JP7029477B2 - マスク及びマスクコンポーネント - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 165
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 63
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 48
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 19
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 17
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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Description
1.第1の溝1421は、ダミー領域142のガラス面16のみに設けられる(図7参照)。
2.第1の溝1421は、ダミー領域142の蒸着面18のみに設けられる(図8参照)。
3.第1の溝1421は、ダミー領域142の蒸着面18にもガラス面16にも設けられる(図9参照)。
1.第4の溝1442は、区切領域144の蒸着面18のみに設けられる。
2.第4の溝1442は、区切領域144のガラス面16のみに設けられる。
3.第4の溝1442は、区切領域144の蒸着面18にもガラス面16にも設けられる。
Claims (10)
- 蒸着源に対向するように配置される蒸着面と蒸着源の反対側に配置されるガラス面を備えるマスク本体と、
前記マスク本体に配置され蒸着領域と遮蔽部を含む少なくとも1つのサブマスクと、を含み、
前記蒸着領域には、前記サブマスクの厚さ方向に前記サブマスクを貫通する第1の蒸着孔が設けられており、前記遮蔽部は、前記サブマスクの厚さ方向に前記サブマスクを貫通する貫通孔を備えない区切領域とディスプレイスクリーンの異形領域に対応するダミー領域とを含み、前記区切領域は、前記ダミー領域と前記蒸着領域との間に位置し、前記ダミー領域に前記サブマスクの厚さ方向に前記サブマスクを貫通する第2の蒸着孔が設けられており、前記異形領域は、スロットがあけられた領域または孔があけられた領域であり、前記第2の蒸着孔は、前記サブマスクの厚さ方向に沿って設けられて互いに連通する第1のハーフエッチング孔と第2のハーフエッチング孔とを含み、前記第1のハーフエッチング孔は、前記ガラス面に設けられており、前記第2のハーフエッチング孔は、前記蒸着面に設けられていることを特徴とするマスク。 - 前記第1のハーフエッチング孔は、前記ガラス面に隣接する前記マスク本体の一端から前記ガラス面から離れる他端に向かって収縮し、前記第2のハーフエッチング孔は、前記蒸着面に隣接する前記マスク本体の一端から前記蒸着面から離れる他端に向かって収縮するとともに前記第1のハーフエッチング孔に連通することを特徴とする請求項1に記載のマスク。
- 前記ダミー領域には、前記サブマスクの厚さ方向に少なくとも1つの第1の溝が設けられており、前記第1の溝の深さは前記サブマスクの厚さより小さく、前記第1の溝は、前記蒸着面に設けられた第2の溝と、前記ガラス面に設けられた第3の溝とを含み、前記サブマスクの厚さ方向に沿って前記第2の溝の底壁と前記第3の溝の底壁との間に間隔があることを特徴とする請求項1に記載のマスク。
- 前記区切領域には、前記サブマスクの厚さ方向に少なくとも1つの第4の溝が設けられており、前記第4の溝の深さは、前記サブマスクの厚さより小さく、前記サブマスクの厚さ方向に沿った前記第1のハーフエッチング孔の開口の投影は、第2のハーフエッチング孔の開口範囲に入ることを特徴とする請求項2に記載のマスク。
- 前記第4の溝は、前記蒸着面に設けられた第5の溝と、前記ガラス面に設けられた第6の溝とを含み、前記サブマスクの厚さ方向に沿って前記第5の溝の底壁と前記第6の溝の底壁との間に間隔があることを特徴とする請求項4に記載のマスク。
- 前記マスク本体は、平面視で互いに直交する第1の中心線と第2の中心線を有し、前記マスク本体には、2組の前記サブマスクが設けられており、各組の前記サブマスクは少なくとも1つの前記サブマスクを含み、それぞれ隣り合う2つの前記サブマスクの間に間隔があり、2組の前記サブマスクは、前記第1の中心線に対して軸対称であり、且つ、2組の前記サブマスクは、前記第2の中心線に対して軸対称であることを特徴とする請求項1に記載のマスク。
- 前記第2の中心線の同じ側に位置する前記サブマスクの前記遮蔽部は、すべて前記第2の中心線の反対側または前記第2の中心線に対向するように配置されており、
或いは、各組の前記サブマスクは、少なくとも1つのサブ組のサブマスクを含み、それぞれ前記サブ組のサブマスクは、2つの隣り合う前記サブマスクを含み、それぞれ前記サブ組のサブマスクの2つの隣り合う前記サブマスクの前記遮蔽部は対向して配置されていることを特徴とする請求項6に記載のマスク。 - 前記マスク本体には、一列か行列で配置された複数のサブマスクが配置されており、
前記マスク本体は、前記複数のサブマスクを2組のサブマスクに分割する仮想分割線を有し、前記2組のサブマスクは、前記仮想分割線の一側に位置する第1組のサブマスクと、前記仮想分割線の他側に位置する第2組のサブマスクとを含み、前記第1組のサブマスクと前記第2組のサブマスクは、それぞれ少なくとも1つのサブマスクを含み、
前記第1組のサブマスクと前記第2組のサブマスクの各サブマスクは、前記仮想分割線に対向する側にそれぞれ前記遮蔽部が設けられており、あるいは、前記第1組のサブマスクと前記第2組のサブマスクの各サブマスクは、前記仮想分割線の反対側にそれぞれ前記遮蔽部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のマスク。 - 前記マスク本体には、一列か行列で配置された複数のサブマスクが配置されており、
同じ行にある偶数個の順に隣り合う前記サブマスクは、複数の順に隣り合うサブ組のサブマスクを形成し、それぞれ前記サブ組のサブマスクは、隣接して配置される2つのサブマスクを含み、
それぞれ前記サブ組のサブマスクの2つのサブマスクが互いに対向する側に前記遮蔽部が設けられるとともに互いに離れる側に前記遮蔽部が設けられなく、あるいは、それぞれ前記サブ組のサブマスクの2つのサブマスクの互いに対向する側に前記遮蔽部が設けられないとともに互いに離れる側には前記遮蔽部が設けられることを特徴とする請求項1に記載のマスク。 - マスクフレームと、支持ストリップと、少なくとも1つの請求項1乃至9の何れか1つに記載のマスクとを含み、
前記支持ストリップは、前記マスクフレームに固定的に接続され、少なくとも1つの前記マスクは、前記支持ストリップに積層されて前記マスクフレームに固定的に接続されることを特徴とするマスクコンポーネント。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810454597.5A CN108642440B (zh) | 2018-05-14 | 2018-05-14 | 掩膜板及掩膜组件 |
CN201810454597.5 | 2018-05-14 | ||
PCT/CN2018/103296 WO2019218536A1 (zh) | 2018-05-14 | 2018-08-30 | 掩膜板及掩膜组件 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020523478A JP2020523478A (ja) | 2020-08-06 |
JP2020523478A5 JP2020523478A5 (ja) | 2020-09-17 |
JP7029477B2 true JP7029477B2 (ja) | 2022-03-03 |
Family
