JP7063680B2 - 画像処理装置、異物検査装置、画像処理方法、および異物検査方法 - Google Patents
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Description
A2:検査対象物1および異物13による電磁波21の減衰量に対応する第1画素値
続いて、背景値設定部43は、各画素32について、背景値を設定する。この処理は、図4のステップS2に相当する。背景値設定部43が背景値を設定することによって、異物検査装置100においては、以下の効果を奏する。
B2:B2=(A2-対応する画素32の背景値)/対応する画素32の背景値
なお、理想的には、A1は対応する画素32の背景値と同じであり、B1は0となる。各第2画素値は、異物13における画素32に対応する部分の厚みに応じた値となる。
C2:C2=8*B1+1*B2
C3:C3=7*B1+2*B2
C4:C4=6*B1+3*B2
C5:C5=5*B1+4*B2
C6:C6=3*B1+6*B2
C7:C7=9*B2
上述したとおり、電磁波発生源2は、X線を、点状ではなく面状で発生させる。この結果、電磁波発生源2が電磁波21として当該X線を照射する場合、電磁波21の画像にボケが生じる。そのため、画像上の異物13の像では、ある画素32に本来反映されるべき減衰量の一部がその画素32の周辺の画素32へ反映されてしまう。
手法2:注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32の各第2画素値のうち、最も小さい値と、2番目に小さい値と、3番目に小さい値との平均値を、濃度値とする
手法3:注目画素33を中心として3行3列に設けられた計9つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法4:注目画素33を中心として4行4列に設けられた計16つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法5:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値の平均値を、濃度値とする
手法6:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値について、所定の正規分布に従って重み付けを行った値の平均値を、濃度値とする
手法7:注目画素33を中心として5行5列に設けられた計25つの画素32の各第2画素値について、手法6とは別の(具体的には、重み付けに用いるガウス重みの分散を変更した)正規分布に従って重み付けを行った値の平均値を、濃度値とする
そして、手法1~手法7のそれぞれについて、下記に定義される最悪S、最悪N、および最悪S/最悪N比を求めた。
最悪N:「異物無画像1」~「異物無画像13」それぞれの濃度値のうち、最も0%から遠いもの
最悪S/最悪N比:最悪Nに対する最悪Sの比率
なお、最悪S/最悪N比が1より大きければ、「異物画像1」~「異物画像4」それぞれと、「異物無画像1」~「異物無画像13」それぞれとが適切に区別されているとみなせるため、虚報(異物13が無いにも拘らず、異物13を検知したものとしてしまう現象)が無い状態における異物13の検出漏れが十分に抑制されていると言える。また、最悪S/最悪N比が大きい程、当該区別がより明確であるとみなせるため、虚報が無い状態における異物13の検出漏れの抑制効果が高いと言える。
11 コア
12 非水電解液二次電池用セパレータ
13 異物
14 テープまたはラベル
15 軸
2 電磁波発生源
21 電磁波
22 電磁波の発生部分の中心
23 四角錐
3 イメージセンサ
31 主面
32 画素
33 注目画素
34 参照画素
35 不適画素
36~38 画素群
4 画像処理装置
41 記憶部
42 画素値演算部
43 背景値設定部
44 画素値積算部
5 移動機構
6 回転機構
100、101、102 異物検査装置
Claims (8)
- 異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理装置において、
上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶部と、
上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算部と、
特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値の積算値を求める画素値積算部と、
を備え、
上記積算値は、上記異物における上記画素群に対応する部分の体積に応じた値であり、上記異物の一部又は全部の体積を推定することができる値であり、
上記各画素の第2画素値は、上記各画素における、上記各第1画素値と上記背景値との差の、当該背景値に対する比率である画像処理装置。 - 上記画素値積算部は、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する請求項1に記載の画像処理装置。
- 上記画素値積算部は、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する請求項1または2に記載の画像処理装置。
- 請求項1から3のいずれか1項に記載の画像処理装置を備える異物検査装置。
- 異物を含む検査対象物を透過した電磁波の画像に対して画像処理を行う画像処理方法において、
上記画像を構成する多数の画素それぞれに対応した第1画素値を記憶する記憶工程と、
上記各画素において、上記各第1画素値と上記異物を含まない検査対象物による減衰後の第1画素値に相当する背景値との差に比例する、上記各画素の第2画素値を算出する画素値演算工程と、
特定の連続領域に属する画素群の各第2画素値の積算値を求める画素値積算工程と、
を含み、
上記積算値は、上記異物における上記画素群に対応する部分の体積に応じた値であり、上記異物の一部又は全部の体積を推定することができる値であり、
上記各画素の第2画素値は、上記各画素における、上記各第1画素値と上記背景値との差の、当該背景値に対する比率である画像処理方法。 - 上記画素値積算工程にて、上記多数の画素それぞれを注目画素とし、当該注目画素を包含する上記連続領域に属する画素群の各第2画素値を積算する請求項5に記載の画像処理方法。
- 上記画素値積算工程にて、閾値よりも減衰量が大きい値を示す第2画素値を有し、かつ、連続領域をなす複数の画素それぞれの第2画素値を積算する請求項5または6に記載の画像処理方法。
- 請求項5から7のいずれか1項に記載の画像処理方法を含む異物検査方法。
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