設けられていてもよく、基体１１の両主面のうち、記録層１３側となる一方の主面（以下「表面」という。）に強化層１５が設けられていてもよい。この場合、強化層１５上に下地層１２が設けられる。

強化層１５は、磁気記録媒体の機械的強度を高めて、優れた寸法安定性を得るためのものである。強化層１５は、例えば、金属および金属化合物のうちの少なくとも１種を含んでいる。ここで、金属には、半金属が含まれるものと定義する。金属は、例えば、アルミニウムおよび銅のうちの少なくとも１種であり、好ましくは銅である。銅は、安価で蒸気圧が比較的低いため、安価に強化層１５を成膜が可能であるからである。金属化合物は、例えば、金属酸化物である。金属酸化物は、例えば、酸化アルミニウム、酸化銅および酸化シリコンのうちの少なくとも１種であり、好ましくは酸化銅である。蒸着法などにより安価に強化層１５を成膜が可能であるからである。強化層１５は、例えば、真空斜方蒸着法により形成される蒸着膜であってもよいし、スパッタ法により形成されるスパッタ膜であってもよい。

強化層１５は、２層以上の積層構造を有していることが好ましい。強化層１５の厚みを厚くしていくと、外力に対する基体１１の伸縮をより抑えることができる。しかしながら、蒸着法やスパッタリングなどの真空薄膜の作製技術を用いて強化層１５を形成する場合、上記のように強化層１５の厚みを厚くしていくと、強化層１５中に空隙が生じやすくなる虞がある。上記のように強化層１５を２層以上の積層構造とすることで、真空薄膜の作製技術を用いて強化層１５を形成する際に強化層１５中に生じる空隙を抑制し、強化層１５の緻密性を向上できる。したがって、強化層１５の水蒸気透過率を低減できるので、基体１１の膨張をさらに抑制し、磁気記録媒体の寸法安定性をさらに向上できる。強化層１５が２層以上の積層構造を有する場合、各層の材料は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

強化層１５の平均厚みは、好ましくは１５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。強化層１５の平均厚みが１５０ｎｍ以上であると、強化層１５として良好な機能（すなわち磁気記録媒体の良好な寸法安定性）が得られる。一方、強化層１５の平均厚みを５００ｎｍを超えて厚くしなくとも、強化層１５として十分な機能が得られる。なお、上記の強化層１５の平均厚みは、上述の記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法と同様にして求められる。

磁気記録媒体が強化層１５を有する場合、長尺状の磁気記録媒体の長手方向のヤング率が、好ましくは７ＧＰａ以上１４ＧＰａ以下である。ヤング率が７ＧＰａ以上であると、良好な磁気ヘッド当たりを得ることができ、かつ、エッジダメージを抑制することができる。一方、ヤング率が１４ＧＰａ以下であると、良好な磁気ヘッド当たりを得ることができる。

また、磁気記録媒体の湿度膨張係数が、好ましくは０．５ｐｐｍ／％ＲＨ以上、４ｐｐｍ／％ＲＨ以下である。湿度膨張係数が上記範囲であると、磁気記録媒体の寸法安定性をさらに向上できる。

（変形例３）
磁気記録媒体が、図９に示すように、強化層１５上に設けられたカッピング抑制層１６をさらに備えていてもよい。なお、下地層１２およびカッピング抑制層１６が基体１１の裏面側に設けられた場合、バックコート層１４はカッピング抑制層１６上に設けられる。一方、下地層１２およびカッピング抑制層１６が基体１１の表面側に設けられた場合、下地層１２はカッピング抑制層１６上に設けられる。

カッピング抑制層１６は、基体１１上に強化層１５を形成したことにより発生するカッピングを抑制するためのものである。ここで、カッピングとは、長尺状の基体１１の幅方向に発生する湾曲を意味する。強化層１５には内部応力として引っ張り応力、すなわち基体１１の両主面のうち強化層１５が設けられた主面側を幅方向に且つ凹形状に湾曲させる応力が働く。これに対して、カッピング抑制層１６には、内部応力として圧縮応力、すなわち基体１１の両主面のうちカッピング抑制層１６が設けられた主面側を幅方向に且つ凸形状に湾曲させる応力が働く。このため、強化層１５とカッピング抑制層１６との内部応力が相殺し合って、磁気記録媒体にカッピングが発生することを抑制できる。したがって、磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触状態を良好な状態に保持でき、かつトラック幅方向における高い寸法安定性を有する、オフトラック特性に優れた高ＳＮの磁気記録媒体を提供できる。

カッピング抑制層１６は、例えば、炭素薄膜である。炭素薄膜は、ダイヤモンドライクカーボン（以下「ＤＬＣ」という。）を含む硬質炭素薄膜であることが好ましい。カッピング抑制層１６は、例えば、化学気相成長（Chemical Vapor Deposition：ＣＶＤ）法により形成されるＣＶＤ膜であってもよいし、スパッタ法により形成されるスパッタ膜であってもよい。

カッピング抑制層１６は、２層以上の積層構造を有していることが好ましい。磁気記録媒体の寸法安定性をさらに向上できるからである。なお、その原理は、強化層１５を２層以上の積層構造とする場合と同様である。カッピング抑制層１６が２層以上の積層構造を有する場合、各層の材料は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

カッピング抑制層１６の平均厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。カッピング抑制層１６の平均厚みが１０ｎｍ未満であると、カッピング抑制層１６の圧縮応力が小さくなりすぎる虞がある。一方、カッピング抑制層１６の平均厚みが２００ｎｍを超えると、カッピング抑制層１６の圧縮応力が大きくなりすぎる虞がある。なお、カッピング抑制層１６の平均厚みは、上述の記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法と同様にして求められる。