ID=63755074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019568386A Active JP7029477B2 (ja) | 2018-05-14 | 2018-08-30 | マスク及びマスクコンポーネント |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210355572A1 (ja) |
EP (1) | EP3623495A4 (ja) |
JP (1) | JP7029477B2 (ja) |
KR (1) | KR102257213B1 (ja) |
CN (1) | CN108642440B (ja) |
TW (1) | TWI690107B (ja) |
WO (1) | WO2019218536A1 (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN208266253U (zh) * | 2018-05-14 | 2018-12-21 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板 |
US11326245B2 (en) | 2018-05-14 | 2022-05-10 | Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd. | Masks for fabrication of organic lighting-emitting diode devices |
CN109207920B (zh) * | 2018-11-12 | 2021-02-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模版 |
CN110760791A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-02-07 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板及掩膜组件 |
CN109943804A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-06-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种沉积掩膜板 |
CN110018610A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-07-16 | 武汉天马微电子有限公司 | 掩模板、显示面板、显示面板的制作方法和显示装置 |
CN110004407B (zh) * | 2019-05-21 | 2021-03-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版组件及其制备方法 |
CN110364639B (zh) * | 2019-07-15 | 2022-03-22 | 云谷(固安)科技有限公司 | 显示面板及其制作方法、掩膜板 |
CN110331377B (zh) * | 2019-07-24 | 2021-10-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜片及其制作方法、开口掩膜板及其使用方法、薄膜沉积设备 |
CN110423983B (zh) * | 2019-08-30 | 2021-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版 |
CN110699637B (zh) * | 2019-10-17 | 2021-03-23 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法 |
CN210916231U (zh) * | 2019-10-18 | 2020-07-03 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版 |
CN110629158B (zh) * | 2019-10-31 | 2021-01-05 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版 |
CN110846614B (zh) * | 2019-11-21 | 2022-03-25 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版和蒸镀*** |
TWI749533B (zh) * | 2020-04-23 | 2021-12-11 | 旭暉應用材料股份有限公司 | 金屬掩膜 |
CN111647846B (zh) * | 2020-05-29 | 2022-02-22 | 昆山国显光电有限公司 | 支撑条及掩膜版 |
CN111549316B (zh) * | 2020-06-22 | 2022-07-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀用掩膜版 |
CN111809147B (zh) * | 2020-08-17 | 2023-04-18 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板及蒸镀装置 |
CN111926291A (zh) * | 2020-08-31 | 2020-11-13 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜板及掩膜板组件 |
KR20220055538A (ko) * | 2020-10-26 | 2022-05-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 어셈블리 및 마스크 어셈블리의 제작 방법 |
CN112662994B (zh) * | 2020-12-04 | 2023-04-25 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜版及其制备方法 |
TWI757041B (zh) * | 2021-01-08 | 2022-03-01 | 達運精密工業股份有限公司 | 遮罩 |
CN113215529B (zh) * | 2021-04-30 | 2023-05-12 | 合肥维信诺科技有限公司 | 精密掩膜板和掩膜板组件 |
CN113832431A (zh) * | 2021-11-02 | 2021-12-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板及掩膜板结构 |
CN114032499A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-11 | 昆山国显光电有限公司 | 精密掩膜板和掩膜板 |
CN114134460B (zh) * | 2021-11-29 | 2023-06-06 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板 |
CN114107897A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-01 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜板及掩膜组件 |
US20230374646A1 (en) * | 2022-05-17 | 2023-11-23 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask for depositing emission layer, method of manufacturing the mask, and display apparatus manufactured using the mask |
