CN113215529B - 精密掩膜板和掩膜板组件 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种精密掩膜板和掩膜板组件，精密掩膜板包括掩膜板主体，掩膜板主体包括呈行列分布的多个蒸镀开口和围绕各蒸镀开口分布的遮掩区，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿行方向，和/或，沿列方向上相邻排布的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离至少包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，h1≠h2，且沿掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大；其中，当行沿第一方向延伸时、列沿第二方向延伸，当行沿第二方向延伸时、列沿第一方向延伸，第一方向和第二方向相交。该精密掩膜板可减少张网时出现褶皱的风险，提升蒸镀良率。

Description

精密掩膜板和掩膜板组件

技术领域

本申请属于显示设备技术领域，尤其涉及一种精密掩膜板和掩膜板组 件。

背景技术

目前，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板 的生产主要采用的是蒸发镀膜的方式，蒸镀过程中，需要采用精密掩膜板 来蒸镀形成R(红色)子像素、G(绿色)子像素、B(蓝色)子像素等膜层，以确 保将薄膜材料蒸镀在规定位置。

在用于蒸镀形成非对称排列的像素的精密掩膜板中，由于非对称排列 的像素的开口间存在距离差异，因而精密掩膜板在张网拉伸时存在出现褶 皱的风险。

发明内容

本申请实施例提供了一种精密掩膜板和掩膜板组件，该精密掩膜板可 减少张网时出现褶皱的风险，提升蒸镀良率。

一方面，本申请实施例提供了一种精密掩膜板，包括掩膜板主体，所 述掩膜板主体包括呈行列分布的多个蒸镀开口和围绕各所述蒸镀开口分布 的遮掩区，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于 沿所述行方向，和/或，沿所述列方向上相邻排布的所述蒸镀开口之间的遮 掩区的最小距离至少包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，h1≠h2， 且沿所述掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与所述第一最小距离h1与第二最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大；

其中，当所述行沿第一方向延伸时、所述列沿第二方向延伸，当所述 行沿所述第二方向延伸时、所述列沿所述第一方向延伸，所述第一方向和 第二方向相交。

根据本申请的一个方面，所述掩膜板主体中的所述蒸镀开口呈n列× m行分布，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于 沿所述列方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2i-1行的蒸镀开口与第2i 行的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一最小距离h1，第2i行的蒸镀 开口与第2i+1行的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第二最小距离h2， h1≠h2，其中，m、n均为大于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数。

根据本申请的一个方面，位于沿所述行方向上相邻排布的所述蒸镀开 口之间的遮掩区的最小距离均为第一最小距离h1或第二最小距离h2，且 h1≠h2。

根据本申请的一个方面，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的 任意截面内，位于沿所述行方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2j-1列 的蒸镀开口与第2j列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一延伸距离 h1，第2j列的蒸镀开口与第2j+1列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为 第二延伸距离h2，h1≠h2，1≤j≤(n-1)/2且为整数，或者，

在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿所述 行方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2j-1列的蒸镀开口与第2j列的蒸 镀开口之间的遮掩区的最小距离为第二延伸距离h2，第2j列的蒸镀开口与 第2j+1列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一延伸距离h1，h1≠ h2，1≤j≤(n-1)/2且为整数。

根据本申请的一个方面，所述掩膜板主体包括蒸镀面和与所述蒸镀面 相背的玻璃面，各所述蒸镀开口包括沿所述玻璃面与所述蒸镀面的排列方 向排列的第一半刻孔和第二半刻孔，所述第一半刻孔与所述第二半刻孔连 通，所述第一半刻孔包括位于所述玻璃面的第一开口，所述第二半刻孔包 括位于所述蒸镀面的第二开口。

根据本申请的一个方面，当所述第一最小延伸距离h1大于所述第二最 小延伸距离h2，沿所述掩膜板主体沿自身厚度方向，所述掩膜板主体中与 所述最小延伸距离h1对应的区域的厚度大于所述掩膜板主体中与所述最小 延伸距离h2对应的区域的厚度；

当所述第一最小延伸距离h1小于所述第二最小延伸距离h2时，沿所 述掩膜板主体沿自身厚度方向，所述掩膜板主体中与所述最小延伸距离h1 对应的区域的厚度小于所述掩膜板主体中与所述最小延伸距离h2对应的区 域的厚度。

