JP6986339B2 - Antireflection film forming composition, antireflection film and its forming method - Google Patents
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本発明は、中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物を含む反射防止膜形成用組成物、反射防止膜、およびその形成方法、ならびにそれを用いた物品に関する。 The present invention relates to an antireflection film forming composition containing a hollow silica sol and a silane compound having an epoxy group, an antireflection film, a method for forming the same, and an article using the same.
従来、プラスチックなどの化成品の表面を傷や汚れなどから保護するためにハードコート剤による処理が広く行われてきている。
ハードコート剤には、メラミン樹脂系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系等の有機系ハードコート剤、シラン化合物系等のシリコーン系ハードコート剤および金属酸化物系等の無機系ハードコート剤などが含まれ、この３種に大きく分類されている。
Conventionally, treatment with a hard coat agent has been widely performed in order to protect the surface of a chemical product such as plastic from scratches and stains.
The hard coat agent includes an organic hard coat agent such as a melamine resin type, a urethane resin type, and an acrylic resin type, a silicone type hard coat agent such as a silane compound type, and an inorganic hard coat agent such as a metal oxide type. It is roughly classified into these three types.
近年、テレビ、携帯電話、ゲーム機などの画像表示装置や、メガネ、サングラス、ゴーグル、光学フィルターなどの光学物品、クリーンエネルギーを生成する太陽電池パネルなどの普及に伴い、透明材料について、その表面への前記ハードコート剤処理によるハードコート膜の形成に加えて、反射防止膜形成による反射防止作用などの光学特性の付与等がますます要求されている。一般的な反射防止膜は蒸着やスパッタリングで形成されており、より安価なウェットコーティングによる反射防止膜の需要も高まっている。 In recent years, with the widespread use of image display devices such as televisions, mobile phones, and game consoles, optical articles such as glasses, sunglasses, goggles, and optical filters, and solar cell panels that generate clean energy, transparent materials have been introduced to the surface. In addition to the formation of the hard coat film by the above-mentioned hard coat agent treatment, it is increasingly required to impart optical characteristics such as antireflection action by forming the antireflection film. Common antireflection films are formed by thin film deposition or sputtering, and there is an increasing demand for antireflection films with cheaper wet coatings.
また、反射防止膜は、低反射率を実現するための低い塗膜屈折率を有することに加えて、耐擦傷性や耐磨耗性等の塗膜強度を有することが求められる。近年では、内部に空隙を有するシリカ微粒子を低屈折率材料として、マトリックス材料中に分散させて得られるコーティング膜形成塗料を塗布、硬化させることによって低屈折率の透明被膜を形成する技術が知られている（特許文献１、２および３、非特許文献１参照）。
Further, the antireflection film is required to have coating film strength such as scratch resistance and abrasion resistance in addition to having a low coating film refractive index for realizing low reflectance. In recent years, a technique has been known in which a transparent film having a low refractive index is formed by applying and curing a coating film-forming paint obtained by dispersing silica fine particles having voids inside as a material having a low refractive index in a matrix material. (See
しかしながら、透明な化成品について、表面を傷や汚れから保護するハードコート膜上に容易に適用でき、かつ優れた反射防止作用および塗膜強度を付与する反射防止膜形成用組成物は現在まだ提供されていない。 However, for transparent chemical products, antireflection film forming compositions that can be easily applied on a hardcoat film that protects the surface from scratches and stains and that impart excellent antireflection action and coating film strength are still available. It has not been.
そこで、本発明は、ハードコート膜上においても優れた反射防止作用および塗膜強度を付与する反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法、ならびにそれを用いた物品を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides an antireflection film forming composition, an antireflection film and a method for forming the same, and an article using the same, which imparts an excellent antireflection effect and coating film strength even on a hard coat film. With the goal.
本発明者らは、上記の課題を解消すべく鋭意検討した結果、中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物をその組成物に配合することにより、物品に優れた反射防止作用および塗膜強度を付与することが可能な反射防止膜形成用組成物を提供できることを見出して本発明を完成した。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have added a hydrolyzed condensate of a hollow silica sol and a silane compound having an epoxy group to the composition, thereby providing an excellent antireflection effect on the article. The present invention has been completed by finding that it is possible to provide a composition for forming an antireflection film capable of imparting coating film strength.
本発明は、以下に示すような中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物を含む反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法、ならびにそれを用いた物品に関する。 The present invention relates to an antireflection film forming composition containing a hollow silica sol and a hydrolysis condensate of a silane compound having an epoxy group as shown below, an antireflection film and a method for forming the same, and an article using the same.
本発明の反射防止膜形成用組成物は、中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物を含むことを特徴とする。
本発明の前記組成物を用いて形成された単層の膜は、優れた反射防止機能および塗膜強度を有する膜とすることができる。
また、微粒子や、防汚剤を配合することにより、さらに、増強した防眩性や、防汚性を有する膜とすることができる。
The composition for forming an antireflection film of the present invention is characterized by containing a hollow silica sol and a silane compound having an epoxy group.
The single-layer film formed by using the composition of the present invention can be a film having an excellent antireflection function and coating film strength.
Further, by blending fine particles and an antifouling agent, a film having enhanced antiglare property and antifouling property can be obtained.
この膜を形成させた物品は、物品表面のハードコート処理後においても、反射防止機能や、防眩性、防汚性を容易に付与でき、有用なものである。 The article on which this film is formed is useful because it can easily impart antireflection function, antiglare property, and antifouling property even after the hard coat treatment on the surface of the article.
本発明によれば、優れた反射防止作用および膜強度を付与する反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法、ならびにそれを用いた物品を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an antireflection film forming composition, an antireflection film and a method for forming the same, and an article using the same, which imparts an excellent antireflection effect and film strength.
＜反射防止膜形成用組成物＞
本発明の反射防止膜形成用組成物は、中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物を含む。
<Composition for forming an antireflection film>
The antireflection film forming composition of the present invention contains a hollow silica sol and a silane compound having an epoxy group.
＜中空シリカゾル＞
中空シリカゾルは、水、有機溶媒またはそれらの混合物中に分散させた中空シリカ微細粒子を含むものを意味する。
<Hollow silica sol>
Hollow silica sol means one containing hollow silica fine particles dispersed in water, an organic solvent or a mixture thereof.
中空シリカ微細粒子は、その内部に空隙を有し、かつ低屈折率を有するシリカ（ＳｉＯ２）非晶質粒子である。 The hollow silica fine particles are silica (SiO 2 ) amorphous particles having voids inside and having a low refractive index.
中空シリカ微細粒子の一次粒子径は、好ましくは、１０〜１００ｎｍ、より好ましくは２０〜９０ｎｍ、さらにより好ましくは３０〜８０ｎｍである。中空シリカの一次粒子径が１０ｎｍ未満である場合、十分な反射防止機能が得られなく、１００ｎｍを超える場合、薄膜での膜厚制御が困難になり好ましくない。 The primary particle size of the hollow silica fine particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 90 nm, and even more preferably 30 to 80 nm. If the primary particle size of the hollow silica is less than 10 nm, a sufficient antireflection function cannot be obtained, and if it exceeds 100 nm, it becomes difficult to control the film thickness in the thin film, which is not preferable.
中空シリカ微細粒子は、中空シリカゾル１００質量部に対し、固形物として、１〜７０質量部、好ましくは１０〜６０質量部で存在し得る。中空シリカ微細粒子が１質量部未満である場合、中空シリカゾル分散溶媒の比率が高いために処方上の溶媒組成が制限されるおそれがあり、７０質量部を超える場合、中空シリカゾルの保存安定性の観点より好ましくない。 The hollow silica fine particles may be present in an amount of 1 to 70 parts by mass, preferably 10 to 60 parts by mass, as a solid substance with respect to 100 parts by mass of the hollow silica sol. If the amount of hollow silica fine particles is less than 1 part by mass, the ratio of the hollow silica sol dispersion solvent may be high, which may limit the solvent composition in the formulation, and if it exceeds 70 parts by mass, the storage stability of the hollow silica sol may be limited. Not preferable from the viewpoint.