CN114645246B (zh) * | 2022-05-23 | 2022-10-21 | 浙江众凌科技有限公司 | 一种金属遮罩 |
CN115433900B (zh) * | 2022-09-29 | 2024-02-20 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板和蒸镀装置 |
CN115449747B (zh) * | 2022-10-19 | 2024-02-13 | 云谷(固安)科技有限公司 | 精密掩模版及其制作方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007039777A (ja) | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜用マスク、自発光パネルの製造方法、および自発光パネル |
US20170179390A1 (en) | 2015-12-22 | 2017-06-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask assembly for thin film deposition |
CN107994054A (zh) | 2017-11-07 | 2018-05-04 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置 |
WO2019038861A1 (ja) | 2017-08-23 | 2019-02-28 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、表示パネルの製造方法、及び表示パネル |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1326179C (zh) * | 2001-04-09 | 2007-07-11 | 富士通株式会社 | 利用喷砂形成等离子体显示面板的间隔壁的形成方法 |
KR101117645B1 (ko) * | 2009-02-05 | 2012-03-05 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치 |
JP6086305B2 (ja) * | 2013-01-11 | 2017-03-01 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
CN103589996A (zh) * | 2013-10-09 | 2014-02-19 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种掩模板 |
CN104330954B (zh) * | 2014-08-25 | 2016-06-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版、掩膜版组、像素的制作方法及像素结构 |
CN105549321B (zh) * | 2016-02-18 | 2020-01-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板罩及掩模板 |
CN205662587U (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 掩膜版、掩膜组件及显示装置 |
CN107740040B (zh) * | 2017-09-08 | 2019-09-24 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 掩膜版组件及蒸镀装置 |
CN107815641B (zh) * | 2017-10-25 | 2020-05-19 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 掩膜板 |
CN107587106A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-01-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法 |
CN108004504B (zh) * | 2018-01-02 | 2019-06-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板 |
-
2018
- 2018-05-14 CN CN201810454597.5A patent/CN108642440B/zh active Active
- 2018-08-30 EP EP18918475.7A patent/EP3623495A4/en active Pending
- 2018-08-30 US US16/331,987 patent/US20210355572A1/en not_active Abandoned
- 2018-08-30 KR KR1020207001822A patent/KR102257213B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-30 WO PCT/CN2018/103296 patent/WO2019218536A1/zh unknown
- 2018-08-30 JP JP2019568386A patent/JP7029477B2/ja active Active
- 2018-11-14 TW TW107140470A patent/TWI690107B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007039777A (ja) | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜用マスク、自発光パネルの製造方法、および自発光パネル |
US20170179390A1 (en) | 2015-12-22 | 2017-06-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask assembly for thin film deposition |
WO2019038861A1 (ja) | 2017-08-23 | 2019-02-28 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、表示パネルの製造方法、及び表示パネル |
CN107994054A (zh) | 2017-11-07 | 2018-05-04 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020523478A (ja) | 2020-08-06 |
US20210355572A1 (en) | 2021-11-18 |
KR20200013782A (ko) | 2020-02-07 |
TW201907600A (zh) | 2019-02-16 |
KR102257213B1 (ko) | 2021-05-27 |
TWI690107B (zh) | 2020-04-01 |
EP3623495A1 (en) | 2020-03-18 |
CN108642440B (zh) | 2019-09-17 |
EP3623495A4 (en) | 2020-08-26 |
CN108642440A (zh) | 2018-10-12 |
WO2019218536A1 (zh) | 2019-11-21 |
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JPWO2022224398A5 (ja) |
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