JP6932416B2 - フォトポリマー組成物 - Google Patents

フォトポリマー組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP6932416B2
JP6932416B2 JP2019554535A JP2019554535A JP6932416B2 JP 6932416 B2 JP6932416 B2 JP 6932416B2 JP 2019554535 A JP2019554535 A JP 2019554535A JP 2019554535 A JP2019554535 A JP 2019554535A JP 6932416 B2 JP6932416 B2 JP 6932416B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
recording medium
hologram recording
silane
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019554535A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020515910A (ja
Inventor
ソクフン・ジャン
ヒョンスプ・イ
ホン・キム
セ・ヒョン・クォン
ヨンレ・チャン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Priority claimed from PCT/KR2018/015467 external-priority patent/WO2019112358A1/ko
Publication of JP2020515910A publication Critical patent/JP2020515910A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6932416B2 publication Critical patent/JP6932416B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/245Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/08Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
    • G11B7/083Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers relative to record carriers storing information in the form of optical interference patterns, e.g. holograms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/08Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L75/00Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L75/04Polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/10Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
    • C08L83/12Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/024Hologram nature or properties
    • G03H1/0248Volume holograms
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2403Layers; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24035Recording layers
    • G11B7/24044Recording layers for storing optical interference patterns, e.g. holograms; for storing data in three dimensions, e.g. volume storage
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264Organic recording material
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B2007/240025Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material for storing optical interference patterns, e.g. holograms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

[関連出願との相互引用]
本出願は、2017年12月8日付韓国特許出願第10−2017−0168049号および2018年12月6日付韓国特許出願第10−2018−0156152号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として組み含まれる。
本発明は、フォトポリマー組成物、ホログラム記録媒体、光学素子およびホログラフィック記録方法に関する。
ホログラム(hologram)記録メディアは、露光過程を通じて前記メディア内のホログラフィック記録層内の屈折率を変化させることによって情報を記録し、このように記録されたメディア内の屈折率の変化を読み取って情報を再生する。
フォトポリマー(感光性樹脂、photopolymer)を利用する場合、低分子単量体の光重合により光干渉パターンをホログラムで容易に保存できるため、光学レンズ、鏡、偏向鏡、フィルター、拡散スクリーン、回折部材、導光体、導波管、映写スクリーンおよび/またはマスクの機能を有するホログラフィック光学素子、光メモリシステムの媒質と光拡散板、光波長分割器、反射型、透過型カラーフィルターなど多様な分野に用いることができる。
通常、ホログラム製造用フォトポリマー組成物は、高分子バインダー、単量体および光開始剤を含み、このような組成物から製造された感光性フィルムに対してレーザ干渉光を照射して局部的な単量体の光重合を誘導する。
このような光重合過程で単量体が相対的に多く存在する部分では屈折率が高くなり、高分子バインダーが相対的に多く存在する部分では屈折率が相対的に低くなって屈折率変調ができるようになり、このような屈折率変調により回折格子が生成される。屈折率変調値nは、フォトポリマー層の厚さと回折効率(DE)に影響を受け、角度選択性は厚さが薄いほど広くなる。
最近は高い回折効率と安定的にホログラムを維持できる材料の開発に対する要求と共に、薄い厚さを有しながらも屈折率変調値が大きいフォトポリマー層の製造のための多様な試みが行われている。
本発明の目的は、薄い厚さを有しながらも大きい屈折率変調値を実現し、温度および湿度に対する耐久性が向上したホログラム記録媒体を提供することにある。
また、本発明の目的は、ホログラム記録媒体を含む光学素子を提供することにある。
また、本発明の目的は、可干渉性のレーザにより前記ホログラム記録媒体に含まれている光反応性単量体を選択的に重合させる段階を含む、ホログラフィック記録方法を提供することにある。
本明細書では、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下に現れる、ホログラム記録媒体が提供される。
また、本明細書では、前記ホログラム記録媒体を含む光学素子が提供される。
また、本明細書では、可干渉性のレーザにより前記ホログラム記録媒体に含まれている光反応性単量体を選択的に重合させる段階を含む、ホログラフィック記録方法が提供される。
以下、発明の具体的な実施形態に係るホログラム記録媒体、光学素子、およびホログラフィック記録方法についてより詳細に説明する。
本明細書で、(メタ)アクリレートは、メタクリレートまたはアクリレートを意味する。
本明細書で、(共)重合体は、単独重合体または共重合体(ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体を含む)を意味する。