（変形例４）
磁気記録媒体は、図１０に示すように、基体１１の表面上に設けられた第１強化層１７と、基体１１の裏面上に設けられた第２強化層１８と、第２強化層１８上に設けられた凝着抑制層１９とをさらに備えていてもよい。この場合、バックコート層１４は、凝着抑制層１９上に設けられる。基体１１、第１強化層１７、第２強化層１８および凝着抑制層１９により積層体１０が構成される。

なお、凝着抑制層１９は、第１、第２強化層１７、１８のうちいずれかの層上に設けられていればよく、第１強化層１７上に凝着抑制層１９が設けられていてもよい。この場合、下地層１２は、凝着抑制層１９上に設けられる。この場合、凝着抑制層１９が炭素薄膜である場合には、表面改質処理により凝着抑制層１９の表面の濡れ性を改善することが好ましい。炭素薄膜に対する下地層形成用塗料の塗布性を改善できるからである。

第１、第２強化層１７、１８は、磁気記録媒体の機械的強度を高めて、優れた寸法安定性を得るためのものである。第１、第２強化層１７、１８の材料としては、変形例３の強化層１５と同様の材料を例示することができる。なお、第１、第２強化層１７、１８の材料は同一の材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。第１、第２強化層１７、１８はそれぞれ、２層以上の積層構造を有していることが好ましい。磁気記録媒体の寸法安定性をさらに向上できるからである。なお、その原理は、変形例３において強化層１５を２層以上の積層構造とする場合と同様である。

第１、第２強化層１７、１８の平均厚みは、好ましくは７５ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。第１、第２強化層１７、１８の平均厚みが７５ｎｍ以上であると、第１、第２強化層１７、１８として良好な機能（すなわち磁気記録媒体の良好な寸法安定性）が得られる。一方、第１、第２強化層１７、１８の平均厚みを３００ｎｍを超えて厚くすると、磁気記録媒体の厚みが厚くなってしまう虞がある。また、第１、第２強化層１７、１８の平均厚みを３００ｎｍを超えて厚くしなくとも、第１、第２強化層１７、１８として十分な機能が得られる。なお、第１、第２強化層１７、１８の平均厚みは、上述の記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法と同様にして求められる。

第１、第２強化層１７、１８は、内部応力として引っ張り応力が働くものである。具体的には、第１強化層１７は、基体１１の表面側を幅方向に且つ凹形状に湾曲させる応力が働くものであり、第２強化層１８は、基体１１の裏面側を幅方向に且つ凹形状に湾曲させる応力が働くものである。したがって、第１、第２強化層１７、１８の内部応力が相殺し合って、磁気記録媒体にカッピングが発生することを抑制できる。ここで、カッピングとは、長尺状の基体１１の幅方向に発生する湾曲を意味する。

第１、第２強化層１７、１８の平均厚みは、同一であってもよいし、異なっていてもよいが、同一またはほぼ同一であることが好ましい。基体１１の両面に設けられた第１、第２強化層１７、１８の内部応力（引っ張り応力）が同一またはほぼ同一となり、カッピングの発生をより抑制できるからである。ここで、第１、第２強化層１７、１８の平均厚みがほぼ同一とは、第１、第２強化層１７、１８の平均厚み差が５ｎｍ以内であることを意味する。

凝着抑制層１９は、積層体１０をロール状に巻き取った場合に、第１、第２強化層１７、１８が金属凝着して貼り付くことを抑制するためのものである。凝着抑制層１９は、導電性を有していてもよいし、絶縁性を有していてもよい。凝着抑制層１９は、内部応力として圧縮応力（すなわち基体１１の両主面のうち、凝着抑制層１９が設けられた面側を幅方向に且つ凸形状に湾曲させる応力）が働くものであってもよいし、内部応力として引っ張り応力（すなわち基体１１のうち、凝着抑制層１９が設けられた面側を幅方向に且つ凹形状に湾曲させる応力）が働くものであってもよい。

第１、第２強化層１７、１８の引っ張り応力（内部応力）が異なる場合には、第１、第２強化層１７、１８のうち、より引っ張り応力が大きい強化層上に、内部応力として圧縮応力が働く凝着抑制層１９を設けるようにしてもよい。第１、第２強化層１７、１８の引っ張り応力の違いにより相殺仕切れなかった引っ張り応力を、凝着抑制層１９の圧縮応力により相殺することができるからである。また、第１、第２強化層１７、１８のうち、より引っ張り応力が小さい強化層上に、内部応力として引っ張り応力が働く凝着抑制層１９を設けるようにしてもよい。第１、第２強化層１７、１８の引っ張り応力の違いにより発生した圧縮応力を、凝着抑制層１９の引っ張り応力により相殺することができるからである。

凝着抑制層１９の平均厚みは、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より好ましくは２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、さらにより好ましくは２ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。凝着抑制層１９の平均厚みが１ｎｍ以上であると、凝着抑制層１９の平均厚みが薄くなりすぎ、凝着抑制層１９としての機能が低下することを抑制できる。一方、凝着抑制層１９の平均厚みが１００ｎｍ以下であると、凝着抑制層１９の平均厚みが厚くなりすぎる、すなわち凝着抑制層１９の内部応力が大きくなりすぎることを抑制できる。凝着抑制層１９の平均厚みは、上述の記録層１３の平均厚みδ_magの算出方法と同様にして求められる。

