JPH03258381A - 超音波洗浄機 - Google Patents
超音波洗浄機Info
- Publication number
- JPH03258381A JPH03258381A JP5354090A JP5354090A JPH03258381A JP H03258381 A JPH03258381 A JP H03258381A JP 5354090 A JP5354090 A JP 5354090A JP 5354090 A JP5354090 A JP 5354090A JP H03258381 A JPH03258381 A JP H03258381A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- ultrasonic
- cleaning
- cleaned
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- Pending
Links
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
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- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は超音波洗浄機、詳しくは洗浄槽を必要としな
い超音波洗浄機に関するものである。
い超音波洗浄機に関するものである。
（従来の技術）
媒質を介して被洗浄物に超音波を印加し、被洗浄物表面
に付着しているパーティクル（汚物）を剥離させる超音
波洗浄機は、精密部分の製造過程などにおいて広く使用
されている。そして、この従来の超音波洗浄機は媒質を
洗浄槽に溜め、これに超音波を印加する方式をとってい
た。
に付着しているパーティクル（汚物）を剥離させる超音
波洗浄機は、精密部分の製造過程などにおいて広く使用
されている。そして、この従来の超音波洗浄機は媒質を
洗浄槽に溜め、これに超音波を印加する方式をとってい
た。
（解決すべき課Ｂ）
しかしながら、この従来の超音波洗浄機においては、媒
質を溜める洗浄槽の形状、容量や媒質の密度（比重）等
により超音波性能が左右され、その設計や調整が極めて
むずかしかった。又、洗浄槽には媒質を満さなければな
らない為、媒質の使用量が多くなることは避けられず、
−旦剥離したパーティクルの再付着の問題もあった。こ
の発明は超音波洗浄機の上記欠点を除去することを目的
とするものであり、洗浄槽を必要とせずに超音波洗浄を
行うことができ、パーティクルの再付着の心配もない新
規な超音波洗浄機を提供せんとするものである。
質を溜める洗浄槽の形状、容量や媒質の密度（比重）等
により超音波性能が左右され、その設計や調整が極めて
むずかしかった。又、洗浄槽には媒質を満さなければな
らない為、媒質の使用量が多くなることは避けられず、
−旦剥離したパーティクルの再付着の問題もあった。こ
の発明は超音波洗浄機の上記欠点を除去することを目的
とするものであり、洗浄槽を必要とせずに超音波洗浄を
行うことができ、パーティクルの再付着の心配もない新
規な超音波洗浄機を提供せんとするものである。
（課題を解決する為の手段）
この発明は、被洗浄物の洗浄面とわずかな空隙を保って
位置せしめられた超音波振動体と、前記超音波振動体の
近傍に配置せしめられた媒質供給管とからなり、前記媒
質供給管から媒質を放出し、超音波振動体の振動面と被
洗浄物の洗浄面との間に媒質の層を形成せしめ、この層
を介して被洗浄物に超音波振動を印加せしめる様にして
超音波洗浄機を構成することにより上記課題を解決せん
とするものである。
位置せしめられた超音波振動体と、前記超音波振動体の
近傍に配置せしめられた媒質供給管とからなり、前記媒
質供給管から媒質を放出し、超音波振動体の振動面と被
洗浄物の洗浄面との間に媒質の層を形成せしめ、この層
を介して被洗浄物に超音波振動を印加せしめる様にして
超音波洗浄機を構成することにより上記課題を解決せん
とするものである。
（作用）
媒質供給管から水、溶剤等の媒質が放出されると、該媒
質は被洗浄物の洗浄面と超音波振動体の振動面との間に
層を形成する。そして、この層を介して超音波振動体の
超音波振動が被洗浄物に印加され、超音波による洗浄が
行われる。媒質供給管は超音波振動体の移動に追従して
移動する様になっており、超音波振動体と洗浄面との間
には常に媒質の層が形成されている。従って、超音波振
動体を移動させながら連続的に洗浄作業を行うことが可
能である。又、洗浄面に対する超音波振動気泡抜きの問
題等を解消することができる。
質は被洗浄物の洗浄面と超音波振動体の振動面との間に
層を形成する。そして、この層を介して超音波振動体の
超音波振動が被洗浄物に印加され、超音波による洗浄が
行われる。媒質供給管は超音波振動体の移動に追従して
移動する様になっており、超音波振動体と洗浄面との間
には常に媒質の層が形成されている。従って、超音波振
動体を移動させながら連続的に洗浄作業を行うことが可
能である。又、洗浄面に対する超音波振動気泡抜きの問
題等を解消することができる。
（実施例）
第１図はこの発明に係る超音波洗浄機の一実施例の断面
図である。図中１は板状をした超音波振動体であり、そ
の下面は振動面２となっている。
図である。図中１は板状をした超音波振動体であり、そ
の下面は振動面２となっている。
又、３は媒質供給管でありこの媒質供給管３にはノズル
４が設けられており、振動面２に向って媒質５を噴出し
、振動面２と被洗浄物６の洗浄面７との間に媒質の層５
を形成する様になっている。
４が設けられており、振動面２に向って媒質５を噴出し
、振動面２と被洗浄物６の洗浄面７との間に媒質の層５
を形成する様になっている。
媒質５としては、市水、純水、アルコール、溶剤等を用
いることができる。
いることができる。
なお、図中８は洗浄面７に付着しているパーティクルを
表わす。振動面２より洗浄面７に印加する超音波振動の
周波数は洗浄すべきパーティクルの種類によって相違す
るが、大官２８ Ｈｚ乃至６．８ＭＨｚ程度である。又
、振動面２は同図に示す通り、洗浄面７に対し、所定の
角度θを持たせておしたパーティクルの停滞の防止、洗
浄むらの解消、の防止、洗浄むらの解消、超音波により
発生する気泡の除去等を図っている。この角度θは０度
乃至数１０度の間で各種条件及び用途により決定される
。なお、図中９は媒質の流失止めの為振動面２の端縁に
設けたスカートである。
表わす。振動面２より洗浄面７に印加する超音波振動の
周波数は洗浄すべきパーティクルの種類によって相違す
るが、大官２８ Ｈｚ乃至６．８ＭＨｚ程度である。又
、振動面２は同図に示す通り、洗浄面７に対し、所定の
角度θを持たせておしたパーティクルの停滞の防止、洗
浄むらの解消、の防止、洗浄むらの解消、超音波により
発生する気泡の除去等を図っている。この角度θは０度