中空シリカゾルは、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、固形物の中空シリカ微細粒子として、０．５〜１０質量部、好ましくは１〜３質量部で存在し得る。中空シリカ微細粒子が０．５質量部未満である場合、不十分な低屈折率となり好適な反射防止機能が得られないおそれがあり、５質量部を超える場合、薄膜の形成制御の観点より好ましくない。 The hollow silica sol may be present in 0.5 to 10 parts by mass, preferably 1 to 3 parts by mass, as solid hollow silica fine particles with respect to 100 parts by mass of the antireflection film forming composition. If the amount of hollow silica fine particles is less than 0.5 parts by mass, the refractive index may be insufficient and a suitable antireflection function may not be obtained. If the amount exceeds 5 parts by mass, it is preferable from the viewpoint of controlling the formation of a thin film. No.
また、これらの中空シリカゾルおよび中空シリカ微細粒子は各々、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。 Further, these hollow silica sol and hollow silica fine particles may be used by mixing not only one kind but also two or more kinds.
本発明の反射防止膜形成用組成物は、中空シリカゾル中に含有される中空シリカ微細粒子を用いることにより、透過率が高い反射防止膜を形成できる。 The antireflection film forming composition of the present invention can form an antireflection film having a high transmittance by using hollow silica fine particles contained in the hollow silica sol.
＜エポキシ基を有するシラン化合物＞
本発明に用いるエポキシ基を有するシラン化合物は、下記一般式（１）または（２）で表され、シロキサン結合による無機架橋を形成するアルコキシシラン部位と、有機架橋を形成するエポキシ基を有する。
<Silane compound having an epoxy group>
The silane compound having an epoxy group used in the present invention is represented by the following general formula (1) or (2), and has an alkoxysilane moiety that forms an inorganic crosslink by a siloxane bond and an epoxy group that forms an organic crosslink.
エポキシ基を有するシラン化合物としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。中でも３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。
前記エポキシ基を有するシラン化合物は、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。
Examples of the silane compound having an epoxy group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. 2- (3,4-epylcyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epylcyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3,4-epylcyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4) 4-Epylcyclohexyl) Ethylmethyldiethoxysilane and the like can be mentioned. Of these, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane are preferable.
As the silane compound having an epoxy group, not only one kind but also two or more kinds may be mixed and used.
本発明で使用する非晶質中空シリカ微細粒子は、その表面の反応性が高く、エポキシ基を有するシラン化合物と反応するため、塗膜中で一次粒子の形態で分散しやすく、均質な膜を形成することができる。 The amorphous hollow silica fine particles used in the present invention have high reactivity on the surface and react with a silane compound having an epoxy group, so that they are easily dispersed in the form of primary particles in the coating film to form a homogeneous film. Can be formed.
エポキシ基を有するシラン化合物は、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、好ましくは０．３〜５質量部、より好ましくは０．５〜３質量部で存在し得る。エポキシ基を有するシラン化合物が０．３質量部未満である場合、十分な塗膜強度を得られないおそれがあり、５質量部を超える場合、不十分な低屈折率となり好適な反射防止機能が得られず好ましくない。 The silane compound having an epoxy group may be present in an amount of preferably 0.3 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the antireflection film forming composition. If the amount of the silane compound having an epoxy group is less than 0.3 parts by mass, sufficient coating strength may not be obtained, and if it exceeds 5 parts by mass, the refractive index becomes insufficient and a suitable antireflection function is provided. It is not preferable because it cannot be obtained.
中空シリカゾルとエポキシ基を有するシラン化合物との配合比（質量）は、それらの特性に依存するが、一般的には、固形分（中空シリカ微細粒子およびエポキシ基を有するシラン化合物）として、２０：８０〜８０：２０、好ましくは３０：７０〜７０：３０であり、３５：６５〜６５：３５がより好ましく、４０：６０〜６０：４０がさらに好ましい。５０：５０〜６０：４０が最も好ましい。
中空シリカゾルの固形分の配合比が２０未満である場合、不十分な低屈折率となり好適な反射防止機能が得られなく、８０を超える場合、形成される反射防止膜の強度が低下するため好ましくない。
The compounding ratio (mass) of the hollow silica sol and the silane compound having an epoxy group depends on their characteristics, but generally, as a solid content (hollow silica fine particles and a silane compound having an epoxy group), 20 :. It is 80 to 80:20, preferably 30:70 to 70:30, more preferably 35:65 to 65:35, and even more preferably 40:60 to 60:40. Most preferably 50:50 to 60:40.
If the solid content ratio of the hollow silica sol is less than 20, the refractive index is insufficiently low and a suitable antireflection function cannot be obtained, and if it exceeds 80, the strength of the formed antireflection film is lowered, which is preferable. No.
通常、中空シリカゾルの固形分の配合比が５０を超えると、膜強度が低下すると考えられているが、本発明においては、エポキシ基を有するシラン化合物とシリカ表面との反応により、さらに高い配合比でも十分な強度を保つことができる。一方、中空シリカの配合比を高くすることができるため、より一層屈折率を低下させることができ、その結果、反射防止機能を増強することができる。 Normally, it is considered that the film strength decreases when the solid content ratio of the hollow silica sol exceeds 50, but in the present invention, the compounding ratio is further higher due to the reaction between the silane compound having an epoxy group and the silica surface. But it can keep enough strength. On the other hand, since the compounding ratio of the hollow silica can be increased, the refractive index can be further lowered, and as a result, the antireflection function can be enhanced.
また、本発明の反射防止膜形成用組成物には、前記のエポキシ基を有するシラン化合物に加えて、所望により、多官能アルコキシシラン化合物を併用することで、エポキシ基を有するシラン化合物のみを使用する場合と比較して反射防止膜の屈折率を低く設計することが可能である。
また、これにより、シロキサン結合による無機架橋が増大し、反射防止膜の強度の向上を図ることもできる。
Further, in the antireflection film forming composition of the present invention, in addition to the above-mentioned silane compound having an epoxy group, if desired, a polyfunctional alkoxysilane compound is used in combination, so that only the silane compound having an epoxy group is used. It is possible to design the antireflection film to have a lower refractive index than in the case of
Further, as a result, the inorganic cross-linking due to the siloxane bond is increased, and the strength of the antireflection film can be improved.
多官能アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中で、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが好ましい。前記多官能アルコキシシラン化合物は、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the polyfunctional alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysin, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and p-styryltrimethoxy. Silane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N- 2- (Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- Triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Examples thereof include trimethoxysilane and 3-isopropylpropyltriethoxysilane. Of these, tetramethoxysilane, tetraethoxysin, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxysilane are preferable. The polyfunctional alkoxysilane compound may be used not only by one kind but also by mixing two or more kinds.
多官能アルコキシシラン化合物は、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、好ましくは０．３〜５質量部、より好ましくは０．５〜３質量部で存在させ得る。多官能アルコキシシラン化合物が０．３質量部未満である場合、塗膜の屈折率が十分に低くならないおそれがあり、５質量部を超える場合、塗膜にクラック等の外観不良が発生するおそれがあるため好ましくない。 The polyfunctional alkoxysilane compound may be present in an amount of preferably 0.3 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the antireflection film forming composition. If the amount of the polyfunctional alkoxysilane compound is less than 0.3 parts by mass, the refractive index of the coating film may not be sufficiently low, and if it exceeds 5 parts by mass, the coating film may have an appearance defect such as cracks. It is not preferable because it exists.
また、本発明の反射防止膜形成用組成物には、硬化触媒を添加し得る。
硬化触媒としては、アルミニウムトリスアセチルアセトナート、チタニウムトリスアセチルアセトナート等のアセチルアセトン金属キレート化合物；金属アルコキシド化合物；過塩素酸塩化合物が挙げられる。これら中で、アセチルアセトン金属キレート化合物が好ましく、特に、アルミニウムトリスアセチルアセトナートが好適に用いられる。
Further, a curing catalyst may be added to the antireflection film forming composition of the present invention.