第２強化層１８の平均厚みＤ２が７５ｎｍ以上３００ｎｍ以下である場合、第２強化層１８の平均厚みＤ２に対する凝着抑制層１９の平均厚みＤ４の比率（Ｄ４／Ｄ２）が、０．００５以上０．３５以下であることが好ましい。比率（Ｄ４／Ｄ２）が０．００５以上であると、第２強化層１８の平均厚みＤ２に対して凝着抑制層１９の平均厚みＤ４が薄くなりすぎ、凝着抑制層１９としての機能が低下することを抑制できる。一方、比率（Ｄ４／Ｄ２）が０．３５以下であると、第２強化層１８の平均厚みＤ２に対して凝着抑制層１９の平均厚みＤ４が厚くなりすぎる、すなわち第２強化層１８の引っ張り応力に対して凝着抑制層１９の圧縮応力が大きくなりすぎることを抑制できる。したがって、カッピングの発生をより抑制できる。

凝着抑制層１９は、例えば、炭素および金属酸化物のうちの少なくとも１種を含んでいる。凝着抑制層１９は、炭素を主成分とする炭素薄膜または金属酸化物を主成分とする金属酸化物膜であることが好ましい。炭素は、ダイヤモンドライクカーボン（以下「ＤＬＣ」という。）であることが好ましい。金属酸化物は、酸化アルミニウム、酸化銅および酸化コバルトのうちの少なくとも１種を含むことが好ましい。凝着抑制層１９は、例えば、化学気相成長（Chemical Vapor Deposition：ＣＶＤ）法により形成されるＣＶＤ膜であってもよいし、スパッタ法により形成されるスパッタ膜であってもよい。

凝着抑制層１９は、２層以上の積層構造を有していることが好ましい。磁気記録媒体の寸法安定性をさらに向上できるからである。なお、その原理は、変形例３において強化層１５を２層以上の積層構造とする場合と同様である。凝着抑制層１９が２層以上の積層構造を有する場合、各層の材料は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

上述の構成を有する磁気記録媒体では、第１、第２強化層１７、１８の内部応力（引っ張り応力）が相殺し合って、磁気記録媒体にカッピングが発生することを抑制できる。したがって、磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触状態を良好な状態に保持でき、かつトラック幅方向における高い寸法安定性を有する、オフトラック特性に優れた高ＳＮの磁気記録媒体を提供できる。また、磁気記録媒体の製造工程において、積層体１０をロール状に巻き取った際に、凝着抑制層１９が第１、第２強化層１７、１８の間に介在するため、第１、第２強化層１７、１８の金属凝着を抑制することができる。

（変形例５）
ε酸化鉄粒子の粉末の保磁力Ｈｃを調整するために、ε酸化鉄粒子をコアシェル化してもよいし、ε酸化鉄粒子に添加剤を含ませてもよい。添加剤としては、鉄以外の金属を用いることができ、例えば、例えば、Ａｌ、ＧａおよびＩｎからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。なお、ε酸化鉄粒子のコアシェル化の詳細については、第２、第３の実施形態にて説明する。

（変形例６）
磁気記録媒体が、リング型ヘッド以外の記録ヘッドを備える記録再生装置を用いて、７５ｎｍ以下の最短記録波長で信号を記録可能に構成されていてもよい。

＜２ 第２の実施形態＞
本技術の第２の実施形態に係る磁気記録媒体は、磁性粉としてコアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末を含む記録層１３を備える点において、第１の実施形態における磁気記録媒体と異なっている。したがって、以下では磁性粉末についてのみ説明する。

［磁性粉末の構成］
磁性粉末は、コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末である。このε酸化鉄粒子は、図１１に示すように、コア部２２と、このコア部２２の周囲に設けられたシェル部２３とを備える。コア部２２とシェル部２３とは交換結合している。コア部２２とシェル部２３の界面において、両者の組成および／または状態などが不連続的に変化していてもよいし、連続的に変化していてもよい。

（コア部）
コア部２２は、第１の実施形態におけるε酸化鉄粒子と同様である。

（シェル部）
シェル部２３は、コア部２２の周囲のうちの少なくとも一部を覆っている。具体的には、シェル部２３は、コア部２２の周囲を部分的に覆っていてもよいし、コア部２２の周囲全体を覆っていてもよい。コア部２２とシェル部２３の交換結合を十分なものとし、磁気特性を向上する観点からすると、コア部２２の表面全体を覆っていることが好ましい。

シェル部２３は、いわゆる軟磁性層であり、軟磁性体であるα－Ｆｅを含んでいる。シェル部２３は、例えば、コアシェル粒子の前駆体としてのε酸化鉄粒子（硬磁性粒子）の表面を還元することにより得られうるものである。具体的には例えば、シェル部２３に含まれるα－Ｆｅは、コア部２２に含まれるε酸化鉄を還元することにより得られうるものである。なお、シェル部２３がα－Ｆｅに代えて別の軟磁性体を含んでいてもよいし、α－Ｆｅと共に別の軟磁性体をさらに含んでいてもよい。

［磁性粉末の製造方法］
第２の実施形態における磁性粉末の製造方法は、図１２に示すように、コート除去の工程（ステップＳ１４）後に、以下の還元処理の工程（ステップＳ１５）をさらに備える点において、第１の実施形態における磁性粉末の製造方法と異なっている。

（還元処理）
ステップＳ１５において、シリカコート層２１ｂを除去することにより得られたε酸化鉄粒子２１（図７Ｃ、図７Ｄ参照）の粉末を還元処理する。具体的には、ε酸化鉄粒子２１の粉末を高温水素雰囲気下で一定時間熱処理することにより、粒子表面を還元させる。これにより、α－Ｆｅを含むシェル部２３がコア部２２の周囲に形成される。以上により、目的とするコアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末が得られる。

