CN208266253U - 掩膜板 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种掩膜板，所述掩膜板包括：掩膜板主体；设置于所述掩膜板主体上的至少一个子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区和遮挡部，在所述子掩膜板的厚度方向上，所述遮挡部开设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度。由于在遮挡部开设有凹槽，且单个凹槽的深度小于掩膜板主体的厚度(凹槽沿厚度方向并非贯穿掩膜板主体)，既保证了遮挡部不会存在像素蒸镀到基板上，又减少了遮挡部的厚度，从而使遮挡部的重量减小，使遮挡部的重量与蒸镀区的重量差距小，降低了遮挡部的应力集中，从而使掩膜板主体在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板主体在张网过程中的褶皱现象。

Description

掩膜板

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)显示。

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)，CMM用于蒸镀共通层，FMM用于蒸镀发光层。

发明人发现，采用现有技术中的掩膜板张网时异形区容易出现褶皱，导致后续显示屏像素蒸镀位置精度降低。

实用新型内容

基于此，本实用新型提供了一种掩膜板，解决了掩膜板张网时出现褶皱的问题，提高了后续显示屏像素蒸镀位置的精度。

为实现以上目的，本实用新型提供了一种掩膜板。

所述掩膜板包括：

掩膜板主体；

设置于所述掩膜板主体上的至少一个子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区和遮挡部，在所述子掩膜板的厚度方向上，所述遮挡部开设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度。

在其中一个实施例中，所述遮挡部具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述凹槽开设于所述蒸镀面。

在其中一个实施例中，所述凹槽的数量为一个，所述凹槽的底壁为所述遮挡部的蒸镀面。

在其中一个实施例中，所述凹槽的数量为至少两个，在所述子掩膜板所在平面上，每相邻两个所述凹槽之间具有间距。

在其中一个实施例中，所述遮挡部具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述凹槽包括第一凹槽与第二凹槽，所述第一凹槽开设于所述蒸镀面，所述第二凹槽开设于所述玻璃面，沿所述遮挡部的厚度方向上，所述第一凹槽的底壁与所述第二凹槽的底壁之间具有间距。

在其中一个实施例中，在所述子掩膜板所在平面上，所述第一凹槽具有第一投影，所述第二凹槽具有第二投影，所述第一投影与所述第二投影至少部分重叠。

在其中一个实施例中，在所述子掩膜板所在平面上，所述第一凹槽具有第一投影，所述第二凹槽具有第二投影，所述第一投影与所述第二投影无重叠区域。

在其中一个实施例中，所述第一凹槽的深度大于或等于所述第二凹槽的深度。

在其中一个实施例中，所述第一凹槽的与所述第二凹槽的深度均为所述掩膜板主体的厚度的一半，或者所述第一凹槽的与所述第二凹槽的深度均大于所述掩膜板主体的厚度的一半。

在其中一个实施例中，所述凹槽的横截面形状为多边形或圆形或椭圆形。

在其中一个实施例中，所述掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，所述第一中心线与所述第二中心线垂直；

所述掩膜板主体上设置有两组所述子掩膜板，每组所述子掩膜板包括至少一个所述子掩膜板，每相邻两个所述子掩膜板之间具有间距，两组所述子掩膜板关于所述第一中心线轴对称，且两组所述子掩膜板关于所述第二中心线轴对称。

本实用新型提供的掩膜板，由于在遮挡部开设有凹槽，且单个凹槽的深度小于掩膜板主体的厚度(凹槽沿厚度方向并非贯穿掩膜板主体)，既保证了遮挡部不会存在像素蒸镀到基板上，又减少了遮挡部的厚度，从而使遮挡部的重量减小，使遮挡部的重量与蒸镀区的重量差距小，降低了遮挡部的应力集中，从而使掩膜板主体在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板主体在张网过程中的褶皱现象。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图2为本实用新型另一实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图3为本实用新型又一实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图4为本实用新型又一实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图5为本实用新型又一实施例提供的掩膜板的结构示意图；

图6为本实用新型一实施例提供的掩膜板的遮挡部的纵剖面的剖视图；

图7为本实用新型另一实施例提供的掩膜板的遮挡部的纵剖面的剖视图；

图8为本实用新型又一实施例提供的掩膜板的遮挡部的纵剖面的剖视图；

图9为本实用新型又一实施例提供的掩膜板的遮挡部的纵剖面的剖视图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

正如背景技术中所述，采用现有技术中的掩膜板，会出现张网时褶皱的问题，发明人研究发现，出现这种问题的根本原因在于，开槽屏体在制作过程中需要在相应位置进行开口，即在掩膜板上存在遮挡部(即没有设置蒸镀孔的区域)，由于遮挡部与蒸镀区的结构存在较大区别，应力会集中在遮挡部，当应力在遮挡部集中时，则整个掩膜板的受力不均，在受力不均的驱使下会导致褶皱的发生。