Examples of the curing catalyst include acetylacetone metal chelate compounds such as aluminum tris acetylacetonate and titanium tris acetylacetonate; metal alkoxide compounds; and perchlorate compounds. Among these, acetylacetone metal chelate compounds are preferable, and aluminum trisacetylacetonate is particularly preferably used.
硬化触媒の配合量は、使用される中空シリカゾルおよびエポキシ基を有するシラン化合物に依存して、適宜決定されるが、典型的には、反射防止膜形成用組成物中の固形分１００質量部に対し、好ましくは１〜１５質量部、より好ましくは３〜１０質量部で存在させ得る。硬化触媒が１質量部未満である場合、膜硬化が生じないおそれがあり、１５質量部を超える場合、硬化触媒が析出するおそれがあるため好ましくない。 The blending amount of the curing catalyst is appropriately determined depending on the hollow silica sol used and the silane compound having an epoxy group, but is typically 100 parts by mass of the solid content in the composition for forming an antireflection film. On the other hand, it can be present in an amount of 1 to 15 parts by mass, more preferably 3 to 10 parts by mass. If the amount of the curing catalyst is less than 1 part by mass, film curing may not occur, and if it exceeds 15 parts by mass, the curing catalyst may precipitate, which is not preferable.
本発明の反射防止膜形成用組成物は防眩性を有するが、さらに、所望により、結晶性シリカ粒子の二次凝集体を添加することで、反射防止膜の表面に微細な凹凸を形成し、表面反射のギラつきを抑制する防眩性を増強することができる。防眩性を増強する結晶性シリカ粒子としては反射防止膜の屈折率を低く抑え、かつ効果的に入射光を散乱させる観点から、結晶性中空シリカ粒子が好適である。結晶性中空シリカ粒子は、その内部に空隙を有し、かつ低屈折率を有するシリカ（ＳｉＯ２）結晶性粒子を意味する。このような結晶性中空シリカ粒子は、ナノバルーンシリカと呼ばれ、例えば、炭酸カルシウムのコア粒子にゾル−ゲル法でシリカコーティングを行い、酸処理によりコア粒子を溶解させて中空のシリカ粒子を製造することができる。このようにして得られた結晶性中空シリカ粒子は、その表面のシラン化合物に対する反応性が乏しく、通常、数個〜十数個が凝集して二次凝集物を形成する。 The composition for forming an antireflection film of the present invention has antiglare properties, and if desired, by adding a secondary aggregate of crystalline silica particles, fine irregularities are formed on the surface of the antireflection film. , Anti-glare property that suppresses glare of surface reflection can be enhanced. As the crystalline silica particles for enhancing the antiglare property, crystalline hollow silica particles are suitable from the viewpoint of suppressing the refractive index of the antireflection film to a low level and effectively scattering the incident light. The crystalline hollow silica particles mean silica (SiO 2 ) crystalline particles having voids inside and having a low refractive index. Such crystalline hollow silica particles are called nanoballoon silica. For example, the core particles of calcium carbonate are coated with silica by the sol-gel method, and the core particles are dissolved by acid treatment to produce hollow silica particles. can do. The crystalline hollow silica particles thus obtained have poor reactivity with the silane compound on the surface thereof, and usually several to a dozen or more particles aggregate to form a secondary aggregate.
また、本発明の反射防止膜形成用組成物において、中空シリカ粒子を用いることにより、透過率が高い反射防止膜を形成できる。 Further, in the antireflection film forming composition of the present invention, by using hollow silica particles, an antireflection film having a high transmittance can be formed.
結晶性中空シリカ粒子の一次粒子径は、好ましくは、２０〜１００ｎｍ、より好ましくは３０〜８０ｎｍである。結晶性中空シリカ粒子の一次粒子径が２０ｎｍ未満である場合、十分な防眩性が得られないおそれがあり、１００ｎｍを超える場合、結晶性中空シリカ粒子二次凝集物の分散安定性が低下し、二次凝集物が大きくなり低屈折率層の表面粗度およびヘイズ値が上昇するので、好ましくない。 The primary particle size of the crystalline hollow silica particles is preferably 20 to 100 nm, more preferably 30 to 80 nm. If the primary particle size of the crystalline hollow silica particles is less than 20 nm, sufficient anti-glare properties may not be obtained, and if it exceeds 100 nm, the dispersion stability of the secondary aggregates of the crystalline hollow silica particles is lowered. This is not preferable because the secondary agglomerates become large and the surface roughness and haze value of the low refractive index layer increase.
結晶性中空シリカ粒子は、反射防止膜形成用組成物中の固形分１００質量部に対し、０．５〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部で存在し得る。結晶性中空シリカ粒子が０．５質量部未満である場合、反射防止膜において十分に増強した防眩性が得られなく、１０質量部を超える場合、反射防止膜のヘイズ値が高まり、光の透過性が低下するおそれがあり好ましくない。 The crystalline hollow silica particles may be present in an amount of 0.5 to 10 parts by mass, preferably 1 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content in the composition for forming an antireflection film. When the amount of crystalline hollow silica particles is less than 0.5 parts by mass, sufficiently enhanced antiglare property cannot be obtained in the antireflection film, and when it exceeds 10 parts by mass, the haze value of the antireflection film increases and the light becomes light. It is not preferable because the permeability may decrease.
さらに、本発明の反射防止膜形成用組成物に、所望により、塗布性をより向上させる目的で界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。 Further, if desired, a surfactant may be added to the antireflection film forming composition of the present invention for the purpose of further improving the coatability. As the surfactant, various surfactants such as silicone-based surfactants, fluorine-based surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, and anionic surfactants can be used.
前記界面活性剤の配合量は、反射防止膜形成用組成物の塗布性を考慮して適宜決定されるが、典型的には、反射防止膜形成用組成物中の固形分１００質量部に対し、好ましくは０．００１〜２質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部で存在させ得る。界面活性剤が０．００１質量部未満である場合、塗布性が生じないおそれがあり、２質量部を超える場合、反射防止膜の密着性が低下するおそれがあるため好ましくない。 The blending amount of the surfactant is appropriately determined in consideration of the applicability of the antireflection film forming composition, but is typically based on 100 parts by mass of the solid content in the antireflection film forming composition. It can be present in an amount of 0.001 to 2 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass. If the amount of the surfactant is less than 0.001 part by mass, the coatability may not occur, and if it exceeds 2 parts by mass, the adhesion of the antireflection film may be deteriorated, which is not preferable.
さらに、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲で、所望により、反射防止膜形成用組成物にアンチブロッキング剤、着色剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤等の添加剤を添加してもよい。 Further, to the extent that the effect of the present invention is not adversely affected, additives such as an antiblocking agent, a colorant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and an antioxidant are added to the antireflection film forming composition, if desired. May be.
また、前記の硬化触媒、非晶質中空シリカ微細粒子、結晶性中空シリカ粒子の二次凝集物、界面活性剤および添加剤等は、各々、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。 Further, the above-mentioned curing catalyst, amorphous hollow silica fine particles, secondary aggregates of crystalline hollow silica particles, surfactants, additives and the like are used by mixing not only one type but also two or more types. You may.
＜反射防止膜形成用組成物の製造例＞
少なくとも１種の中空シリカゾルを溶媒中で撹拌下混合させ、室温以下の温度に調節した。その温度を保ちながら、エポキシ基を有するシラン化合物またはエポキシ基を有するシラン化合物と多官能アルコキシシラン化合物の混合物を滴下する。次いで、この混合液を昇温させ、撹拌後、揮発性溶媒、硬化触媒を添加して、反射防止膜形成用組成物を得る。
<Production example of composition for forming antireflection film>
At least one kind of hollow silica sol was mixed under stirring in a solvent, and the temperature was adjusted to room temperature or lower. While maintaining the temperature, a silane compound having an epoxy group or a mixture of a silane compound having an epoxy group and a polyfunctional alkoxysilane compound is dropped. Next, the temperature of this mixed solution is raised, and after stirring, a volatile solvent and a curing catalyst are added to obtain an antireflection film forming composition.