［効果］
第２の実施形態に係る磁気記録媒体では、記録層１３が、ε酸化鉄を含むコア部２２と、軟磁性体であるα－Ｆｅを含むシェル部２３とを備えるコアシェル型構造のε酸化鉄粒子の粉末を含んでいる。このため、高出力で、優れた熱安定性を有し、また記録容易性を有する磁気記録媒体を実現できる。

第２の実施形態における磁性粉末の製造方法では、硬磁性粒子であるε酸化鉄粒子を還元処理することにより、軟磁性体であるα－Ｆｅを含むシェル部２３を備えるコアシェル粒子を形成する。これにより、均一なコアシェル粒子を作製することができ、コア部２２となるε酸化鉄粒子とシェル部２３となるα－Ｆｅの交換相互作用を均一に発現させることができる。したがって、高い飽和磁化量σｓを有する軟磁性体の特徴を生かすことができ、コアシェル粒子全体として高い飽和磁化量σｓを得ることができる。記録容易性についても同様に、コア部２２単体の保磁力Ｈｃは熱安定性を確保するために大きな値に保ちつつ、コアシェル粒子全体としての保磁力Ｈｃを記録に適した保磁力Ｈｃに調整できるため、記録容易性が高まる。また、コア部２２となるε酸化鉄粒子も従来方法に比べて大きく作ることができるため、高い保磁力Ｈｃを保ちやすく、熱安定性の向上に有利である。

また、第２の実施形態における磁性粉末の製造方法では、予め作製したε酸化鉄粒子の表面を直接還元処理するため、前駆体となるε酸化鉄粒子の粒子径と、還元処理により得られるコアシェル粒子の粒子径とが同程度になる。したがって、前駆体となるε酸化鉄粒子の粒子径を調整することで、所望の粒子径を有するコアシェル粒子を作製することができる。したがって、粒度分布のばらつきの発生を抑制できる。

［変形例］
（変形例１）
ε酸化鉄粒子２１の粉末を水素化カルシウム（ＣａＨ₂）で還元処理するようにしてもよい。ＣａＨ₂は還元性が非常に強いことが知られている。このため、ε酸化鉄粒子２１の粉末を還元してα－Ｆｅを形成する際に、Ｈ₂の代替として使用することができる。ＣａＨ₂は還元性が非常に強いため、Ｈ₂よりも低温での還元が可能である。また、還元の際のε酸化鉄粒子２１の凝集を抑制することも可能である。

（変形例２）
コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末の製造方法は上述の例に特に限定されるものではない。例えば、第１の実施形態の変形例１における磁性粉末の製造方法において、コート除去の工程（ステップＳ２５）後に、上記の還元処理の工程（ステップＳ１５）をさらに備えることで、コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末を作製してもよい。

＜３ 第３の実施形態＞
本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体は、磁性粉としてコアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末を含む記録層１３を備える点において、第１の実施形態における磁気記録媒体と異なっている。したがって、以下では磁性粉末についてのみ説明する。

［磁性粉末の構成］
磁性粉末は、図１３に示すように、コア部２２と、このコア部２２の周囲に設けられた２層構造のシェル部２４とを備えるコアシェル粒子の粉末である。

（シェル部）
２層構造のシェル部２４は、コア部２２上に設けられた第１シェル部２４ａと、第１シェル部２４ａ上に設けられた第２シェル部２４ｂとを備える。

（第１シェル部）
軟磁性層である第１シェル部２４ａは、第２の実施形態におけるシェル部２４と同様である。

（第２シェル部）
第２シェル部２４ｂは、酸化防止層としての酸化被膜である。第２シェル部２４ｂは、第１シェル部２４ａに含まれるα－Ｆｅ（軟磁性体）を酸化することにより得られうる材料、例えばＦｅ₃Ｏ₄、Ｆｅ₂Ｏ₃およびＦｅＯのうちの少なくとも１種の酸化鉄を含んでいる。

［磁性粉末の製造方法］
第３の実施形態における磁性粉末の製造方法は、図１４に示すように、コート除去の工程（ステップＳ１４）後に、以下の還元処理の工程（ステップＳ１６）と徐酸化処理の工程（ステップＳ１７）とをさらに備える点において、第１の実施形態に係る磁性粉末の製造方法と異なっている。

（還元処理）
ステップＳ１６において、シリカコート層２１ｂを除去することにより得られたε酸化鉄粒子２１（図７Ｃ、図７Ｄ参照）の粉末を還元処理する。これにより、α－Ｆｅを含む第１シェル部２４ａがコア部２２の周囲に形成される。なお、ステップＳ１６の還元処理は、第２の実施形態におけるステップＳ１５の還元処理と同様である。

（徐酸化処理）
ステップＳ１７において、第１シェル部２４ａにより表面が覆われたε酸化鉄粒子２１の粉末を徐酸化処理する。具体的には例えば、上記のε酸化鉄粒子２１の粉末を窒素雰囲気中で室温まで冷却したのち、Ｏ₂＋Ｎ₂混合ガスの雰囲気中で熱処理を行うことにより、最外層に酸化被膜としての第２シェル部２４ｂを形成する。これにより耐酸化性に優れたコアシェル型ε酸化鉄粒子の粉末を得ることができる。

［効果］
第３の実施形態に係る磁気記録媒体では、記録層１３が、コア部２２と、このコア部２２の周囲に設けられた２層構造のシェル部２４とを備えるコアシェル型構造のε酸化鉄粒子の粉末を含んでいる。このため、磁気記録媒体の製造工程またはその工程前において、ε酸化鉄粒子が空気中に暴露されて、粒子表面に錆びなどが発生することを抑制することができる。したがって、磁気記録媒体の特性劣化を抑制することができる。