参阅图1-图3，基于以上原因，本实用新型实施例提供一种掩膜板100，包括掩膜板主体10，在掩膜板主体10设置有至少一个子掩膜板101，每个子掩膜板101包括蒸镀区11与遮挡部12，遮挡部12用于形成异形屏开槽区，在子掩膜板101的厚度方向上，遮挡部12开设有至少一个凹槽121(参阅图6)，单个凹槽121的深度小于掩膜板主体10的厚度。

本实用新型实施例提供的掩膜板100，由于在遮挡部12开设有凹槽121，且单个凹槽121的深度小于掩膜板主体10的厚度(凹槽121沿厚度方向并非贯穿掩膜板主体10)，既保证了遮挡部12不会存在像素蒸镀到基板上，又减少了遮挡部12的厚度，从而使遮挡部12的重量减小，使遮挡部12的重量与蒸镀区11的重量差距小，降低了遮挡部12的应力集中，从而使掩膜板主体10在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板主体10在张网过程中的褶皱现象。

在本实施例中，掩膜板主体10的形状不受限定，如可以为规则的长方体状或圆形，在其他实施例中，也可以选用其他不规则的形状，如掩膜板主体10其中相对的两条边为直线，另外相对的两条边为弧形的异形。且子掩膜板101的形状也不受限定，如可以为长方形，此时蒸镀区11具有开口部，开口部开设于蒸镀区11的一条边或者多条边上。子掩膜板101的遮挡部12的形状也不受限定，如可以为弧形遮挡部12，也可以为多边形遮挡部12。

具体地，掩膜板主体10上设置有至少两个子掩膜板101，每相邻两个子掩膜板101之间具有间距。

掩膜板主体10上具有两组子掩膜板101，每组子掩膜板101包括至少一个子掩膜板101，掩膜板主体10具有第一中心线与第二中心线，第一中心线与第二中心线垂直，两组子掩膜板101关于第一中心线轴对称，两组子掩膜板101关于第二中心线轴对称。

两组子掩膜板101关于第一中心线与第二中心线均轴对称设置，则位于第一中心线与第二中心线两侧的遮挡部12的数量相同，则此时掩膜板主体10在张网时第一中心线与第二中心线两侧受力均匀，进一步降低了遮挡部12位置的褶皱，张网精度提高，从而也使得后续显示屏像素蒸镀位置精度较高，且也提高了后续显示屏的开口区(即异形区)的显示效果。

在其中一个实施例中，继续参阅图1，沿图1的上下方向设置有一排子掩膜板101，当以图1中的掩膜板主体10的左右两边中心的连线为第一中心线，上下两边中心的连线为第二中心线时，位于第二中心线同侧的子掩膜板101的遮挡部12均背向第二中心线设置。

在另一个实施例中，继续参阅图2，沿图2的上下方向设置有一排子掩膜板101，当以图2中的掩膜板主体10的左右两边中心的连线为第一中心线，上下两边中心的连线为第二中心线时，位于第二中心线同侧的子掩膜板101的遮挡部12均面向第二中心线设置。

在另一个实施例中，继续参阅图3，沿图3的上下方向设置有一排子掩膜板101时，当以图3中的掩膜板主体10的左右两边中心的连线为第一中心线，上下两边中心的连线为第二中心线时，位于第二中心线同侧的子掩膜板101可以设置包括多个子组子掩膜板101，每子组子掩膜板101包括相邻的两个子掩膜板101，每子组子掩膜板101的两个子掩膜板101的遮挡部12相对设置。

在又一个实施例中，参阅图4，沿掩膜板主体10的上下方向可以设置有多排子掩膜板101，当以图4中的掩膜板主体10的左右两边中心的连线为第一中心线，上下两边中心的连线为第二中心线时，且位于第二中心线同侧的子掩膜板101的遮挡部12均面向第二中心线设置。在另一个实施例中，还可以设置位于第二中心线同侧的子掩膜板101的遮挡部12均背向第二中心线设置。在另一实施例中，还可以设置每排中位于第二中心线同侧的子掩膜板101包括多个子组子掩膜板101，每个子组子掩膜板101包括相邻的两个子掩膜板101，每个子组子掩膜板101的两个子掩膜板101的遮挡部12相对设置。

参阅图5，在其他实施例中，当两组子掩膜板101的总和仍然为偶数个时，两组子掩膜板101可以只相对于其中一条中心线对称设置，当以图5中的掩膜板主体10的左右两边中心的连线为第一中心线，上下两边中心的连线为第二中心线时，此时两组子掩膜板101只关于第一中心线轴对称，而关于第二中心线并非轴对称。在另一个实施例中，两组子掩膜板101也可以只关于第二中心线轴对称，而关于第一中心线并非轴对称。