揮発性溶媒として、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエステル類、メチルエチルケトン、アセチルアセトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類などが挙げられる。これらの中で、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。これらの揮発性溶媒は、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。 As volatile solvents, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether, glycol esters such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, ketones such as methyl ethyl ketone and acetyl acetone, ethyl acetate and acetic acid. Examples include esters such as butyl. Of these, methanol, ethanol, isopropyl alcohol and propylene glycol monomethyl ether are particularly preferable. These volatile solvents may be used not only by one kind but also by mixing two or more kinds.
揮発性溶媒は、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、９０〜９９質量部、好ましくは９５〜９８質量部で存在し得る。 The volatile solvent may be present in an amount of 90 to 99 parts by mass, preferably 95 to 98 parts by mass, based on 100 parts by mass of the antireflection film forming composition.
＜反射防止膜＞
本発明は、前記のごとき反射防止膜形成用組成物を物品の基材上に形成されたハードコート膜または物品の基材上に塗布し、加熱乾燥させることにより形成された反射防止膜を提供する。
<Anti-reflective coating>
The present invention provides an antireflection film formed by applying a composition for forming an antireflection film as described above onto a hard coat film formed on a substrate of an article or a substrate of an article and heating and drying the composition. do.
＜ハードコート膜＞
ハードコート膜は、メラミン樹脂系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系、シラン化合物系および金属酸化物系ハードコート剤ならびにそれらの組合せよりなる群から選択される少なくとも１種のハードコート剤を物品の基材上に塗布し、加熱乾燥またはエネルギー線を照射して形成される。中でもハードコート剤として、アクリル樹脂系、シラン化合物系が好ましい。
ハードコート膜は、単層または積層体であり得る。
<Hardcourt film>
The hard coat film is based on at least one hard coat agent selected from the group consisting of melamine resin-based, urethane resin-based, acrylic resin-based, silane compound-based and metal oxide-based hard coat agents, and combinations thereof. It is formed by applying it on a material, drying it by heating, or irradiating it with energy rays. Of these, acrylic resin-based and silane compound-based hard coat agents are preferable.
The hardcourt film can be a single layer or a laminate.
メラミン樹脂系ハードコート剤としては、水溶性型、水分散型および溶剤型のものなどが挙げられる。 Examples of the melamine resin-based hard coat agent include water-soluble type, water-dispersed type and solvent type.
ウレタン樹脂系ハードコート剤としては、水分散型、溶剤型および二液硬化型のものなどが挙げられる。 Examples of the urethane resin-based hard coat agent include water-dispersed type, solvent type and two-component curable type.
アクリル樹脂系ハードコート剤としては、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートおよび有機−無機ハイブリッド型のものなどが挙げられる。 Examples of the acrylic resin-based hard coat agent include polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and an organic-inorganic hybrid type.
シラン化合物系ハードコート剤としては、ゾル−ゲル型、有機−無機ハイブリッド型のものなどが挙げられる。 Examples of the silane compound-based hard coat agent include sol-gel type and organic-inorganic hybrid type.
金属酸化物系ハードコート剤としては、ゾル−ゲル型およびスパッタリングや各種蒸着法により形成されるものなどが挙げられる。
前記の各種ハードコート剤は、１種だけでなく２種以上を混合して使用してもよい。
Examples of the metal oxide-based hard coat agent include sol-gel type and those formed by sputtering or various vapor deposition methods.
As the above-mentioned various hard coat agents, not only one kind but also two or more kinds may be mixed and used.
本願発明の反射防止膜形成用組成物により形成される反射防止膜は、これらのハードコート剤により形成されたいずれのハードコート膜上にも直接形成し得るが、両膜の接着性や、加工性のため、好ましくはアクリル樹脂系およびシラン化合物系ハードコート剤、より好ましくは、シラン化合物系ハードコート剤により形成されたハードコート膜上に直接形成される。 The antireflection film formed by the antireflection film forming composition of the present invention can be directly formed on any hardcoat film formed by these hardcoat agents, but the adhesiveness between the two films and the processing can be achieved. Because of its properties, it is preferably formed directly on a hardcoat film formed by an acrylic resin-based and silane compound-based hardcoat agent, and more preferably a silane compound-based hardcoat agent.
ハードコート剤は任意の塗膜屈折率を付与するものを使用できるが、反射防止性能の観点から、得られるハードコート膜は、反射防止膜の屈折率よりも高く、かつその屈折率の差が大きい程好ましい。ハードコート膜の塗膜屈折率として、好ましくは１.４５以上、より好ましくは１.５０以上、さらにより好ましくは１．５５以上であって、１．７５以下である。ハードコート膜の屈折率の範囲として、１．４５〜１．７５、より好ましくは１．５０〜１．７５、さらにより好ましくは１．５５〜１．７５が好ましい。
さらに、ハードコート膜の膜厚は、目的とする機能により決定される。その膜厚は、好ましくは０．５〜３０μｍ、より好ましくは１〜２０μｍ、さらにより好ましくは１．５〜１０μｍであり、２〜５μｍが最も好ましい。反射率を低減させるために、ハードコート層と反射防止膜層との間に、高屈折率層を設けてもよい。
A hard coat agent that imparts an arbitrary refractive index to the coating film can be used, but from the viewpoint of antireflection performance, the obtained hard coat film has a higher refractive index than the antireflection film, and the difference in the refractive index is different. The larger the value, the better. The refractive index of the coating film of the hard coat film is preferably 1.45 or more, more preferably 1.50 or more, still more preferably 1.55 or more, and 1.75 or less. The range of the refractive index of the hardcourt film is preferably 1.45 to 1.75, more preferably 1.50 to 1.75, and even more preferably 1.55 to 1.75.
Further, the film thickness of the hardcourt film is determined by the desired function. The film thickness is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 1 to 20 μm, still more preferably 1.5 to 10 μm, and most preferably 2 to 5 μm. In order to reduce the reflectance, a high refractive index layer may be provided between the hard coat layer and the antireflection film layer.
＜ハードコート剤の調製例＞
ハードコート剤の一例として、シラン化合物系ハードコート剤の調製を示す。
少なくとも１種の中空シリカゾルを溶媒中で撹拌下混合させ、室温以下の温度に調節した。その温度を保ちながら、少なくとも１種のアルコキシシラン化合物を滴下する。その後、溶液温度を昇温させ撹拌する。次に、硬化触媒を添加して、ハードコート剤を調製した。
また、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、シラン化合物および金属酸化物よりなる他のハードコート剤も、常法により調製できる。
<Preparation example of hard coat agent>
As an example of the hard coat agent, preparation of a silane compound-based hard coat agent is shown.
At least one kind of hollow silica sol was mixed under stirring in a solvent, and the temperature was adjusted to room temperature or lower. At least one alkoxysilane compound is added dropwise while maintaining that temperature. Then, the solution temperature is raised and stirred. Next, a curing catalyst was added to prepare a hard coat agent.
Further, other hard coat agents composed of melamine resin, urethane resin, acrylic resin, silane compound and metal oxide can also be prepared by a conventional method.
さらに、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲で、所望により、ハードコート剤にアンチブロッキング剤、着色剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤等を添加してもよい。 Further, if desired, an anti-blocking agent, a coloring agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant and the like may be added to the hard coat agent as long as the effects of the present invention are not adversely affected.
＜ハードコート膜の形成方法＞
本願のハードコート膜は、前記ハードコート剤から単層または積層体のハードコート膜を形成させることにより作製され、その形成方法は、物品表面の基材上に少なくとも１種の前記ハードコート剤を塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から揮発性溶媒を揮発させ乾燥させる工程、および該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順序にて含む。
また、ハードコート膜は、物品表面の基材および／または反射防止膜との間に少なくとも１種の中間層または膜を含んでもよい。
中間層または膜としては、特に限定されるものではなく、ハードコート膜、接着層等いずれのものも含む。
<Method of forming a hard coat film>
The hard coat film of the present application is produced by forming a single-layer or laminated hard coat film from the hard coat agent, and the forming method thereof is to apply at least one kind of the hard coat agent on a substrate on the surface of an article. A step of applying and forming a coating film, a step of volatilizing and drying a volatile solvent from the coating film, and a step of curing the coating film to form a cured layer are included in this order.