［変形例］
コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末の製造方法は上述の例に特に限定されるものではない。例えば、第１の実施形態の変形例１における磁性粉末の製造方法において、コート除去の工程（ステップＳ２５）後に、上記の還元処理の工程（ステップＳ１６）と徐酸化処理の工程（ステップＳ１７）とをさらに備えることで、コアシェル型構造を有するε酸化鉄粒子の粉末を作製してもよい。

以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

以下の実施例、比較例において、ほぼ球状またはほぼ立方体状のε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末およびそれを含む記録層のＤ_max、Ｄ_min、Ｄ_max／Ｄ_min、δ_mag、δ_mag／Ｄ_minは、上述の第１の実施形態にて説明した方法により求められたものである。

以下の比較例において、ほぼ六角板状のＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉結晶磁性粉末およびそれを含む記録層のＤ_max、Ｔ_max、Ｄ_max／Ｔ_max、δ_mag、δ_mag／Ｔ_maxは、以下のようにして求められたものである。

（Ｄ_max、Ｔ_max、Ｄ_max／Ｔ_max）
まず、ＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉結晶磁性粉末のＴＥＭ写真を取得する。次に、取得したＴＥＭ写真から、ほぼ六角形状の主面を観察可能な５００個の粒子を無作為に選び出し、それらの粒子の最長径ｄ_maxをそれぞれ測定して、磁性粉末の最長径ｄ_maxの粒度分布を求める。ここで、“粒子の最長径ｄ_max”とは、いわゆる最大フェレ径を意味し、具体的には、六角形状の主面の輪郭に接するように、あらゆる角度から引いた２本の平行線間の距離のうち最大のものをいう。その後、求めた最長径ｄ_maxの粒度分布から最長径ｄ_maxのメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを磁性粉末の平均最長径Ｄ_maxとする。

次に、上記ＴＥＭ写真から、側面を観察可能な５００個の磁性粒子を無作為に選び出し、それらの粒子の最大厚みｔ_maxをそれぞれ測定して、磁性粉末の最大厚みｔ_maxの粒度分布を求める。その後、求めた最大厚みｔ_maxの粒度分布から最大厚みｔ_maxのメジアン径（５０％径、Ｄ５０）を求めて、これを磁性粉末の平均最大厚みＴ_maxとする。最後に、上述のようにして求めた平均最長径Ｄ_maxおよび平均最大厚みＴ_maxを用いて、比率（Ｄ_max／Ｔ_max）を求める。

（δ_mag）
記録層の平均厚みδ_magは、上述の第１の実施形態にて説明した方法により求められる。

（δ_mag／Ｔ_max）
上述のようにして求めた記録層の平均厚みδ_magおよび磁性粉末の平均最大厚みＴ_maxを用いて、比率（δ_mag／Ｔ_max）を求める。

［実施例１～４］
＜磁性粉末の作製工程＞
Ｆｅ₃Ｏ₄粒子の粉末を出発原料として、ほぼ球状を有し、かつ、表１に示すＤ_max、Ｄ_minおよびＤ_max/Dminを有するε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を以下のようにして作製した。

（Ｆｅ₃Ｏ₄ナノ粒子合成）
まず、容量３００ｍｌの丸底三口フラスコに鉄アセチルアセトナート２０ｍｍｏｌ～６０ｍｍｏｌ、オレイン酸２０．０ｍＬおよびオレイルアミン３０．０ｍＬを秤量し、混合して溶液を調製した。次に、溶液を１００Ｐａの減圧雰囲気下、１３０℃で１時間の加熱することにより、脱泡処理を行った。なお、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末のＤ_max、Ｄ_minおよびＤ_max/Ｄ_minの値は、鉄アセチルアセトナートの配合量を上記の範囲で調整することでサンプル毎に変化させた。

続いて、Ｎ₂雰囲気に切り替え、３００℃まで昇温し６時間加熱した。その後、室温へ自然冷却し、エタノールによって遠心・洗浄を複数回行って前駆体粒子としてのＦｅ₃Ｏ₄ナノ粒子を得た。最後に、得られたＦｅ₃Ｏ₄ナノ粒子をシクロヘキサン中に再分散させた。

（シリカコート処理）
まず、容量１００ｍｌのナス型フラスコにシクロヘキサン８０ｍＬ、ポリオキシエチレン（５）ノニルフェニルエーテル（ＩＧＥＰＡＬ（登録商標））１２ｍＬおよびアンモニア水２ｍＬを混合し、透明な均一溶液となるまで超音波を照射しながら、６００ｒｐｍで６０ｍｉｎ間攪拌した。

そこに、あらかじめシクロヘキサン中に分散させた状態のＦｅ₃Ｏ₄ナノ粒子を加え、さらにテトラエチルオルソシリケートを、Ｆｅ／Ｓｉのｍｏｌ比が０．１となるように任意の速度で滴下した。滴下後、さらに６００ｒｐｍで１６時間攪拌を続けた。反応終了後、メタノールを加え、遠心分離を行う作業を複数回繰り返し、洗浄を行った。遠心分離により得られた沈殿物を６０℃の乾燥機で乾燥させ、シリカコートＦｅ₃Ｏ₄ナノ粒子を回収した。

（高温熱処理）
まず、得られたシリカコートＦｅ₃Ｏ₄ナノ粒子をアルミナるつぼに投入し、マッフル炉に投入した。その後、マッフル炉を１１００℃まで加熱し、２００時間焼成を行った。これにより、単相に近いε酸化鉄ナノ粒子の粉末が得られた。

