JP7036756B2 - 真空圧力比例制御弁 - Google Patents
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Description
(真空圧力比例制御弁の概略構成)
図1は、本発明の第1実施形態に係る真空圧力比例制御弁1の断面図であって、弁閉状態を示す。図2は、真空圧力比例制御弁1の断面図であって、全開状態を示す。以下の説明では、第2ポート12側を「下」、上部シリンダキャップ5側を「上」として説明する。
図3は、図2のA部拡大図であって、フルストローク拡大動作を示す。図4は、図2のA部拡大図であって、フルストローク縮小動作を示す。図5は、図3の上面図である。調整部61は、当接部材63と、付勢ばね66と、ネジ部64を備える。付勢ばね66は「付勢部材」の一例である。
続いて、真空圧力比例制御弁1の動作を説明する。真空圧力比例制御弁1は、反応容器102の内部でプロセスを実行する場合、下室31Bが加圧されない。そのため、図1に示すように、ピストン32がスプリング33の付勢力により弾性シール部材22を弁座面15に密着させるように下降し、連通部14が遮断されている。
例えば、図3に示すように、先端部511の位置を上昇させる場合、真空圧力比例制御弁1は、回り止め部材68と当接部材63を離間させるように回り止め部材68が回転され、当接部材63の固定が解除される。そして、回転用治具9の一対の係止ピン93,93が当接部材63の引掛孔65,65に差し込まれ、回転用治具9を用いて当接部材63が、真空圧力比例制御弁1を上方から見て反時計回りK1に回転される。
図8及び図9を参照して、真空圧力比例制御弁1のストロークStが排気特性に与える影響を調べる排気特性試験について説明する。図8は、試験装置1000の概略構成図である。図9は、試験結果を示すグラフである。
以上説明したように、本形態の真空圧力比例制御弁1は、反応容器102と真空ポンプ101とを接続する配管103に配置され、反応容器102内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁1において、ピストン室31を備えるシリンダ6と、ピストン室31に往復直線運動可能に収容されるピストン32と、弁座面15と、ピストン32の動作に応じて弁座面15に当接又は離間する弁体21と、先端部511がピストン室31の内部に配置されるようにシリンダ6に設けられ、先端部511とピストン32が当接した場合に真空圧力比例制御弁1を全開状態にするストッパ部材51と、ストッパ部材51をピストン32の移動方向に進退させ、先端部511の位置を調整する調整部61と、を有すること、を特徴とする。
続いて、本発明の第2実施形態について説明する。図10は、本発明の第2実施形態に係る真空圧力比例制御弁201の部分拡大断面図であって、弁閉状態を示す。図11は、真空圧力比例制御弁201の部分拡大断面図であって、全開状態を示す。
6 シリンダ
9 回転用治具
15 弁座面
21 弁体
31 ピストン室
32 ピストン
51,211 ストッパ部材
61 調整部
62 収容溝
63 当接部材
64 ネジ部
65 引掛孔
66 付勢ばね
68 回り止め部材
214 ネジ部
218 固定ナット
Claims (7)
- 反応容器と真空ポンプとを接続する配管に配置され、反応容器内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁において、
ピストン室を備えるシリンダと、
前記ピストン室に往復直線運動可能に収容されるピストンと、
弁座と、
前記ピストンの動作に応じて前記弁座に当接又は離間する弁体と、
先端部が前記ピストン室の内部に配置されるように前記シリンダに設けられ、前記先端部と前記ピストンが当接した場合に前記真空圧力比例制御弁を全開状態にするストッパ部材と、
前記ストッパ部材を前記ピストンの移動方向に進退させ、前記先端部の位置を手動で調整する調整部と、を有し、
前記配管の長さに応じて、前記ストッパ部の前記先端部の位置が前記調整部を用いて手動で調整されることにより、全開時のフルストロークを調整可能であり、
前記ピストン室の圧力に応じて弁開度を調整し、前記反応容器内の真空圧力を制御する場合に、前記ストッパ部の前記先端部は、全開時のみ、前記ピストンと当接すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 反応容器と真空ポンプとを接続する配管に配置され、反応容器内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁において、
ピストン室を備えるシリンダと、
前記ピストン室に往復直線運動可能に収容されるピストンと、
弁座と、
前記ピストンの動作に応じて前記弁座に当接又は離間する弁体と、
先端部が前記ピストン室の内部に配置されるように前記シリンダに設けられ、前記先端部と前記ピストンが当接した場合に前記真空圧力比例制御弁を全開状態にするストッパ部材と、
前記ストッパ部材を前記ピストンの移動方向に進退させ、前記先端部の位置を調整する調整部と、を有し、
前記調整部は、
前記シリンダの前記弁座と反対側に位置する面に、前記ストッパ部材の後端部と当接可能に配置される当接部材と、
前記ストッパ部材を前記当接部材に向かって付勢する付勢部材と、
前記当接部材を前記ピストンの移動方向に移動させるネジ部と、
を有すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項2に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記当接部材は、環状に設けられていること、
前記シリンダは、前記当接部材を収容する収容溝が環状に形成されていること、
前記ネジ部は、前記当接部材の外周面に形成された雄ねじ部と、前記収容溝の内周面に形成された雌ねじ部と、を有していること、
前記ストッパ部材は、前記収容溝の周方向に沿って均等に配置され、それぞれ前記付勢部材によって前記当接部材に向かって付勢されていること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項3に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記当接部材は、前記ストッパ部材と当接する面と反対側に位置する面に、前記当接部材を回転させるための回転用治具を引っ掛けるための引掛孔が周方向に均等に形成されていること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 反応容器と真空ポンプとを接続する配管に配置され、反応容器内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁において、
ピストン室を備えるシリンダと、
前記ピストン室に往復直線運動可能に収容されるピストンと、
弁座と、
前記ピストンの動作に応じて前記弁座に当接又は離間する弁体と、
先端部が前記ピストン室の内部に配置されるように前記シリンダに設けられ、前記先端部と前記ピストンが当接した場合に前記真空圧力比例制御弁を全開状態にするストッパ部材と、
前記ストッパ部材を前記ピストンの移動方向に進退させ、前記先端部の位置を調整する調整部と、を有し、
前記ストッパ部材は、前記ピストンの移動方向に沿って前記シリンダに貫き通されていること、
前記調整部は、前記ストッパ部材と前記シリンダとの間に設けられたネジ部であること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 反応容器と真空ポンプとを接続する配管に配置され、反応容器内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁において、
ピストン室を備えるシリンダと、
前記ピストン室に往復直線運動可能に収容されるピストンと、
弁座と、
前記ピストンの動作に応じて前記弁座に当接又は離間する弁体と、
先端部が前記ピストン室の内部に配置されるように前記シリンダに設けられ、前記先端部と前記ピストンが当接した場合に前記真空圧力比例制御弁を全開状態にするストッパ部材と、
前記ストッパ部材を前記ピストンの移動方向に進退させ、前記先端部の位置を調整する調整部と、
前記ストッパ部材を任意の位置で固定する固定部材と、
を有すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項1乃至請求項6の何れか1つに記載する真空圧力比例制御弁において、
前記ピストンは、前記ストッパ部材と当接する位置の硬度が前記ストッパ部材の硬度以上であること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。
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