The hardcourt film may also include at least one intermediate layer or film between the substrate and / or the antireflection film on the surface of the article.
The intermediate layer or the film is not particularly limited, and includes any of a hard coat film, an adhesive layer and the like.
＜反射防止膜の形成方法＞
本発明は、前記の反射防止膜形成用組成物を用いる反射防止膜の形成方法であって、ハードコート膜または物品表面の基材上に該反射防止膜形成用組成物を単層で形成させることを特徴とする。本発明によれば、反射防止膜は、前記のハードコート膜もしくは高屈折率層または物品表面の基材上に前記反射防止用組成物を塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から揮発性溶媒を揮発させ乾燥させる工程、および該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順序にて含むことにより、前記反射防止用組成物から形成する。
これにより、物品表面の基材上、または物品表面の基材上に形成されたハードコート膜もしくは高屈折率層上に形成された、本発明の反射防止膜形成用組成物の硬化体である、反射防止膜を得ることができる。
<Method of forming antireflection film>
The present invention is a method for forming an antireflection film using the antireflection film forming composition, wherein the antireflection film forming composition is formed as a single layer on a hard coat film or a substrate on the surface of an article. It is characterized by that. According to the present invention, the antireflection film is a step of applying the antireflection composition on the hard coat film or the high refractive index layer or the substrate on the surface of an article to form a coating film, and volatilizes from the coating film. It is formed from the antireflection composition by including a step of volatilizing and drying the sex solvent and a step of curing the coating film to form a cured layer in this order.
As a result, it is a cured product of the composition for forming an antireflection film of the present invention, which is formed on a hard coat film or a high refractive index layer formed on a substrate on the surface of an article or on a substrate on the surface of an article. , Antireflection film can be obtained.
本発明の物品は、液晶などの画像表示装置や、メガネ、サングラス、ゴーグル、光学フィルターなどの光学物品や、太陽電池パネルなどを含み、本願発明の反射防止用組成物をその表面の基材に適用可能な物品を意味する。
また、物品本来の表面基材に加えて、その表面がハードコート剤などの各種の処理により予め表面処理された表面基材も、物品の表面基材に含まれる。
The article of the present invention includes an image display device such as a liquid crystal display, an optical article such as glasses, sunglasses, goggles, an optical filter, a solar cell panel, and the like, and the antireflection composition of the present invention is used as a base material on the surface thereof. Means applicable goods.
Further, in addition to the original surface base material of the article, the surface base material whose surface is pre-treated by various treatments such as a hard coat agent is also included in the surface base material of the article.
物品表面の基材としては、ガラス等の透明な無機系基材および透明なプラスチック系基材の成形品、板またはフィルム等が挙げられ、透明なプラスチック系基材等の透明な無機系基材の成形品または板が特に好ましい。 Examples of the base material on the surface of the article include a transparent inorganic base material such as glass, a molded product of a transparent plastic base material, a plate or a film, and a transparent inorganic base material such as a transparent plastic base material. Molded products or plates are particularly preferred.
無機系基材としては、透明な無機系基材であれば特に制限はないが、ソーダ石灰ガラス、鉛ソーダ石灰ガラス、鉛カリガラス、石英ガラス、アルミノケイ酸塩ガラスが挙げられる。 The inorganic base material is not particularly limited as long as it is a transparent inorganic base material, and examples thereof include soda lime glass, lead soda lime glass, lead potassium glass, quartz glass, and aluminosilicate glass.
プラスチック系基材としては、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート等のポリエステル系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリラート等のアクリル系ポリマー；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー等の透明ポリマーからなる成形品またはフィルムが挙げられる。 As the plastic base material, polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; acrylic polymers such as polycarbonate polymer and polymethylmethacrylate; and transparent polymers such as cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose. Molded product or film.
また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなる成形品またはフィルムが挙げられる。 In addition, styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers; polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin polymers such as ethylene / propylene copolymers, vinyl chloride polymers, nylon and aromatic polyamides. Examples thereof include molded products or films made of transparent polymers such as amide-based polymers.
さらに、プラスチック系基材としては、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなる成形品またはフィルム等が挙げられる。 Further, as the plastic-based substrate, imide-based polymer, sulfone-based polymer, polyether sulfone-based polymer, polyether ketone-based polymer, polyphenylene sulfide-based polymer, vinyl alcohol-based polymer, vinylidene chloride-based polymer, vinyl butyral-based polymer, allylate. Examples thereof include molded products or films made of transparent polymers such as based polymers, polyoxymethylene polymers, epoxy polymers and blends of the polymers.
該基材上に塗布する方法として、ディップコート、ロールコート、スピンコート、フローコート、スプレーコート、グラビアコート等の一般的な方法が使用できる。 As a method of applying on the substrate, a general method such as dip coating, roll coating, spin coating, flow coating, spray coating, gravure coating and the like can be used.
また、形成された反射防止膜の屈折率は、前記のように、ハードコート膜や物品の表面基材等の屈折率に対応させて決定され、反射防止性能の観点から、ハードコート膜等より低く、かつその屈折率との差が大きい程好ましい。
反射防止膜の屈折率としては、１．３０以上であって、好ましくは１．４５以下、より好ましくは１．４０以下、さらにより好ましくは１．３５以下である。反射防止膜の屈折率の範囲として、１．３０〜１．４５、より好ましくは１．３０〜１．４０、さらにより好ましくは１．３０〜１．３５が好ましい。
Further, the refractive index of the formed antireflection film is determined in correspondence with the refractive index of the hard coat film, the surface substrate of the article, etc. as described above, and from the viewpoint of antireflection performance, the hard coat film or the like is used. It is preferable that the value is low and the difference from the refractive index is large.
The refractive index of the antireflection film is 1.30 or more, preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less, and even more preferably 1.35 or less. The range of the refractive index of the antireflection film is preferably 1.30 to 1.45, more preferably 1.30 to 1.40, and even more preferably 1.30 to 1.35.
さらに、反射防止膜の膜厚は、目的とする屈折率に対応させて決定されるが、好ましくは５０〜２００ｎｍ、より好ましくは６０〜１５０ｎｍ、さらにより好ましくは７０〜１３０ｎｍであり、８０〜１２０ｎｍが最も好ましい。 Further, the film thickness of the antireflection film is determined according to the desired refractive index, but is preferably 50 to 200 nm, more preferably 60 to 150 nm, still more preferably 70 to 130 nm, and 80 to 120 nm. Is the most preferable.
以下に、調製例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら調製例および実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Preparation Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Preparation Examples and Examples.
＜実施例１＞
（反射防止膜形成用組成物１の調製）
２Ｌ容のビーカー中で、撹拌下、中空コロイダルシリカゾル（商品名：スルーリア ４１１０、日揮触媒化成株式会社製、固形分濃度 ２０％）７３．２ｇ（７．３２質量部）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）２００ｇ（２０質量部）、０．０２Ｎ 塩酸 ２０ｇ（２質量部）を混合し、室温で撹拌した。ここへ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）１０．６ｇ（１．０６質量部）、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）１９．９ｇ（１．９９質量部）の混合物を室温下で１時間かけて滴下した。その後、溶液温度を５０℃まで昇温し、その温度で２時間撹拌した。冷却後に、さらに、アルミニウムトリスアセチルアセトナート ２．４ｇ（０．２４質量部）、ＩＰＡ ６７３．９ｇ（６７．３９質量部）を加えて、反射防止膜形成用組成物１ １ｋｇ（１００質量部）を調製した。塗膜形成後の屈折率は１．３５であった。
<Example 1>
(Preparation of
Hollow colloidal silica sol (trade name: Sururia 4110, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd., solid content concentration 20%) 73.2 g (7.32 parts by mass), isopropyl alcohol (IPA) 200 g in a 2 L beaker with stirring. (20 parts by mass) and 20 g (2 parts by mass) of 0.02N hydrochloric acid were mixed and stirred at room temperature. Here, a mixture of 10.6 g (1.06 parts by mass) of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) and 19.9 g (1.99 parts by mass) of methyltriethoxysilane (MTES) is added at room temperature. Dropped over time. Then, the solution temperature was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 2 hours. After cooling, 2.4 g (0.24 parts by mass) of aluminum trisacetylacetonate and 673.9 g (67.39 parts by mass) of IPA were further added to 1 1 kg (100 parts by mass) of the antireflection film forming composition. Was prepared. The refractive index after forming the coating film was 1.35.