在其他实施例中，子掩膜板101的数量可以选择奇数个，此时子掩膜板101只关于其中一条中心线对称，而关于另一条中心线非对称。

在另一些实施例中，还可以设置两组子掩膜板101关于第一中心线与第二中心线均不对称设置。

在本实施例中，掩膜板100还包括掩膜板框架，一个掩膜板主体10固定连接于掩膜板框架，或者多个掩膜板主体10并排排列固定连接于掩膜板框架。且掩膜板100可以为通用金属掩膜板或精密金属掩膜板。

具体地，遮挡部12具有蒸镀面122与玻璃面122，蒸镀面122与玻璃面123分别位于遮挡部12相背的两侧，蒸镀面122面向蒸镀源设置，玻璃面123背向蒸镀源设置。

更具体地，凹槽121可以采用以下三种方式中的一种开设于遮挡部12：

一、凹槽121只开设于蒸镀面122；

二、凹槽121只开设于玻璃面123；

三、凹槽121同时开设于蒸镀面122与玻璃面123。

参阅图6，在其中一个实施例中，凹槽121开设于蒸镀面122，即只在蒸镀面122开设有凹槽121。

具体地，开设在蒸镀面122的凹槽121数量为一个，一个凹槽121采用整面半刻(即凹槽121的深度小于遮挡部12)的方式开设于蒸镀面122。在本实施例中，设置凹槽121覆盖蒸镀面122的全部区域，也可以设置凹槽121覆盖蒸镀面122的大部分区域，且凹槽121的横截面形状可以采用多边形，如三角形、长方形或者五边形等，还可以采用圆形或者椭圆形。上述当凹槽121覆盖蒸镀面122的全部区域时，凹槽121的底壁与遮挡部12的蒸镀面122的大小完全相同，此时凹槽121的底壁可以充当遮挡部12的蒸镀面。

参阅图7，在另一个实施例中，开设在蒸镀面122的凹槽121的数量为至少两个，在子掩膜板101所在平面上，每相邻两个凹槽121之间具有间距，至少两个凹槽121采用条状半刻或点状半刻的方式开设于蒸镀面122。当凹槽121采用条状半刻时，凹槽121的横截面形状为长条状；当凹槽121采用点状半刻时，凹槽121的横截面形状为圆形或椭圆形。在其他实施例中，当凹槽121采用条状半刻时，凹槽121的横截面的条形的长边沿掩膜板主体长边的方向延伸，以进一步减小掩膜板的张网褶皱。

参阅图8，在又一个实施例中，凹槽121同时开设于蒸镀面122与玻璃面123，即在蒸镀面122与玻璃面123均开设有凹槽121，进一步降低了掩膜板张网后，对掩膜板100自身的硬度的影响，进而进一步减小褶皱。如当凹槽121只开设在蒸镀面122时，蒸镀面122的硬度会小于玻璃面123的硬度，此时在一定程度上存在折断的风险，当凹槽121只开设在玻璃面123时也是如此。

具体地，凹槽121包括具有底壁的第一凹槽124与具有底壁的第二凹槽125，第一凹槽124开设于蒸镀面122，第二凹槽125开设于玻璃面123，第一凹槽124与第二凹槽125沿遮挡部12的厚度方向相互隔离的设置，即第一凹槽124的底壁与第二凹槽125的底壁之间具有间距，以保证任何一个第一凹槽124与任何一个第二凹槽125在遮挡部12的厚度方向上不存在相互连通的情况，从而避免像素蒸镀到基板上的情况发生。

具体地，第一凹槽124与第二凹槽125沿遮挡部12厚度方向的深度可以相同也可以不同，且第一凹槽124与第二凹槽125的横截面形状可以相同也可以不同。更具体地，第一凹槽124的深度大于第二凹槽125的深度，或者第一凹槽124的深度与第二凹槽125的深度相等。且第一凹槽124与第二凹槽125的深度均为掩膜板主体10的厚度的一半，或者第一凹槽124与第二凹槽125的深度均大于掩膜板主体10的厚度的一半。

继续参阅图8，在本实施例中，第一凹槽124与第二凹槽125的数量均为一个。具体地，每个第一凹槽124朝向子掩膜板101所在平面具有第一投影，每个第二凹槽125朝向子掩膜板101所在平面具有第二投影，第一投影与第二投影至少部分重叠，第一凹槽124与第二凹槽125沿12厚度方向的深度之和小于遮挡部12的厚度。