根据本申请的一个方面，所述第一半刻孔从所述掩膜板主体靠近所述 玻璃面的一端到远离所述玻璃面的一端逐渐收拢，所述第二半刻孔从所述 掩膜板主体靠近所述蒸镀面的一端到远离所述蒸镀面的一端逐渐收拢后与 所述第一半刻孔连通。

根据本申请的一个方面，所述掩膜板主体的材质为铁镍合金。

根据本申请的一个方面，所述掩膜板主体的厚度为10μm至59μm。

另一方面，本申请提供了一种掩膜板组件，包括本申请第一方面提供 的任意一种精密掩膜板。

与现有技术相比，在本申请提供的精密掩膜板中，包括掩膜板主体， 掩膜板主体包括多个蒸镀开口以及位于掩膜板开口之间的遮掩区，蒸镀开 口沿行列方向排布，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面 内，沿行列方向，相邻的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离至少包括第一 最小距离h1和第二最小距离h2，即，在每一列中，分别位于相邻行的蒸 镀开口之间的遮掩区的最小距离包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，和/或，在每一行中，分别位于相邻列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离 包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，h1≠h2，且沿掩膜板自身厚度 方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二最小距离h2中较大者对应 的截面的面积较大，截面面积较大处因能够承载更大的应力而可起到主要 的支撑作用，从而使得掩膜板主体在张网过程中，应力传递沿遮掩区中h1 与h2中较大者所对应的部分传递，削弱遮掩区中h1与h2中较小者所对应 的部分受应力影响，从而可以有效改善张网过程网面应力集中导致褶皱的 现象，防止产生蒸镀混色，大大提升了成品良率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例 中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅 是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性 劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的第一种精密掩膜板的俯视图结构示意图；

图2是图1中A-A剖视结构示意图；

图3是本申请实施例提供的第二种精密掩膜板的俯视图结构示意图；

图4是本申请实施例提供的第三种精密掩膜板的俯视图结构示意图

图5是本申请实施例提供的第四种精密掩膜板的俯视图结构示意图

图6是图2中B区域的局部放大图。

附图中：

1-掩膜板主体；10-蒸镀开口；11-遮掩区；101-第一半刻孔；1011-第 一开口；102-第二半刻孔；1021-第二开口；12-玻璃面；13-蒸镀面。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的 详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本申请的全面理解。但是， 对于本领域技术人员来说很明显的是，本申请可以在不需要这些具体细节 中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本 申请的示例来提供对本申请的更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用 来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者 暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语 “包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而 使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而 且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物 品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……” 限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在 另外的相同要素。

发明人经研究发现，用于蒸镀形成非对称排列的像素的精密掩膜板在 张网拉伸时存在出现褶皱的风险，原因在于：非对称排列的像素的像素开 口间存在距离差异，从而在用于蒸镀非对称排列的像素的精密掩膜板中， 与各个像素一一对应的蒸镀开口之间的实体区(简称Rib)，存在较大差 异，导致精密掩膜板中应力分布不均匀，在精密掩膜板受拉力时应力差异 放大，从而会在精密掩膜板中部分区域出现应力集中的问题，导致精密掩膜板变形而出现褶皱，从而会产生蒸镀混色、严重影响产品良率。

为了更好地理解本申请，下面结合图1至图6根据本申请实施例的精 密掩膜板和掩膜板组件进行详细描述。

请参阅图1、图2和图3，本申请实施例提供了一种精密掩膜板，包括 掩膜板主体1，掩膜板主体1包括呈行列分布的多个蒸镀开口10和围绕各 蒸镀开口10分布的遮掩区11，在掩膜板本体的垂直于自身厚度方向的任 意截面内，位于沿行方向，和/或，沿列方向上相邻排布的蒸镀开口10之 间的遮掩区11的最小距离至少包括第一最小距离h1和第二最小距离h2， h1≠h2，且沿掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第 二最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大；

其中，当行沿第一方向延伸时、列沿第二方向延伸，当行沿第二方向 延伸时、列沿第一方向延伸，第一方向和第二方向相交。

在本申请提供的上述精密掩膜板中，包括掩膜板主体1，掩膜板主体1 包括多个蒸镀开口10以及位于掩膜板开口之间的遮掩区11，蒸镀开口10 沿行列方向排布，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，沿 行列方向，相邻的蒸镀开口10之间的遮掩区11的最小距离至少包括第一 最小距离h1和第二最小距离h2，即，在每一列中，分别位于相邻行的蒸 镀开口10之间的遮掩区11的最小距离包括第一最小距离h1和第二最小距 离h2，和/或，在每一行中，分别位于相邻列的蒸镀开口10之间的遮掩区 11的最小距离包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，h1≠h2，且如图 2所示，沿掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二 最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大，截面面积较大处因能够承载 更大的应力而可起到主要的支撑作用，从而使得掩膜板主体1在张网过程中，应力传递沿遮掩区11中h1与h2中较大者所对应的部分传递，削弱遮 掩区11中h1与h2中较小者所对应的部分受应力影响，从而可以有效改善 张网过程网面应力集中导致褶皱的现象，防止产生蒸镀混色，大大提升了 成品良率。