次に、反射防止膜を形成するに際して、物品基材上のハードコートを形成するため、以下のハードコート剤を調製した。 Next, in order to form a hard coat on the article substrate when forming the antireflection film, the following hard coat agent was prepared.
（ハードコート剤の調製）
２Ｌ容のビーカー中で、水分散コロイダルシリカ（商品名：スノーテックス Ｏ、日産化学工業株式会社製、固形分濃度 ２０％）１５８ｇ（１５．８質量部）、メタノール分散コロイダルシリカゾル（商品名：メタノールシリカゾル、日産化学工業株式会社製、固形分濃度 ３０％）２６０ｇ（２６質量部）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）１１５ｇ（１１．５質量部）を混合し、溶液温度を０〜２５℃に調節した。その温度を保ちながら、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）２３８ｇ（２３．８質量部）を１時間かけて滴下した。その後、溶液温度を３０℃まで昇温し、その温度で２時間撹拌した。溶液温度を２５℃以下まで冷却後にアルミニウムトリスアセチルアセトナート ９．６ｇ（０．９６質量部）、アセチルアセトン ６９．３ｇ（６．９３質量部）、ブチルセロソルブ ２５ｇ（２．５質量部）、ＰＧＭＥ １２５．１ｇ（１２．５１質量部）を添加して、ハードコート剤 １ｋｇ（１００質量部）を調製した。塗膜形成後の屈折率は１．５０であった。
(Preparation of hard coat agent)
In a 2 L volume beaker, water-dispersed colloidal silica (trade name: Snowtex O, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration 20%) 158 g (15.8 parts by mass), methanol-dispersed colloidal silica sol (trade name: methanol) Silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration 30%) 260 g (26 parts by mass), propylene glycol monomethyl ether (PGME) 115 g (11.5 parts by mass) are mixed, and the solution temperature is adjusted to 0 to 25 ° C. did. While maintaining the temperature, 238 g (23.8 parts by mass) of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) was added dropwise over 1 hour. Then, the solution temperature was raised to 30 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 2 hours. After cooling the solution temperature to 25 ° C or lower, 9.6 g (0.96 parts by mass) of aluminum tris acetylacetonate, 69.3 g (6.93 parts by mass) of acetylacetone, 25 g (2.5 parts by mass) of butyl cellosolve, PGME 125. 1 g (12.51 parts by mass) was added to prepare 1 kg (100 parts by mass) of the hard coat agent. The refractive index after forming the coating film was 1.50.
（反射防止膜の形成）
次に、プライマー処理を行ったポリカーボネート板またはポリカーボネートレンズを上記のハードコート剤に浸漬し、２．５ｍｍ/秒の速度で引き上げてハードコート剤を塗布した。次いで、８０℃のクリーンオーブン内で１０分間予備乾燥を行った。
基材をオーブンから取り出し、室温まで冷却後に上記で得られた反射防止膜形成用組成物１に浸漬し、２．５ｍｍ/秒の速度で引き上げて反射防止膜形成用組成物１を塗布した。次いで、８０℃のクリーンオーブン内で１０分間の予備乾燥を行った後に、１２０℃オーブン内で３０分間加熱して硬化させた。形成されたハードコート膜および反射防止膜の膜厚は、各々、３．２μｍおよび１００ｎｍであった。
反射防止膜の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、反射防止膜中で、中空シリカは均一に分散していた。
(Formation of antireflection film)
Next, the primer-treated polycarbonate plate or polycarbonate lens was immersed in the above-mentioned hard coat agent and pulled up at a speed of 2.5 mm / sec to apply the hard coat agent. Then, pre-drying was performed for 10 minutes in a clean oven at 80 ° C.
The substrate was taken out of the oven, cooled to room temperature, immersed in the antireflection
When the cross section of the antireflection film was observed with a scanning electron microscope, the hollow silica was uniformly dispersed in the antireflection film.
＜実施例２＞
前記実施例１において、反射防止膜形成用組成物１を下記で調製した反射防止膜形成用組成物２に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例２の反射防止膜を形成した。形成されたハードコート膜および反射防止膜の膜厚は、各々、３．２μｍおよび１００ｎｍであった。
<Example 2>
The antireflection film of Example 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that the antireflection
（反射防止膜形成用組成物２の調製）
２Ｌ容のビーカー中で、撹拌下、中空コロイダルシリカゾル（商品名：スルーリア ４１１０、日揮触媒化成株式会社製、固形分濃度 ２０％）７８．０ｇ（７．８０質量部）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）２００ｇ（２０質量部）、０．０２Ｎ 塩酸 ２０ｇ（２質量部）を混合し、室温で撹拌した。ここへ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）１０．６ｇ（１．０６質量部）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）２６．０ｇ（２．６０質量部）の混合物を室温下で１時間かけて滴下した。その後、溶液温度を５０℃まで昇温し、その温度で２時間撹拌した。冷却後に、さらに、アルミニウムトリスアセチルアセトナート ２．４ｇ（０．２４質量部）、ＩＰＡ ６６３．０ｇ（６６．３質量部）を加えて、反射防止膜形成用組成物２ １ｋｇ（１００質量部）を調製した。塗膜形成後の屈折率は１．３５であった。
(Preparation of
Hollow colloidal silica sol (trade name: Sururia 4110, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd., solid content concentration 20%) 78.0 g (7.80 parts by mass), isopropyl alcohol (IPA) 200 g in a 2 L beaker with stirring. (20 parts by mass) and 20 g (2 parts by mass) of 0.02N hydrochloric acid were mixed and stirred at room temperature. Here, a mixture of 10.6 g (1.06 parts by mass) of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) and 26.0 g (2.60 parts by mass) of tetraethoxysilane (TEOS) was added at room temperature for 1 hour. Dropped over. Then, the solution temperature was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 2 hours. After cooling, 2.4 g (0.24 parts by mass) of aluminum trisacetylacetonate and 663.0 g (66.3 parts by mass) of IPA were further added to 21 kg (100 parts by mass) of the antireflection film forming composition. Was prepared. The refractive index after forming the coating film was 1.35.
