JP6936577B2 - 位置ずれ量取得装置、検査装置、位置ずれ量取得方法および検査方法 - Google Patents
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Description
6 参照画像
9 基板
41 位置ずれ量取得装置
42 検査部
48 設計データ
60 分割領域
411 画像分割部
412 適性領域特定部
413 位置ずれ量取得部
414 位置ずれ量算出部
S10〜S18 ステップ
Claims (10)
- 位置ずれ量取得装置であって、
2つの画像のうち一方の画像を分割して分割領域群を取得する画像分割部と、
前記2つの画像間の位置ずれ量を取得するずれ量取得処理に対する各分割領域の適性度を求めることにより、前記分割領域群から前記ずれ量取得処理に適した複数の適性領域を特定する適性領域特定部と、
各適性領域において、前記2つの画像間における前記ずれ量取得処理を行うことにより、前記各適性領域の位置ずれ量を取得する位置ずれ量取得部と、
前記分割領域群のうち前記複数の適性領域に含まれない不適性領域に対して、前記複数の適性領域の位置ずれ量、および、前記不適性領域と前記複数の適性領域との位置関係に基づいて、位置ずれ量を求める位置ずれ量算出部と、
を備え、
前記適性領域特定部が、前記各分割領域が示すパターンにおける特徴点を検出することにより、前記適性度を求め、
前記適性領域特定部は、
前記各分割領域においてパターン領域内に含まれない画素である第1対象画素のうち、45度間隔にて設定される8方向のそれぞれに関して、前記第1対象画素から前記パターン領域のエッジまでの距離が、前記8方向のうちの7方向にて所定距離未満かつ前記8方向のうちの1方向にて前記所定距離以上である、凹部画素と、
前記各分割領域において前記パターン領域内に含まれる第2対象画素のうち、前記パターン領域のエッジまでの距離が、前記8方向のうちの7方向にて所定距離未満かつ前記8方向のうちの1方向にて前記所定距離以上である、凸部画素と、
の一方又は両方を前記特徴点として検出し、前記特徴点を複数、かつ所定数以上含む分割領域を、適性領域と判定することを特徴とする位置ずれ量取得装置。 - 請求項1に記載の位置ずれ量取得装置であって、
前記一方の画像が、設計パターンを示す設計データから導かれる画像であり、前記2つの画像の他方の画像が、前記設計データに基づく実パターンが形成された対象物を撮像することにより取得される画像であることを特徴とする位置ずれ量取得装置。 - 請求項1または2に記載の位置ずれ量取得装置であって、
前記ずれ量取得処理において、前記一方の画像における前記各適性領域を上下左右に移動しつつ、前記各適性領域と前記2つの画像の他方の画像との差を求めることにより、前記各適性領域の前記位置ずれ量が取得されることを特徴とする位置ずれ量取得装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の位置ずれ量取得装置であって、
前記各分割領域の位置をパラメータとする位置ずれ量についての式が予め設定されており、
前記位置ずれ量算出部が、前記複数の適性領域の位置ずれ量、および、前記複数の適性領域の位置に基づいて、前記式の係数を求めることを特徴とする位置ずれ量取得装置。 - 検査装置であって、
請求項1ないし4のいずれか1つに記載の位置ずれ量取得装置と、
前記位置ずれ量取得装置により取得される前記各分割領域の位置ずれ量を用いて、前記2つの画像の位置合わせを行いつつ、前記2つの画像に含まれる被検査画像に対する検査結果を取得する検査部と、
を備えることを特徴とする検査装置。 - 位置ずれ量取得方法であって、
a)2つの画像のうち一方の画像を分割して分割領域群を取得する工程と、
b)前記2つの画像間の位置ずれ量を取得するずれ量取得処理に対する各分割領域の適性度を求めることにより、前記分割領域群から前記ずれ量取得処理に適した複数の適性領域を特定する工程と、
c)各適性領域において、前記2つの画像間における前記ずれ量取得処理を行うことにより、前記各適性領域の位置ずれ量を取得する工程と、
d)前記分割領域群のうち前記複数の適性領域に含まれない不適性領域に対して、前記複数の適性領域の位置ずれ量、および、前記不適性領域と前記複数の適性領域との位置関係に基づいて、位置ずれ量を求める工程と、
を備え、
前記b)工程において、前記各分割領域が示すパターンにおける特徴点を検出することにより、前記適性度が求められ、
前記各分割領域においてパターン領域内に含まれない画素である第1対象画素のうち、45度間隔にて設定される8方向のそれぞれに関して、前記第1対象画素から前記パターン領域のエッジまでの距離が、前記8方向のうちの7方向にて所定距離未満かつ前記8方向のうちの1方向にて前記所定距離以上である、凹部画素と、
前記各分割領域において前記パターン領域内に含まれる第2対象画素のうち、前記パターン領域のエッジまでの距離が、前記8方向のうちの7方向にて所定距離未満かつ前記8方向のうちの1方向にて前記所定距離以上である、凸部画素と、
の一方又は両方が前記特徴点として検出され、前記特徴点を複数、かつ所定数以上含む分割領域が、適性領域と判定されることを特徴とする位置ずれ量取得方法。 - 請求項6に記載の位置ずれ量取得方法であって、
前記一方の画像が、設計パターンを示す設計データから導かれる画像であり、前記2つの画像の他方の画像が、前記設計データに基づく実パターンが形成された対象物を撮像することにより取得される画像であることを特徴とする位置ずれ量取得方法。 - 請求項6または7に記載の位置ずれ量取得方法であって、
前記ずれ量取得処理において、前記一方の画像における前記各適性領域を上下左右に移動しつつ、前記各適性領域と前記2つの画像の他方の画像との差を求めることにより、前記各適性領域の前記位置ずれ量が取得されることを特徴とする位置ずれ量取得方法。 - 請求項6ないし8のいずれか1つに記載の位置ずれ量取得方法であって、
前記各分割領域の位置をパラメータとする位置ずれ量についての式が予め設定されており、
前記d)工程が、前記複数の適性領域の位置ずれ量、および、前記複数の適性領域の位置に基づいて、前記式の係数を求める工程を備えることを特徴とする位置ずれ量取得方法。 - 検査方法であって、
請求項6ないし9のいずれか1つに記載の位置ずれ量取得方法と、
前記位置ずれ量取得方法により取得される前記各分割領域の位置ずれ量を用いて、前記2つの画像の位置合わせを行いつつ、前記2つの画像に含まれる被検査画像に対する検査結果を取得する工程と、
を備えることを特徴とする検査方法。
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