（シリカコート除去）
まず、テフロン（登録商標）遠沈管にε酸化鉄ナノ粒子の粉末および５Ｍに調整したＮａＯＨ水溶液を投入し、オイルバスにて６０℃まで加熱し、２４時間放置した。その後、イオン交換水を添加し遠沈分離する作業を複数回繰り返した。さらにエタノールを添加後、遠心分離をかけたのち、６０℃で乾燥させることにより、シリカコートが除去された状態のε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得た。

＜磁気記録媒体の作製工程＞
（記録層形成用塗料の調製工程）
記録層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第一組成物をエクストルーダで混練した。次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、第一組成物と、下記配合の第二組成物を加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、記録層形成用塗料を調製した。

（第一組成物）
ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末：１００質量部（なお、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末としては、上記の磁性粉末の作製工程により得られたものを用いた。）
塩化ビニル系樹脂（シクロヘキサノン溶液３０質量％）：１０質量部
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ₃Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
酸化アルミニウム粉末：５質量部
（α－Ａｌ₂Ｏ₃、平均粒径０．２μｍ）
カーボンブラック：２質量部
（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）

（第二組成物）
塩化ビニル系樹脂：１．１質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
ｎ－ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１２１．３質量部
トルエン：１２１．３質量部
シクロヘキサノン：６０．７質量部

（下地層形成用塗料の調製工程）
下地層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記配合の第三組成物をエクストルーダで混練した。その後、ディスパーを備えた攪拌タンクに、第三組成物と、下記配合の第四組成物を加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、下地層形成用塗料を調製した。

（第三組成物）
針状酸化鉄粉末：１００質量部
（α－Ｆｅ₂Ｏ₃、平均長軸長０．１５μｍ）
塩化ビニル系樹脂：５５．６質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
カーボンブラック：１０質量部
（平均粒径２０ｎｍ）

（第四組成物）
ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
ｎ－ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１０８．２質量部
トルエン：１０８．２質量部
シクロヘキサノン：１８．５質量部

（バックコート層形成用塗料の調製工程）
バックコート層形成用塗料を以下のようにして調製した。まず、下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バックコート層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック（旭社製、商品名：＃８０）：１００質量部
ポリエステルポリウレタン：１００質量部
（日本ポリウレタン社製、商品名：Ｎ－２３０４）
メチルエチルケトン：５００質量部
トルエン：４００質量部
シクロヘキサノン：１００質量部

次に、上述のようにして作製した記録層形成用塗料、および下地層形成用塗料のそれぞれに、硬化剤として、ポリイソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）：４質量部と、ミリスチン酸：２質量部とを添加した。

（塗布工程）
上述のようにして作製した塗料を用いて、非磁性支持体である厚さ６．２μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）上に下地層、および記録層を以下のようにして形成した。まず、ＰＥＮフィルム上に、下地層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、ＰＥＮフィルム上に下地層を形成した。次に、下地層上に、記録層形成用塗料を塗布し、乾燥させることにより、下地層上に記録層を形成した。なお、乾燥の際に、例えばソレノイドコイルにより、磁性粉末をＰＥＮフィルムの厚さ方向に磁場配向させた。続いて、下地層、および記録層が形成されたＰＥＮフィルムに対してカレンダー処理を行い、記録層表面を平滑化した。上記作製工程において、下地層形成用塗料の塗布厚、記録層形成用塗料の塗布厚およびカレンダー処理の圧力を調整することにより、カレンダー処理後の下地層の平均厚みを１１００ｎｍ、記録層の平均厚みδ_magおよびδ_mag／Ｄ_minを表１に示す値とした。また、配向磁場中、乾燥風の風量を調整することで、表１に示すように、磁気テープの走行方向（長手方向）に測定した角形比Ｓ（％）（＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００）をサンプル毎に調整した。その後、記録層とは反対側の面に、バックコート層形成用塗料を膜厚０．６μｍに塗布し乾燥することにより、バックコート層を形成した。

（裁断の工程）
上述のようにして下地層、記録層およびバックコート層が形成されたＰＥＮフィルムを１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断し、目的とする磁気テープを得た。

［実施例５］
＜磁性粉末の作製工程＞
ＦｅＯ粒子の粉末を出発原料として、ほぼ立方体状を有し、かつ、表１に示すＤ_max、Ｄ_minおよびＤ_max/Ｄ_minを有するε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を作製した。具体的には、Ｆｅ₃Ｏ₄ナノ粒子合成の工程に代えて、以下のＦｅＯ粒子合成の工程を実施したこと以外は、実施例１と同様にしてε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を作製した。

（ＦｅＯナノ粒子合成）
まず、容量３００ｍｌの丸底三口フラスコに鉄アセチルアセトナート１０．０ｍｍｏｌ、オレイン酸２５．０ｍＬおよびオレイルアミン２５．０ｍＬを秤量し、１００Ｐａの減圧雰囲気下、２１０℃で３２時間の前処理加熱を行った。

次に、Ｎ₂雰囲気に切り替え、３２０℃まで昇温し３０ｍｉｎ加熱した。その後、室温へ自然冷却し、エタノールによって遠心・洗浄を複数回行ってＦｅＯナノ粒子を得た。最後に、得られたＦｅＯナノ粒子をシクロヘキサン中に再分散させた。

＜磁気記録媒体の作製工程＞
磁性粉末として上述のようにして得られたε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を用いたこと、および記録層の平均厚みδ_magおよびδ_mag／Ｄ_minを表１に示す値に設定したこと以外のことは実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［実施例６］
ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末の粒子表面を以下のようにして還元処理し、単層構造のシェル部を有するコアシェル型のε酸化鉄ナノ粒子の粉末を得たこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