＜実施例３＞
前記実施例１において、ハードコート層の上に下記で調製した高屈折率組成物を用いて高屈折率層を形成し、その上に反射防止膜形成用組成物１を用いて低屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして実施例３の反射防止膜を形成した。形成されたハードコート膜、高屈折率層および反射防止膜の膜厚は、各々、３．２μｍ、１００μｍおよび１００ｎｍであった。
<Example 3>
In Example 1, a high refractive index layer is formed on the hard coat layer by using the high refractive index composition prepared below, and the low refractive index layer is formed on the high refractive index layer by using the antireflection
（高屈折率組成物の調製）
２Ｌ容のビーカー中で、メタノール分散酸化チタンゾル（商品名：サンコロイドＨＴ−Ｒ３０５Ｍ７、日産化学工業株式会社製、固形分濃度 ３０％）３３ｇ（３．３質量部）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１００ｇ（１０質量部）、酸性水２０ｇ（２質量部）を混合し、溶液温度を０〜２５℃に調節した。その温度を保ちながら、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）２５．４ｇ（２．５４質量部）とテトラエトキシシラン７．３ｇ（０．７３質量部）の混合物を１時間かけて滴下した。その後、溶液温度を３０℃まで昇温し、その温度で２時間撹拌した。溶液温度を２５℃以下まで冷却後にアルミニウムトリスアセチルアセトナート ２．４ｇ（０．２４質量部）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）８１２ｇ（８１．２質量部）を添加して、高屈折率組成物 １ｋｇ（１００質量部）を調製した。塗膜形成後の屈折率は１．６０であった。高屈折率層の上に形成する低屈折率層は反射防止膜形成用組成物１を用いた。
(Preparation of high refractive index composition)
In a 2 L beaker, methanol-dispersed titanium oxide sol (trade name: Sun Colloid HT-R305M7, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd., solid content concentration 30%) 33 g (3.3 parts by mass), isopropyl alcohol (IPA) 100 g ( 10 parts by mass) and 20 g (2 parts by mass) of acidic water were mixed, and the solution temperature was adjusted to 0 to 25 ° C. While maintaining the temperature, a mixture of 25.4 g (2.54 parts by mass) of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) and 7.3 g (0.73 parts by mass) of tetraethoxysilane was added dropwise over 1 hour. did. Then, the solution temperature was raised to 30 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 2 hours. After cooling the solution temperature to 25 ° C or lower, 2.4 g (0.24 parts by mass) of aluminum trisacetylacetonate and 812 g (81.2 parts by mass) of isopropyl alcohol (IPA) were added to add 1 kg (81.2 parts by mass) of the high refractive index composition. 100 parts by mass) was prepared. The refractive index after forming the coating film was 1.60. As the low refractive index layer formed on the high refractive index layer, the antireflection
＜実施例４＞
前記実施例１において、反射防止膜形成用組成物１を下記で調製した防眩性反射防止膜形成用組成物１に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例４の防眩性反射防止膜を形成した。形成されたハードコート膜および防眩性反射防止膜の膜厚は、各々、３．２μｍおよび１００〜１５０ｎｍであった。
<Example 4>
In Example 1, the antiglare property of Example 4 is the same as that of Example 1, except that the antireflection
（防眩性反射防止膜形成用組成物１の調製）
一次粒子径 ４０ｎｍの結晶性中空シリカ粒子（商品名：ＸＧ４０、グランデックス株式会社製）０．９ｇ（０．０９質量部）をＩＰＡ ９０ｇ（９質量部）に分散させた。この分散液を実施例１で調製した反射防止膜形成用組成物１ １ｋｇ（１００質量部）に加え、３０分間混合し防眩性反射防止膜形成用組成物１を調製した。
この実施例で使用した結晶性中空シリカ粒子は数個から十数個が凝集して二次凝集物を形成している。前記二次凝集物の大きさは３００〜５００ｎｍであった。
(Preparation of
0.9 g (0.09 parts by mass) of crystalline hollow silica particles (trade name: XG40, manufactured by Grandex Co., Ltd.) having a primary particle diameter of 40 nm were dispersed in 90 g (9 parts by mass) of IPA. This dispersion was added to 1 kg (100 parts by mass) of the antireflection film forming composition prepared in Example 1 and mixed for 30 minutes to prepare an antiglare antireflection
Several to a dozen crystalline hollow silica particles used in this example aggregate to form a secondary agglomerate. The size of the secondary aggregate was 300 to 500 nm.
＜比較例１＞
（反射防止膜形成用組成物３の調製）
２Ｌ容のビーカー中で、撹拌下、中空コロイダルシリカゾル（商品名：スルーリア４３２０、日揮触媒化成株式会社製、固形分濃度 ２０％）１４８．２ｇ（１４．８２質量部）、ペンタエリスリトールトリアクリラート（商品名：アロニックスＭ−３０６、東亞合成株式会社製）１３．１ｇ（１．３１質量部）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１３３７．４ｇ（１３３．７４質量部）、２-メチル-１-(４-メチルチオフェニル)-２-モルフォリノプロパン-１-オン １．４ｇ（０．１４質量部）を混合し、エポキシ基を有するシラン化合物を含まない反射防止膜形成用組成物３ １．５ｋｇ（１５０質量部）を調製した。塗膜形成後の屈折率は１．３３であった。
<Comparative Example 1>
(Preparation of composition 3 for forming an antireflection film)
Hollow colloidal silica sol (trade name: Sururia 4320, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd., solid content concentration 20%) 148.2 g (14.82 parts by mass), pentaerythritol triacryllate (trade name: Sururia 4320, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.) in a 2 L beaker with stirring. Product name: Aronix M-306, manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd. 13.1 g (1.31 parts by mass), Methylisobutylketone (MIBK) 1337.4 g (133.74 parts by mass), 2-Methyl-1- (4) -Methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one 1.4 g (0.14 parts by mass) is mixed, and an antireflection film forming composition 3 1.5 kg (150) containing no silane compound having an epoxy group. By mass) was prepared. The refractive index after forming the coating film was 1.33.
（反射防止膜の形成）
次に、プライマー処理を行ったポリカーボネート板またはポリカーボネートレンズを実施例１で得られたハードコート剤に浸漬し、２．５ｍｍ/秒の速度で引き上げてハードコート剤を塗布した。次いで、８０℃のクリーンオーブン内で１０分間の予備乾燥を行った後に、１２０℃オーブン内で３０分間加熱して硬化させた。
基材をオーブンから取り出し、室温まで冷却後に上記で得られた反射防止膜形成用組成物３に浸漬し、５ｍｍ/秒の速度で引き上げて反射防止膜形成用組成物３を塗布した。次いで、８０℃のクリーンオーブン内で５分間の予備乾燥を行った後に、高圧水銀ランプ下で５００ｍJ／ｃｍ２の紫外光を照射して硬化させた。形成されたハードコート膜および反射防止膜の膜厚は、各々、３．２μｍおよび１００ｎｍであった。
(Formation of antireflection film)
Next, the primer-treated polycarbonate plate or polycarbonate lens was immersed in the hard coat agent obtained in Example 1 and pulled up at a speed of 2.5 mm / sec to apply the hard coat agent. Then, after pre-drying in a clean oven at 80 ° C. for 10 minutes, it was heated in a 120 ° C. oven for 30 minutes to cure.
The substrate was taken out of the oven, cooled to room temperature, immersed in the antireflection film forming composition 3 obtained above, and pulled up at a speed of 5 mm / sec to apply the antireflection film forming composition 3. Then, after pre-drying in a clean oven at 80 ° C. for 5 minutes, it was cured by irradiating it with ultraviolet light of 500 mJ / cm 2 under a high-pressure mercury lamp. The film thicknesses of the hard coat film and the antireflection film formed were 3.2 μm and 100 nm, respectively.
＜比較例２＞
一次粒子径 １００ｎｍの結晶性中空シリカ粒子（商品名：ＸＧ１００、グランデックス株式会社製）を用いる以外は、実施例４と同様にして、反射防止膜を形成した。
この実施例で使用した結晶性中空シリカ粒子は数個から十数個が凝集して二次凝集物を形成している。前記二次凝集物の大きさは６００〜８００ｎｍであった。
<Comparative Example 2>
An antireflection film was formed in the same manner as in Example 4 except that crystalline hollow silica particles having a primary particle diameter of 100 nm (trade name: XG100, manufactured by Grandex Co., Ltd.) were used.
Several to a dozen crystalline hollow silica particles used in this example aggregate to form a secondary agglomerate. The size of the secondary aggregate was 600 to 800 nm.
＜比較例３＞
プライマー処理を行ったポリカーボネート板またはポリカーボネートレンズを実施例１で得られたハードコート剤に浸漬し、２．５ｍｍ/秒の速度で引き上げてハードコート剤を塗布した。次いで、８０℃のクリーンオーブン内で１０分間予備乾燥を行った後に、１２０℃オーブン内で３０分間加熱して硬化させ、ハードコート膜を形成した。形成されたハードコート膜の膜厚は、３．２μｍであった。
<Comparative Example 3>
The primer-treated polycarbonate plate or polycarbonate lens was immersed in the hard coat agent obtained in Example 1 and pulled up at a speed of 2.5 mm / sec to apply the hard coat agent. Then, after pre-drying in a clean oven at 80 ° C. for 10 minutes, it was heated and cured in a clean oven at 120 ° C. for 30 minutes to form a hardcourt film. The film thickness of the formed hard coat film was 3.2 μm.
（反射防止膜の評価）
実施例１〜４および比較例１〜３で形成した測定サンプルについて、以下の試験方法によりその性能を評価した。
(Evaluation of antireflection film)
The performance of the measurement samples formed in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was evaluated by the following test methods.