具体地，第一凹槽124覆盖蒸镀面122的大部分区域或全部区域，第二凹槽125覆盖玻璃面123的大部分区域或全部区域，第一投影与第二投影完全重叠。可以理解的是，在其他实施例中，第一投影与第二投影也可不完全重叠，采用只有部分重叠的方式即可。

在又一个实施例中，第一凹槽124与第二凹槽125的数量均为至少两个。具体地，每个第一凹槽124朝向子掩膜板101所在平面具有第一投影，每个第二凹槽125朝向子掩膜板101所在平面具有第二投影，第一投影与第二投影至少部分重叠，第一凹槽124与第二凹槽125沿遮挡部12厚度方向的深度之和小于遮挡部12的厚度。

具体地，第一投影与第二投影完全重叠。可以理解的是，在其他实施例中，第一投影与第二投影也可不完全重叠，只采用部分重叠的方式即可。

在本实施例中，第一凹槽124与第二凹槽125的数量可以相同也可以不同，如第一凹槽124为两个，第二凹槽125的数量也为两个，或者第一凹槽124的数量为两个，第二凹槽125的数量为三个。

在又一个实施例中，第一凹槽124与第二凹槽125的数量均为一个。第一凹槽124朝向子掩膜板101所在平面具有第一投影，第二凹槽125朝向子掩膜板101所在平面具有第二投影，第一投影与第二投影交错设置。

可以理解的是，当第一投影与第二投影交错设置时，第一凹槽124与第二凹槽125在子掩膜板101所在的平面上相互错开，此时可以设置相邻第一凹槽124与第二凹槽125的深度之和大于遮挡部12的厚度，如此设置并不会导致遮挡部12在厚度方向上贯通的情况发生，则也不会对后续的蒸镀产生影响。

参阅图9，在又一个实施例中，第一凹槽124与第二凹槽125的数量均为至少两个，第一凹槽124朝向遮挡部12所在平面具有第一投影，第二凹槽125朝向遮挡部12所在平面具有第二投影，第一投影与第二投影相互错开，此时也可以设置相邻第一凹槽124与第二凹槽125的深度之和大于遮挡部12的厚度，如此设置并不会导致遮挡部12在厚度方向上贯通的情况发生，则也不会对后续的蒸镀产生影响。

本实用新型以上实施例提供的掩膜板，至少具有以下有益效果：

遮挡部12的重量与蒸镀区11的重量差距小，降低了遮挡部12的应力集中，从而使掩膜板主体10在张网过程中受力均匀，降低了掩膜板主体10在张网过程中的褶皱现象；当两组子掩膜板101关于第一中心线与第二中心线均轴对称设置时，掩膜板主体10在张网时第一中心线与第二中心线两侧受力均匀，进一步降低了遮挡部12位置的褶皱；当凹槽121同时开设在蒸镀面122与玻璃面123时，进一步降低了掩膜板张网后，对掩膜板100自身的硬度的影响，进而进一步减小褶皱。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：

掩膜板主体；

设置于所述掩膜板主体上的至少一个子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区和遮挡部，在所述子掩膜板的厚度方向上，所述遮挡部开设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡部具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述凹槽开设于所述蒸镀面。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽的数量为一个，所述凹槽的底壁为所述遮挡部的蒸镀面。

4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽的数量为至少两个，在所述子掩膜板所在平面上，每相邻两个所述凹槽之间具有间距。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡部具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述凹槽包括第一凹槽与第二凹槽，所述第一凹槽开设于所述蒸镀面，所述第二凹槽开设于所述玻璃面，沿所述遮挡部的厚度方向上，所述第一凹槽的底壁与所述第二凹槽的底壁之间具有间距。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，在所述子掩膜板所在平面上，所述第一凹槽具有第一投影，所述第二凹槽具有第二投影，所述第一投影与所述第二投影至少部分重叠。

7.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，在所述子掩膜板所在平面上，所述第一凹槽具有第一投影，所述第二凹槽具有第二投影，所述第一投影与所述第二投影无重叠区域。

8.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的深度大于或等于所述第二凹槽的深度。

9.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的与所述第二凹槽的深度均为所述掩膜板主体的厚度的一半，或者所述第一凹槽的与所述第二凹槽的深度均大于所述掩膜板主体的厚度的一半。

10.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽的横截面形状为多边形或圆形或椭圆形。

11.根据权利要求1-10任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，所述第一中心线与所述第二中心线垂直；

所述掩膜板主体上设置有两组所述子掩膜板，每组所述子掩膜板包括至少一个所述子掩膜板，每相邻两个所述子掩膜板之间具有间距，两组所述子掩膜板关于所述第一中心线轴对称，且两组所述子掩膜板关于所述第二中心线轴对称。