在一种可行的实施方式中，请参阅图1和图2，掩膜板主体1中的蒸镀 开口10呈n列×m行分布，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截 面内，位于沿列方向上相邻排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口10 与第2i行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸 镀开口10与第2i+1行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2， h1≠h2，其中，m、n均为大于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数。

在上述实施方式中，i≥1，第2i行为偶数行、第2i-1行和第2i+1行为 位于第2i行两侧的奇数行，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截 面内，位于沿列方向上相邻排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口10 与第2i行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸 镀开口10与第2i+1行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2， 即如图1和图2所示，在每一列位置处沿掩膜板自身厚度方向上的各截面 中，沿列方向排列的各蒸镀开口10之间的遮掩区11为第一最小距离h1和 第二最小距离h2相间分布，h1与h2不相等，且与第一最小距离h1与第二 最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大，截面面积较大处因能够承载 更大的应力而可起到主要的支撑作用，从而使得掩膜板主体1在张网过程 中，应力传递沿遮掩区11中h1与h2中较大者所对应的部分传递，削弱遮掩区11中h1与h2中较小者所对应的部分受应力影响，从而可以有效改善 张网过程网面应力集中导致褶皱的现象，防止产生蒸镀混色，大大提升了 成品良率。

由于，当行沿第一方向延伸x时、列沿第二方向y延伸，当行沿第二 方向y延伸时、列沿第一方向x延伸，第一方向和第二方向相交，因此， 在一种可行的实施方式中，行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直 的第二方向y延伸，在另一种可行的实施方式中，行沿第一方向x延伸、 列沿与第一方向x垂直的第二方向y延伸。

在上述实施方式中，当行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直 的第二方向y延伸时，一种可行的实施方式为：位于沿行方向上相邻排布 的蒸镀开口10之间的遮掩区11的最小距离均为第一最小距离h1或第二最 小距离h2，且h1≠h2，具体地，第一最小距离h1可以大于第二最小距离 h2，或者，第一最小距离h1小于第二最小距离h2。

在一种可行的实施方式中，行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x 垂直的第二方向y延伸，掩膜板主体1中的蒸镀开口10呈n列×m行分布， 在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿列方向上相邻 排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口10与第2i行的蒸镀开口10之 间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸镀开口10与第2i+1行的蒸 镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2，其中，m、n均为大于1的 整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数，h1≠h2；位于沿行方向上相邻排布的蒸镀 开口10之间的遮掩区11的最小距离均为第二最小距离h2。由于沿掩膜板 自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二最小距离h2中较 大者对应的截面的面积较大，截面面积较大处因能够承载更大的应力而可 起到主要的支撑作用，图1示出了一种上述实施方式中，当h1>h2时的结 构示意图，因此图1所示的精密掩膜板在张网过程中，应力主要沿相邻行 之间的遮挡区最小距离为第一最小距离h1处传递，可有效改善张网过程中 出现应力在小范围内集中的情况，从而降低张网后精密掩膜板中出现褶皱 的概率；当h1＜h2时同样适用于上述实施方式，本申请不再赘述。

在另一种可行的实施方式中，行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向 x垂直的第二方向y延伸，掩膜板主体1中的蒸镀开口10呈n列×m行分 布，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿列方向上 相邻排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口10与第2i行的蒸镀开口 10之间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸镀开口10与第2i+1 行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2，其中，m、n均为大 于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数，h1≠h2；位于沿行方向上相邻排布 的蒸镀开口10之间的遮掩区11的最小距离均为第一最小距离h1。由于沿 掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二最小距离h2 中较大者对应的截面的面积较大，截面面积较大处因能够承载更大的应力 而可起到主要的支撑作用，图4示出了一种上述实施方式中，当h1>h2时 的结构示意图，因此图4所示的精密掩膜板在张网过程中，应力主要沿相 邻行以及相邻列之间的遮挡区最小距离为第一最小距离h1处传递，可有效 改善张网过程中出现应力在小范围内集中的情况，从而降低张网后精密掩 膜板中出现褶皱的概率；当h1＜h2时同样适用于上述实施方式，本申请不 再赘述。