（還元処理）
まず、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を石英ボートに載せ、管状炉へ投入した。投入後、管状炉を一度Ｎ₂雰囲気に置換した後、所定の温度まで昇温させた。昇温後、１００％Ｈ₂を流量１００ｍｌ／ｍｉｎでフローさせながら、３５０℃で１時間加熱処理を行った。これにより、ε酸化鉄ナノ粒子の表面が還元されα－Ｆｅに変態した。その後、再びＮ₂雰囲気に置換して、室温まで冷却した。以上により、α－Ｆｅ層を表面に有するコアシェル型のε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末が得られた。

［実施例７］
α－Ｆｅ層の表面を以下のようにして徐酸化処理し、２層構造のシェル部を有するコアシェル型のε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を得たこと以外は実施例６と同様にして磁気テープを得た。

（徐酸化処理）
実施例６の還元処理の工程にて室温まで冷却した後、さらに所定の温度まで加熱し、微量酸素を含むＮ₂ガスを同流量でフローさせながら、３００℃で５分間加熱処理を行った。その後、再びＮ₂雰囲気に置換して、室温まで冷却した。以上により、耐酸化被膜（外側層）およびα－Ｆｅ層（内側層）を表面に有するコアシェル型のε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末が得られた。

［実施例８］
まず、前処理加熱の時間を３０時間とすることにより、前駆体粒子としてのＦｅＯ粒子の粒子径を大きくしたこと以外は実施例５と同様にして、表１に示すＤ_max、Ｄ_minおよびＤ_max/Dminを有するε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を得た。次に、得られたε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末の粒子表面に、実施例７と同様の還元処理および徐酸化処理を行うことにより、コアシェル型のε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を得た。このようにして得られたε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［比較例１］
記録層の形成時の配向磁場中、乾燥風の風量を変更し、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末の垂直配向性を低下（すなわち長手方向（走行方向）の角形比を増加）させたこと以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［比較例２］
記録層形成用塗料の塗布厚およびカレンダー処理の圧力を調整することにより、記録層の平均厚みδ_magおよびδ_mag／Ｄ_minを表１に示す値としたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［比較例３、４］
磁性粉末として、板状を有し、かつ、表２に示すＤ_max、Ｔ_maxおよびＤ_max／Ｔ_maxを有する六角板状のＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉結晶磁性粉末を用いたこと以外は実施例１と同様にして磁気テープを得た。

［磁気テープの評価］
（角形比Ｓ（＝（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００）、活性化体積Ｖ_act）
上述のようにして得られた実施例１～８、比較例１～４の磁気テープの角形比Ｓ＝（（Ｍｒ／Ｍｓ）×１００）および活性化体積Ｖ_actを、上述の第１の実施形態にて説明した方法により求めた。

（Ｃ／Ｎ値）
上述のようにして得られた実施例１～８、比較例１～４の磁気テープのＣ／Ｎ値（電磁変換特性）を以下のようにして測定した。Micro Physics社製のループテスターを用いて、テープスピード１．５ｍ／ｓｅｃにてＣ／Ｎ値の測定を行った。記録ヘッドとしてはリングヘッドを用いた。記録周波数を１０ＭＨｚ（記録波長０．１５μｍ）とし、最適記録電流で記録再生を行い、スペクトラムアナライザーを用いて、１０ＭＨｚの再生出力値と、１０ＭＨｚ±１ＭＨｚのノイズの平均値を計測し、それらの差をＣ／Ｎ値と定義した。表２中では、比較例３のＣ／Ｎ値を０ｄＢとして、その相対差で表記している。なお、相対差が３ｄＢ以上を良好なＣ／Ｎ値と定義した。ここで、記録波長を７５ｎｍではなく０．１５μｍ（１５０ｎｍ）としているのは、以下の理由による。すなわち、短波長を用いた記録再生系では、Ｃ／Ｎとしては一般的に最短記録波長の２倍の記録波長で記録再生した際の出力／ノイズの比を用いることが多い。また、２倍の記録波長でのＣ／Ｎは、最短記録波長でのＣ／Ｎよりもエラーレートとの相関性が高い。更に、最短記録波長でＣ／Ｎ計測を行った場合、記録再生系の波長特性によっては、テープノイズが記録再生系のシステムノイズに隠れてしまい、メディアのノイズ特性を正しく反映しない場合もある。特に高線記録密度記録の場合、メディアのノイズ特性を正しく反映しない場合が多い。

［結果］
表１は、実施例１～８、比較例１、２の磁気テープの構成および評価結果を示す。

表２は、比較例３、４の磁気テープの構成および評価結果を示す。

但し、表１、２中、Ｍｒ：残留磁化、Ｍｓ：飽和磁化、Ｄ_max：平均最長径、Ｄ_min：平均最短径、Ｔ_max：平均最大厚み、δ_mag：記録層の平均厚み、Ｖ_act：活性化体積、Ｃ／Ｎ：Carrier to Noise Ratioである。なお、角形比Ｍｒ／Ｍｓは、磁気テープの走行方向（長手方向）に測定したものであり、百分率で標記している。