＜反射率測定＞
測定サンプルの裏面をサンドペーパーで数回擦り、艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長４００〜７００nmで光の入射角５゜の片面の反射率を分光光度計（型番：Ｕ−３３１０、（株）日立製作所製）を用いて測定し、測定範囲内での最小反射率（％）を反射率として用いた。
<Reflectance measurement>
After rubbing the back surface of the measurement sample with sandpaper several times and applying a matte black paint, the reflectance of one side with an incident angle of 5 ° at a wavelength of 400 to 700 nm is measured by a spectrophotometer (model number: U-3310, (model number: U-3310). (Made by Hitachi, Ltd.) was used for measurement, and the minimum reflectance (%) within the measurement range was used as the reflectance.
＜全光線透過率＞
ヘーズメーター（型番：ＮＤＨ−２０００、日本電色工業（株）製）を用いて、常法により反射防止膜の全光線透過率（％）を測定した。
<Total light transmittance>
Using a haze meter (model number: NDH-2000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.), the total light transmittance (%) of the antireflection film was measured by a conventional method.
＜塗膜の耐擦傷性試験＞
表面性測定機（型番：ＴＹＰＥ１４ＤＲ、新東科学（株）製）のスチールウールホルダーに＃００００のスチールウールを固定し、２００ｇの荷重をかけて、低屈折率層表面上を１０回往復摩擦した（以下、スチールウール擦傷試験という）。
<Scratch resistance test of coating film>
# 0000 steel wool was fixed to a steel wool holder of a surface measuring machine (model number: TYPE14DR, manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), and a load of 200 g was applied to rub it back and forth 10 times on the surface of the low refractive index layer. (Hereinafter referred to as steel wool scratch test).
＜Ｂａｙｅｒ摩耗試験＞
塗膜の耐磨耗性の評価を行うため、レンズの耐摩耗性評価方法として一般的なＢａｙｅｒ摩耗試験を実施した。
Ｂａｙｅｒ試験機（ＣＯＬＴＳ Ｌａｂｒａｔｏｒｉｅｓ社製）を用いてレンズの面の擦傷の受けやすさを測定した。試験機に、上記にて作製したレンズサンプルとＩＳＯ規格のＣＲ−３９レンズとをセットして、摩耗剤（商品名：Ｋｒｙｐｔｏｎｉｔｅ Ｂ、ＣＯＬＴＳ Ｌａｂｒａｔｏｒｉｅｓ社製）５００ｇを投入した。６００回の往復動作の後、レンズサンプルおよびＣＲ―３９を取り出し、ヘイズ値を測定した。ヘイズ値の測定には、ＢＹＫガードナー・ヘイズ-ガード プラスを用いた。ヘイズ値を測定後、次の計算式により、Ｂａｙｅｒ試験の値Ｒ（Ｂａｙｅｒ比）を算出した。
<Bayer wear test>
In order to evaluate the wear resistance of the coating film, a general Bayer wear test was carried out as a method for evaluating the wear resistance of the lens.
The susceptibility to scratches on the lens surface was measured using a Bayer tester (manufactured by COLTS Laboratories). The lens sample prepared above and the ISO standard CR-39 lens were set in the testing machine, and 500 g of a wear agent (trade name: Kryptonite B, manufactured by COLTS Laboratories) was charged. After 600 reciprocating movements, the lens sample and CR-39 were taken out and the haze value was measured. BYK Gardner Haze-Guard Plus was used to measure the haze value. After measuring the haze value, the value R (Bayer ratio) of the Bayer test was calculated by the following formula.
ここで、Ｄｓｔｄは試験後のＣＲ−３９のヘイズ値から試験前のＣＲ−３９のヘイズ値を引いた値、Ｄｔｅｓｔは試験前のレンズサンプルのヘイズ値から試験前のレンズサンプルのヘイズ値を引いた値を示す。Ｂａｙｅｒ比が高いほど、耐摩耗性に優れる。 Here, D std is the haze value of CR-39 after the test minus the haze value of CR-39 before the test , and D test is the haze value of the lens sample before the test and the haze value of the lens sample before the test. Shows the value minus. The higher the Bayer ratio, the better the wear resistance.
＜防眩性測定＞
防眩性評価
基材上に作成した反射防止膜にルーバーなしの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。
ほとんどギラツキが見られない：優
わずかにギラツキがある：良
目で識別できるサイズのギラツキがある：不可
<Measurement of anti-glare>
Anti-glare evaluation The anti-reflection film prepared on the base material was projected with diffused light from a fluorescent lamp without a louver, and the glare on the surface was evaluated according to the following criteria.
Almost no glare: Excellent Slight glare: Glitter of a size that can be discerned by good eyes: Impossible
形成した反射防止膜等の評価結果を表１に示す。 Table 1 shows the evaluation results of the formed antireflection film and the like.
本発明によれば、優れた反射防止作用および塗膜強度を付与する反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法、ならびにそれを用いた物品を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an antireflection film forming composition, an antireflection film and a method for forming the same, and an article using the same, which imparts an excellent antireflection effect and coating film strength.
１ 基材
２ ハードコート膜
３ 反射防止膜
４ 中空シリカ微細粒子
５ 高屈折率層
６ 結晶性中空シリカ粒子
７ 防眩性反射防止膜
1
Claims (7)
前記中空シリカゾルは、反射防止膜形成組成物１００質量部に対し、固形物の中空シリカ微細粒子として、０．５〜１０質量部であって、前記中空シリカゾルに含まれる中空シリカ微細粒子の一次粒子径は、１０〜１００ｎｍであり、
前記エポキシ基を有するシラン化合物は、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、０．３〜５質量部であって、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよび２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ならびにそれらの組合せよりなる群から選択され、
前記中空シリカゾルと前記エポキシ基を有するシラン化合物との配合比（質量）は、固形分（中空シリカ微細粒子およびエポキシ基を有するシラン化合物）として、２０：８０〜８０：２０であり、
前記多官能アルコキシシラン化合物は、反射防止膜形成用組成物１００質量部に対し、０．３〜５質量部であって、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、および３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ならびにそれらの組合せよりなる群から選択される、
反射防止膜形成用組成物。 A composition for forming an antireflection film, which comprises a hollow silica sol, a silane compound having an epoxy group, and a polyfunctional alkoxysilane compound.
The hollow silica sol, compared antireflective film forming composition 100 parts by weight, as hollow silica fine particles of solids, I 0.5-10 parts by der, primary hollow silica fine particles contained in the hollow silica sol The particle size is 10 to 100 nm,
Silane compound having an epoxy group based on the composition for forming an antireflective film 100 parts by weight, I 0.3-5 parts by der, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl Selected from the group consisting of triethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and combinations thereof. ,
Mixing ratio of the silane compound having a hollow silica sol and the epoxy group (by mass), as solid content (silane compound having a hollow silica fine particles and an epoxy group), 20: 80 to 80: A 20,
The polyfunctional alkoxysilane compound, to a composition for forming an antireflective film 100 parts by weight, I 0.3-5 parts by der, tetramethoxysilane, tetraethoxy Singh, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane , Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Triethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3 -Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidene) propylamine, N-phenyl-3-amino Selected from the group consisting of propyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-isoxapropyltriethoxysilane, and combinations thereof.
Composition for forming an antireflection film.
前記中空シリカ微細粒子は、中空シリカゾル１００質量部に対し、固形物として、１〜７０質量部で存在する、
請求項１に記載の反射防止膜形成用組成物。 The primary particle diameter of the hollow silica fine particles contained in the hollow silica sol is 30 to 80 nm.
The hollow silica fine particles are present in an amount of 1 to 70 parts by mass as a solid substance with respect to 100 parts by mass of the hollow silica sol.
The composition for forming an antireflection film according to claim 1.
ハードコート膜または物品表面の基材上に該反射防止膜形成用組成物を単層または複数層で形成させることを特徴とする該方法。 A method for forming an antireflection film using the antireflection film forming composition according to any one of claims 1 to 3.
The method comprising forming the antireflection film forming composition in a single layer or a plurality of layers on a hard coat film or a substrate on the surface of an article.
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