JP6941464B2 - 基板洗浄装置及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
(3)上記(2)に記載された基板洗浄装置であって、前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置を有し、前記傾き補正装置は、前記昇降装置によって前記ロール洗浄部材が前記基板に接触する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が前記基板の表面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正してもよい。
(4)上記(2)または(3)に記載された基板洗浄装置であって、前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置と、前記ロール洗浄部材をクリーニングするクリーニング装置と、を有し、前記傾き補正装置は、前記昇降装置によって前記ロール洗浄部材が前記クリーニング装置に接触する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が前記クリーニング装置のクリーニング面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正してもよい。
(5)上記(2)〜(4)に記載された基板洗浄装置であって、前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置と、前記ロール洗浄部材をクリーニングするクリーニング装置と、前記ロール洗浄部材を、前記基板の直上に位置する基板洗浄位置と、前記クリーニング装置の直上に位置するクリーニング位置と、の間で水平移動させる水平移動装置と、を有し、前記傾き補正装置は、前記水平移動装置によって前記ロール洗浄部材が前記基板洗浄位置と前記クリーニング位置との間で移動する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が水平面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正してもよい。
(6)上記(2)〜(5)に記載された基板洗浄装置であって、前記ロール洗浄部材を支持するロールホルダと、前記ロールホルダを吊り下げるアームと、を有し、前記傾き補正装置は、前記ロールホルダと前記アームとを連結するチルト機構と、前記ロールホルダと前記アームとの間に架設されて伸縮するシリンダ装置と、を有してもよい。
(7)上記(6)に記載された基板洗浄装置であって、前記傾きセンサーは、前記チルト機構の連結中心を通り、且つ、前記ロール洗浄部材の回転軸と直交する直線上に配置されていてもよい。
(8)上記(1)〜(7)に記載された基板洗浄装置であって、前記傾きセンサーは、加速度センサーであってもよい。
図1に示す基板処理装置1は、シリコンウェハ等の基板Wの表面を平坦に研磨する化学機械研磨(CMP)装置である。この基板処理装置1は、矩形箱状のハウジング2を備える。ハウジング2は、平面視で略長方形に形成されている。
アトマイザ27は、研磨パッド22の研磨面に残留する研磨屑や砥粒などを高圧の流体により洗い流すことで、研磨面の浄化と、機械的接触であるドレッサ26による研磨面の目立て作業、すなわち研磨面の再生を達成する。
搬送ハンド45Aは、リニアガイド機構46によって、第1搬送位置TP1から第4搬送位置TP4の間を移動する。この搬送ハンド45Aは、リフター41から基板Wを受け取り、それを第2リニアトランスポータ43に受け渡すためのパスハンドである。この搬送ハンド45Aには、昇降駆動部が設けられていない。
洗浄ユニット31Aは、例えば、図2に示すようなロール洗浄モジュールを備える。このロール洗浄モジュールは、基板Wを回転させる回転機構80と、基板Wに周面81Aを接触させて回転するロール洗浄部材81と、を備える。回転機構80は、基板Wの外周を保持して鉛直方向に延びる軸回りに回転させる複数の保持ローラ80aを備える。複数の保持ローラ80aは、モータ等の電気駆動部と接続されて水平回転する。また、複数の保持ローラ80aは、エアシリンダ等のエア駆動部によって上下に移動可能な構成となっている。
基板Wをセットする際には、先ず、上部ロール洗浄部材81a及び複数の保持ローラ80aを上昇させる。次に、上昇した複数の保持ローラ80aに基板Wを水平姿勢で保持させ、その後、基板Wの下面W2が下部ロール洗浄部材81bに接触するまで下降させる。最後に、上部ロール洗浄部材81aを下降させ、基板Wの上面W1に接触させる。
図3に示すように、洗浄ユニット31Aは、上部ロール洗浄部材81aを回転軸L1回り回転自在に支持するロールホルダ82と、ロールホルダ82を昇降させる昇降装置70と、ロールホルダ82を水平移動させる水平移動装置71と、を有する。
基板Wの洗浄処理が完了したら、昇降装置70によって上部ロール洗浄部材81aをタッチダウン位置P2から基板洗浄位置P1に上昇させる(上昇動作M2)。なお、この上昇動作M2においては、下降動作M1と比べて、上部ロール洗浄部材81aの傾きによる基板Wの上面W1への圧痕の懸念が少ないため、上部ロール洗浄部材81aの傾き補正を行わなくても良い。
以上のようなタイミングで、上部ロール洗浄部材81aの傾き補正が行われる。
また、基板Wの表面及びクリーニング面90aは、水平面となっていなくてもよい。
Claims (9)
- 基板を洗浄するロール洗浄部材と、
前記ロール洗浄部材を支持するロールホルダと、
前記ロールホルダを吊り下げるアームと、
前記ロールホルダと前記アームとを連結するチルト機構と、
前記ロール洗浄部材の傾きを検出する傾きセンサーと、
前記傾きセンサーの検出結果に基づいて、前記チルト機構を動作させ、前記ロール洗浄部材の傾きを補正する傾き補正装置と、を有する、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を洗浄するロール洗浄部材と、
前記ロール洗浄部材を支持するロールホルダと、
前記ロールホルダを吊り下げるアームと、
前記ロールホルダ乃至前記アームに取り付けられた錘と、
前記ロール洗浄部材の傾きを検出する傾きセンサーと、
前記傾きセンサーの検出結果に基づいて、前記錘をスライドさせ、前記ロール洗浄部材の傾きを補正する傾き補正装置と、を有する、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置を有し、
前記傾き補正装置は、前記昇降装置によって前記ロール洗浄部材が前記基板に接触する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が前記基板の表面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。 - 前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置と、
前記ロール洗浄部材をクリーニングするクリーニング装置と、を有し、
前記傾き補正装置は、前記昇降装置によって前記ロール洗浄部材が前記クリーニング装置に接触する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が前記クリーニング装置のクリーニング面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記ロール洗浄部材を昇降させる昇降装置と、
前記ロール洗浄部材をクリーニングするクリーニング装置と、
前記ロール洗浄部材を、前記基板の直上に位置する基板洗浄位置と、前記クリーニング装置の直上に位置するクリーニング位置と、の間で水平移動させる水平移動装置と、を有し、
前記傾き補正装置は、前記水平移動装置によって前記ロール洗浄部材が前記基板洗浄位置と前記クリーニング位置との間で移動する前に、予め、前記ロール洗浄部材の回転軸が水平面と平行となるように、前記ロール洗浄部材の傾きを補正する、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記傾き補正装置は、前記ロールホルダと前記アームとの間に架設されて伸縮するシリンダ装置を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記傾きセンサーは、前記チルト機構の連結中心を通り、且つ、前記ロール洗浄部材の回転軸と直交する直線上に配置されている、ことを特徴とする請求項1または6に記載の基板洗浄装置。
- 前記傾きセンサーは、加速度センサーである、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 基板を研磨する研磨部と、
前記基板を洗浄する洗浄部と、を有する基板処理装置であって、
前記洗浄部として、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板洗浄装置を有する、ことを特徴とする基板処理装置。
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