表１および表２から以下のことがわかる。
実施例１～８では、記録層がε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末を含み、磁気テープの走行方向に測定した角形比が３０％以下であり、ε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末の平均最長径Ｄ_maxと平均最短径Ｄ_minとの比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が１．０≦（Ｄ_max／Ｄ_min）≦１．１の関係を満たし、記録層の平均厚みδ_magが１００ｎｍ以下であり、記録層の平均厚みδ_magとε－Ｆｅ₂Ｏ₃結晶磁性粉末の平均最短径Ｄ_minとの比率（δ_mag／Ｄ_min）が、δ_mag／Ｄ_min≦５の関係を満たすため、良好なＣ／Ｎ値が得られる。
比較例１では、磁気テープの走行方向に測定した角形比が３０％を超えており、磁性粉の垂直配向性が低いため、Ｃ／Ｎ値が低下する。
比較例２では、記録層の平均厚みδ_magが１００ｎｍを超えており、垂直磁界が記録層の下部まで伝わり難いため、Ｃ／Ｎ値が低下する。
比較例３、４では、磁性粉末としてスタッキングしやすい六角板状のＢａＦｅ₁₂Ｏ₁₉結晶磁性粉末を用いているため、Ｃ／Ｎ値が低下する。粒子の平均最長径Ｄ_maxが大きい比較例３では、特にスタッキングしやすいため、Ｃ／Ｎ値が大きく低下する。

以上、本技術の実施形態および実施例について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。また、化合物等の化学式は代表的なものであって、同じ化合物の一般名称であれば、記載された価数等に限定されない。

また、上述の実施形態および実施例の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
最短記録波長が７５ｎｍ以下である記録再生装置に用いられる磁気記録媒体であって、
ε酸化鉄を含む粒子の粉末を含む記録層を備え、
磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が、３０％以下であり、
前記粒子の平均最長径Ｄ_maxと平均最短径Ｄ_minとの比率（Ｄ_max／Ｄ_min）が、１．０≦（Ｄ_max／Ｄ_min）≦１．１の関係を満たし、
前記記録層の平均厚みδ_magが、１００ｎｍ以下であり、
前記記録層の平均厚みδ_magと前記粒子の平均最短径Ｄ_minとの比率（δ_mag／Ｄ_min）が、δ_mag／Ｄ_min≦５の関係を満たす磁気記録媒体。
（２）
前記粒子は、球状またはほぼ球状を有する（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）
前記粒子は、立方体状またはほぼ立方体状を有する（１）に記載の磁気記録媒体。
（４）
前記粒子は、コアシェル構造を有する（１）から（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（５）
前記粒子は、
ε酸化鉄を含むコア部と、
軟磁性体を含むシェル部と
を備える（１）から（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（６）
前記粒子は、前記シェル部上に設けられた酸化被膜をさらに備える（５）に記載の磁気記録媒体。
（７）
磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が、２５％以下である（１）から（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（８）
前記記録層の平均厚みδ_magが、８０ｎｍ以下である（１）から（７）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（９）
前記記録層の平均厚みδ_magと前記粒子の平均最短径Ｄ_minとの比率（δ_mag／Ｄ_min）が、δ_mag／Ｄ_min≦４．５の関係を満たす（１）から（８）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１０）
前記粒子は、鉄以外の金属さらに含む（１）から（９）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１１）
活性化体積Ｖ_actが、５０００ｎｍ³以下である（１）から（１０）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１２）
活性化体積Ｖ_actが、３０００ｎｍ³以下である（１）から（１１）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１３）
前記記録再生装置は、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備える（１）から（１２）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（１４）
垂直磁気記録方式である（１）から（１３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。

１１ 基体
１２ 下地層
１３ 記録層
１４ バックコート層
１５ 強化層
１６ カッピング抑制層
１７ 第１強化層
１８ 第２強化層
１９ 凝着抑制層
２１ ε酸化鉄粒子
２１ａ ＦｅＯ粒子
２１ｂ シリカコート層
２１ｃ Ｆｅ₃Ｏ₄粒子
２２ コア部
２３、２４ シェル部
２４ａ 第１シェル部
２４ｂ 第２シェル部

Claims (12)

1. 最短記録波長が７５ｎｍ以下である記録再生装置に用いられる磁気記録媒体であって、
   ε酸化鉄を含む立方体状の粒子を含む記録層を備え、
   磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が、３０％以下であり、
   前記粒子の平均最長径Ｄ_ｍａｘと平均最短径Ｄ_ｍｉｎとの比率（Ｄ_ｍａｘ／Ｄ_ｍｉｎ）が、１．０≦（Ｄ_ｍａｘ／Ｄ_ｍｉｎ）≦１．１の関係を満たし、
   前記記録層の平均厚みδ_ｍａｇが、１００ｎｍ以下であり、
   前記記録層の平均厚みδ_ｍａｇと前記粒子の平均最短径Ｄ_ｍｉｎとの比率（δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ）が、δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ≦５の関係を満たす磁気記録媒体。
2. 前記粒子は、コアシェル構造を有する請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記粒子は、
   ε酸化鉄を含むコア部と、
   軟磁性体を含むシェル部と
   を備える請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. 前記粒子は、前記シェル部上に設けられた酸化被膜をさらに備える請求項３に記載の磁気記録媒体。
5. 磁気記録媒体の走行方向に測定した角形比が、２５％以下である請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
6. 前記記録層の平均厚みδ_ｍａｇが、８０ｎｍ以下である請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
7. 前記記録層の平均厚みδ_ｍａｇと前記粒子の平均最短径Ｄ_ｍｉｎとの比率（δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ）が、δ_ｍａｇ／Ｄ_ｍｉｎ≦４．５の関係を満たす請求項１から６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
8. 前記粒子は、鉄以外の金属さらに含む請求項１から７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
9. 活性化体積Ｖ_ａｃｔが、５０００ｎｍ^３以下である請求項１から８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
10. 活性化体積Ｖ_ａｃｔが、３０００ｎｍ^３以下である請求項１から８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
11. 前記記録再生装置は、記録用ヘッドとしてリング型ヘッドを備える請求項１から１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
12. 垂直磁気記録方式である請求項１から１１のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。

Images