上述图1和图4中均以行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直 的第二方向y延伸的情况进行举例说明，当行沿第二方向y延伸、列沿与 第二方向y垂直的第一方向x延伸时同样适用于上述蒸镀开口10的排布方 式，本申请不再赘述。

当行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直的第二方向y延伸时， 另一种可行的实施方式为：掩膜板主体1中的蒸镀开口10呈n列×m行分 布，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿列方向上 相邻排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口1010与第2i行的蒸镀开 口10之间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸镀开口10与第2i+1 行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2，h1≠h2，其中，m、 n均为大于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数；在掩膜板主体的垂直于自 身厚度方向的任意截面内，位于沿行方向上相邻排布的蒸镀开口10中，第 2j-1列的蒸镀开口10与第2j列的蒸镀开口10之间的遮掩区11的最小距离 为第一延伸距离h1，第2j列的蒸镀开口10与第2j+1列的蒸镀开口10之间 的遮掩区11的最小距离为第二延伸距离h2，h1≠h2，1≤j≤(n-1)/2且为整数；图3示出了一种上述实施方式中，当h1>h2时的结构示意图，当h1 ＜h2时同样适用于上述实施方式，本申请不再赘述。

当行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直的第二方向y延伸时， 另一种可行的实施方式为：掩膜板主体1中的蒸镀开口10呈n列×m行分 布，在掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿列方向上 相邻排布的蒸镀开口10中，第2i-1行的蒸镀开口10与第2i行的蒸镀开口 10之间遮掩区11具有第一最小距离h1，第2i行的蒸镀开口10与第2i+1 行的蒸镀开口10之间遮掩区11具有第二最小距离h2，h1≠h2，其中，m、 n均为大于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数；在掩膜板主体的垂直于自 身厚度方向的任意截面内，位于沿行方向上相邻排布的蒸镀开口10中，第 2j-1列的蒸镀开口10与第2j列的蒸镀开口10之间的遮掩区11的最小距离 为第二延伸距离h2，第2j列的蒸镀开口10与第2j+1列的蒸镀开口10之间 的遮掩区11的最小距离为第一延伸距离h1，h1≠h2，1≤j≤(n-1)/2且为 整数；图5示出了一种上述实施方式中，当h1>h2时的结构示意图。

在上述两种实施方式中，在每一列位置处、对掩膜板主体1进行沿自 身厚度方向所做的截面内，沿列方向排列的相邻蒸镀开口10之间的遮掩区 11为第一最小距离h1和第二最小距离h2相间分布，同时，在每一行位置 处、对掩膜板主体1进行沿自身厚度方向所做的截面内，沿行方向排列的 相邻蒸镀开口10之间的遮掩区11为第一最小距离h1和第二最小距离h2 相间分布，h1与h2不相等，由于沿掩膜板自身厚度方向上的各截面中， 与第一最小距离h1与第二最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大， 截面面积较大处因能够承载更大的应力而可起到主要的支撑作用，从而保 证了与各行以及各列之间，与h1与h2中较大者所对应的遮掩区11的强度， 并将这部分遮掩区11作为主应力传递桥梁，使得在张网时，应力沿h1与 h2中较大者所对应的遮掩区11部分传递。

上述图3和图5中均以行沿第一方向x延伸、列沿与第一方向x垂直 的第二方向y延伸的情况进行举例说明当行沿第二方向y延伸、列沿与第 二方向y垂直的第一方向x延伸时同样适用于上述蒸镀开口10的排布方式， 本申请不再赘述。

上述精密掩膜板中，当所包含的行总数m为偶数时，可以在掩膜板主 体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，将位于沿列方向上相邻排布的蒸 镀开口10中，第一行与第二行之间的第一最小距离h1设置为大于第二行 和第三行之间的第二最小距离h2，从而可以增加整个掩膜区中支撑力较大 位置处的总面积，避免了应力集中导致掩膜板主体1出现褶皱的情况，提 升蒸镀良率。