乃至数１０度の間で各種条件及び用途により決定される
。なお、図中９は媒質の流失止めの為振動面２の端縁に
設けたスカートである。
この実施例においては媒質供給管３のノズル４は一つで
あるが、第２図及び第３図に示す実施例の様に複数のノ
ズル４を設けても良く、この場合には広い面積の洗浄を
効率よく行うことができる。
あるが、第２図及び第３図に示す実施例の様に複数のノ
ズル４を設けても良く、この場合には広い面積の洗浄を
効率よく行うことができる。
又、第４図及び第５図に示す実施例の様に小面積の振動
面２′を用いれば小面積の部分的な精密洗浄も可能とな
る。
面２′を用いれば小面積の部分的な精密洗浄も可能とな
る。
（発明の効果）
この発明は上記の通りの構成を有するものであり、洗浄
槽を必要としない為、洗浄槽の形状、容量、媒質の密度
（比重）等により印加する超音波の性能が左右されるこ
となく、常に安定した超音波洗浄が可能となる。又、使
用する媒質の量も著しく少くてすみ、経済的である。更
に、超音波振動体の振動面と被洗浄物の洗浄面との間の
距離が短く超音波出力が小さくてすむ。
槽を必要としない為、洗浄槽の形状、容量、媒質の密度
（比重）等により印加する超音波の性能が左右されるこ
となく、常に安定した超音波洗浄が可能となる。又、使
用する媒質の量も著しく少くてすみ、経済的である。更
に、超音波振動体の振動面と被洗浄物の洗浄面との間の
距離が短く超音波出力が小さくてすむ。
又、媒質は媒質供給管よりたえず流出しているので、−
旦剥離したパーティクルが被洗浄物に再付着することも
ない。等のすぐれた効果を有し、極めて実用的なもので
ある。
旦剥離したパーティクルが被洗浄物に再付着することも
ない。等のすぐれた効果を有し、極めて実用的なもので
ある。
第１図はこの発明に係る超音波洗浄機の一実施例の断面
図、第２図は他の実施例の斜視図、第３図はその断面図
である。又、第４図及び第５図は更に他の実施例の斜視
図である。 １・・・超音波振動体、２・・・振動面、３・・・媒質
供給管、４・・・ノズル、５・・・媒質、６・・・被洗
浄物、７・・・洗浄面、８・・・パーティクル、９・・
・スカート。 第３図 第４図 第５図
図、第２図は他の実施例の斜視図、第３図はその断面図
である。又、第４図及び第５図は更に他の実施例の斜視
図である。 １・・・超音波振動体、２・・・振動面、３・・・媒質
供給管、４・・・ノズル、５・・・媒質、６・・・被洗
浄物、７・・・洗浄面、８・・・パーティクル、９・・
・スカート。 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- 被洗浄物の洗浄面とわずかな空隙を保って位置せしめら
れた超音波振動体と、前記超音波振動体の近傍に配置せ
しめられた媒質供給管とからなり、前記媒質供給管から
媒質を放出し、超音波振動体の振動面と被洗浄物の洗浄
面との間に媒質の層を形成せしめ、この層を介して被洗
浄物に超音波振動を印加せしめる様にしたことを特徴と
する超音波洗浄機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5354090A JPH03258381A (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 超音波洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5354090A JPH03258381A (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 超音波洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03258381A true JPH03258381A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=12945637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5354090A Pending JPH03258381A (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | 超音波洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03258381A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7334588B2 (en) | 2000-06-26 | 2008-02-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| US7451774B2 (en) | 2000-06-26 | 2008-11-18 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| KR20190113878A (ko) | 2017-10-25 | 2019-10-08 | 가부시끼가이샤가이죠 | 초음파 세정 장치 및 초음파 세정 시스템 |
-
1990
- 1990-03-07 JP JP5354090A patent/JPH03258381A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7334588B2 (en) | 2000-06-26 | 2008-02-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| US7451774B2 (en) | 2000-06-26 | 2008-11-18 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| US7819985B2 (en) | 2000-06-26 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| US7836901B2 (en) | 2000-06-26 | 2010-11-23 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for wafer cleaning |
| KR20190113878A (ko) | 2017-10-25 | 2019-10-08 | 가부시끼가이샤가이죠 | 초음파 세정 장치 및 초음파 세정 시스템 |
| US11618060B2 (en) | 2017-10-25 | 2023-04-04 | Kaijo Corporation | Ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning system |
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