上述精密掩膜板中，当所包含的列总数n为偶数时，可以在掩膜板主 体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，将位于沿行方向上相邻排布的蒸 镀开口10中，将第一列与第二列之间的第一最小距离h1设置为大于第二 行和第三行之间的第二最小距离h2，从而可以增加整个掩膜区中支撑力较 大位置处的总面积，避免了应力集中导致掩膜板主体1出现褶皱的情况， 提升蒸镀良率。

在一种可行的实施方式中，如图6所示，掩膜板主体1包括蒸镀面13 和与蒸镀面13相背的玻璃面12，各蒸镀开口10包括沿玻璃面12与蒸镀面 13的排列方向排列的第一半刻孔101和第二半刻孔102，第一半刻孔101 与第二半刻孔102连通，第一半刻孔101包括位于玻璃面12的第一开口 1011，第二半刻孔102包括位于蒸镀面13的第二开口1021。

在上述各可行的实施方式中，掩膜板主体1中垂直于自身厚度方向的 任意截面中的任意截面可以为玻璃面12，如图2所示；也可以为蒸镀面13， 如图6所示；或者为位于蒸镀面13和玻璃面12之间、且垂直于掩膜板主 体1自身厚度方向的任意截面。

在上述实施方式中，玻璃面12为掩膜板主体1远离蒸镀源的一面，蒸 镀面13为掩膜板主体1靠近蒸镀源的一面，各蒸镀开口10均为分别从玻 璃面12与蒸镀面13采用两次半刻蚀的方式形成，采用两次半刻蚀工艺形 成蒸镀开口10可以保证形成的蒸镀开口10的边缘较光滑，使得经过蒸镀 开口10的蒸镀材料不易在蒸镀开口10内附着，从而节省蒸镀材料，且使 得蒸镀效果更好。在一种可行的实施方式中，第一半刻孔101从掩膜板主 体1靠近玻璃面12的一端到远离玻璃面12的一端逐渐收拢，第二半刻孔 102从掩膜板主体1靠近蒸镀面13的一端到远离蒸镀面13的一端逐渐收拢 后与第一半刻孔101连通。

在上述实施方式中，第二半刻孔102的第二开口1021大小包覆第一半 刻孔101的第一开口1011大小，以保证从第二半刻孔102进入的蒸镀材料 可以填充满第一半刻孔101。

在一种可行的实施方式中，当第一最小距离h1大于第二最小距离h2， 在掩膜板主体中垂直于自身厚度方向的蒸镀面13内，h1大于或等于2μm， h2大于或等于0μm，如图6所示，为蒸镀面13内h2等于0μm的示意图； 或者，

当第一最小距离h1小于第二最小距离h2，在蒸镀面13内，h2大于或 等于2μm，h1大于或等于0μm。

在上述实施方式中，使得位于蒸镀面13内的第一最小距离h1与第二 最小距离h2中的较小者大于或等于0μm、较大者大于或等于2μm，以保证 与较大者所对应的遮挡区的材料强度，并将这部分作为应力主传递桥梁， 防止在张网时由于应力不均而产生褶皱。

在一种可行的实施方式中，不仅在垂直于掩膜板主体1的蒸镀面13和 玻璃面12的方向上将遮挡区设计为宽窄相间的排布，即使得遮挡区包括与 第一最小距离h1相对应的部分以及与第二最小距离h2相对应的部分，h1 与h2不相等，同时在掩膜板主体1的厚度上也进行了区别制作，将掩膜板 主体1中与最小距离h1对应的区域的厚度设置为大于或小于掩膜板主体1 中与最小距离h2对应的区域的厚度，具体地，如图6所示，当第一最小距 离h1大于第二最小距离h2，沿掩膜板主体1沿自身厚度方向，掩膜板主体 1中与第一最小距离h1对应的区域的厚度大于掩膜板主体1中与第二最小 距离h2对应的区域的厚度；

当第一最小距离h1小于第二最小距离h2时，沿掩膜板主体1沿自身 厚度方向，掩膜板主体1中与第一最小距离h1对应的区域的厚度小于掩膜 板主体1中与第二最小距离h2对应的区域的厚度，从而可以使得沿掩膜板 自身厚度方向上的各截面中，与第一最小距离h1与第二最小距离h2中较 大者对应的截面的面积较大，以保证与h1和h2中较大者所对应的遮挡区 的材料强度，并将这部分作为应力主传递桥梁，防止在张网时由于应力不 均而产生褶皱。

在一种可行的实施方式中，掩膜板主体1的材质为铁镍合金，采用铁 镍合金一方面保证了掩膜板的强度同时方便加工制作，另一方面材料简单 易得、成本低。

在一种可行的实施方式中，掩膜板主体1的厚度为10μm至59μm，以 在进行蒸镀时保证良好的支撑效果。

本申请还提供了一种掩膜板组件，包括，掩膜板框架、支撑条及本申 请上述技术方案中提供的任意一种精密掩膜板，支撑条固定连接于掩膜板 框架，精密掩膜板设置于支撑条上，且与掩膜板框架固定连接。

使用该掩膜板组件进行蒸镀后，蒸镀良率大大提高，避免出现蒸镀混 色的现象，提升了材料利用率、节省了制作成本。

以上，仅为本申请的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地 了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的***、模块和单元的具体工 作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解， 本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申 请揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替 换都应涵盖在本申请的保护范围之内。

还需要说明的是，本申请中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤 或者装置描述一些方法或***。但是，本申请不局限于上述步骤的顺序， 也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例 中的顺序，或者若干步骤同时执行。

Claims (9)

1.一种精密掩膜板，其特征在于，包括掩膜板主体，所述掩膜板主体包括呈行列分布的多个蒸镀开口和围绕各所述蒸镀开口分布的遮掩区，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿所述行方向，和/或，沿所述列方向上相邻排布的所述蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离至少包括第一最小距离h1和第二最小距离h2，h1≠h2，且沿所述掩膜板自身厚度方向上的各截面中，与所述第一最小距离h1与第二最小距离h2中较大者对应的截面的面积较大；

当第一最小距离h1大于第二最小距离h2，沿掩膜板主体1沿自身厚度方向，掩膜板主体1中与第一最小距离h1对应的区域的厚度大于掩膜板主体1中与第二最小距离h2对应的区域的厚度；

当第一最小距离h1小于第二最小距离h2时，沿掩膜板主体1沿自身厚度方向，掩膜板主体1中与第一最小距离h1对应的区域的厚度小于掩膜板主体1中与第二最小距离h2对应的区域的厚度；

其中，当所述行沿第一方向延伸时、所述列沿第二方向延伸，当所述行沿所述第二方向延伸时、所述列沿所述第一方向延伸，所述第一方向和第二方向相交。

2.根据权利要求1所述的精密掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体中的所述蒸镀开口呈n列×m行分布，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿所述列方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2i-1行的蒸镀开口与第2i行的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一最小距离h1，第2i行的蒸镀开口与第2i+1行的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第二最小距离h2，h1≠h2，其中，m、n均为大于1的整数，1≤i≤(m-1)/2且为整数。

3.根据权利要求2所述的精密掩膜板，其特征在于，位于沿所述行方向上相邻排布的所述蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离均为第一最小距离h1或第二最小距离h2，且h1≠h2。

4.根据权利要求2所述的精密掩膜板，其特征在于，在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿所述行方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2j-1列的蒸镀开口与第2j列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一延伸距离h1，第2j列的蒸镀开口与第2j+1列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第二延伸距离h2，h1≠h2，1≤j≤(n-1)/2且为整数，或者，

在所述掩膜板主体的垂直于自身厚度方向的任意截面内，位于沿所述行方向上相邻排布的所述蒸镀开口中，第2j-1列的蒸镀开口与第2j列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第二延伸距离h2，第2j列的蒸镀开口与第2j+1列的蒸镀开口之间的遮掩区的最小距离为第一延伸距离h1，h1≠h2，1≤j≤(n-1)/2且为整数。

5.根据权利要求1所述的精密掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体包括蒸镀面和与所述蒸镀面相背的玻璃面，各所述蒸镀开口包括沿所述玻璃面与所述蒸镀面的排列方向排列的第一半刻孔和第二半刻孔，所述第一半刻孔与所述第二半刻孔连通，所述第一半刻孔包括位于所述玻璃面的第一开口，所述第二半刻孔包括位于所述蒸镀面的第二开口。

6.根据权利要求5所述的精密掩膜板，其特征在于，所述第一半刻孔从所述掩膜板主体靠近所述玻璃面的一端到远离所述玻璃面的一端逐渐收拢，所述第二半刻孔从所述掩膜板主体靠近所述蒸镀面的一端到远离所述蒸镀面的一端逐渐收拢后与所述第一半刻孔连通。

7.根据权利要求1所述的精密掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体的材质为铁镍合金。

8.根据权利要求7所述的精密掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体的厚度为10μm至59μm。

9.一种掩膜板组件，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的精密掩膜板。

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