また、本明細書で、ホログラム(hologram)は、露光過程を通じて全体可視範囲および近紫外線範囲(300〜800nm)で光学的情報が記録された記録メディアを意味し、例えばインライン(ガボール(Gabor))ホログラム、オフアクシス(off−axis)ホログラム、完全穿孔(full−aperture)移転ホログラム、白色光透過ホログラム(“レインボーホログラム”)、デニシューク(Denisyuk)ホログラム、オフアクシス反射ホログラム、エッジリタラチャー(edge−literature)ホログラムまたはホログラフィックステレオグラム(stereogram)などの視覚的ホログラム(visual hologram)のすべてを含む。
本明細書において、アルキル基は、直鎖または分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、1乃至40であることが好ましい。一実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は1乃至20である。また一つの実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は1乃至10である。また一つの実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は1乃至6である。アルキル基の具体的な例としては、メチル、エチル、プロピル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、1−メチル−ブチル、1−エチル−ブチル、ペンチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、4−メチル−2−ペンチル、3,3−ジメチルブチル、2−エチルブチル、ヘプチル、n−ヘプチル、1−メチルヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、オクチル、n−オクチル、tert−オクチル、1−メチルヘプチル、2−エチルヘキシル、2−プロピルペンチル、n−ノニル、2,2−ジメチルヘプチル、1−エチル−プロピル、1,1−ジメチル−プロピル、イソヘキシル、2−メチルペンチル、4−メチルヘキシル、5−メチルヘキシルなどがあるが、これらに限定されない。
本明細書において、アルキレン基は、アルカン(alkane)に由来する2価の官能基であり、例えば、直鎖型、分枝型または環状として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソブチレン基、sec−ブチレン基、tert−ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基などになることができる。
発明の一実施形態によれば、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下に現れる、ホログラム記録媒体が提供され得る。
本発明者らは、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下、または−15℃以下、または−15℃乃至−50℃であるホログラム記録媒体が薄い厚さを有しながらも、大きい屈折率変調値を実現できるという点を実験を通じて確認して発明を完成した。
前述のように、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis、DMA)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下、または−15℃以下、または−15℃乃至−50℃であることから、前記ホログラム記録媒体を構成する成分の流動性(mobility)が常温でも大幅向上して記録特性が向上することができる。また、媒体自体の流動性が大きいほど、モノマーの拡散方向とは反対に低屈折物質の逆拡散(counter−diffusion)が発生して屈折率変調値の極大化が可能である。
通常知られているとおり、前記位相角(Phase angle)はG’’(損失弾性率、loss modulus)/G’(保存弾性率、strorage modulus)で計算されるtan deltaの角度値であり、動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時に導出され得る。
そして、前述のように、前記主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)は、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点であってもよい。このような位相角(Phase angle)は、DMA extension modeでフィルム形態のホログラム記録媒体に一定の周波数(frequency)による変形(strain)を与えながら測定するようになる。持続的な変形が起こる状態でサンプル周囲のチャンバー温度を変更しながら損失弾性率と保存弾性率を測定して温度に応じた位相角変化値を計算することができる。
前記動力学的分析は、通常知られた装置および方法によることもでき、具体的に、前記動力学的分析は、0.1%の応力変形(strain)、1Hzの周波数(frequency)および5℃/minの昇温速度の条件で行われてもよい。
一方、前述した実施形態のホログラム記録媒体は、高分子マトリックスまたはその前駆体;および光反応性単量体;を含むことができる。
前記高分子マトリックスまたはその前駆体は、前記ホログラム記録媒体およびこれから製造された最終製品の支持体の役割を果たすことができ、前記光反応性単量体は、記録単量体としての役割を果たすことができ、これらの使用によりホログラフィック記録時に前記高分子マトリックス上で前記光反応性単量体が選択的に重合されて、屈折率が異なる部分による屈折率変調が現れ得る。
前記−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下を満たす場合、前記高分子マトリックスまたはその前駆体の具体的な例が大きく限定されるのではない。
また、前記高分子マトリックスの屈折率が大きく限定されるのではないが、例えば1.45乃至1.70、または1.455乃至1.60、または1.46乃至1.53であってもよい。
前記高分子マトリックスまたはその前駆体の一例として、シラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート系(共)重合体およびシラン架橋剤を含む高分子マトリックスが挙げられる。
前記シラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート系(共)重合体およびシラン架橋剤を含む高分子マトリックスまたはその前駆体を含むフォトポリマー組成物から形成されるホログラムがより薄い厚さ範囲でも以前に知られたホログラムに比べて大幅向上した屈折率変調値および優れた温度、湿度に対する耐久性を実現することができる。
前記シラン架橋剤とシラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート系(共)重合体を含む高分子マトリックスまたはその前駆体を用いることによって、前記フォトポリマー組成物からコーティングフィルムやホログラムを製造時に架橋密度が最適化されて既存のマトリックスに比べて温度と湿度に対して優れた耐久性を確保することができる。それだけでなく、前述した架橋密度の最適化を通じて、高い屈折率を有する光反応性単量体と低い屈折率を有する成分間の流動性(mobility)を高めることによって屈折率変調を極大化させて記録特性が向上することができる。
特に、シラン系官能基を含む変性(メタ)アクリレート系(共)重合体と末端のシラン系官能基を含むシラン架橋剤間にはゾルゲル反応を通じてシロキサン結合を媒介とする架橋構造を容易に導入することができ、このようなシロキサン結合を通じて温度と湿度に対して優れた耐久性が確保され得る。
前記高分子マトリックス上で前述したシラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート系(共)重合体とシラン架橋剤は、それぞれ別個の成分で存在することもでき、またこれらが互いに反応して形成される複合体の形態で存在することもできる。
前記(メタ)アクリレート系(共)重合体でシラン系官能基が分枝鎖に位置することができる。前記シラン系官能基は、シラン官能基またはアルコキシシラン官能基を含むことができ、好ましくはアルコキシシラン官能基としてトリメトキシシラン基を用いることができる。
前記シラン系官能基は、前記シラン架橋剤に含まれているシラン系官能基とゾルゲル反応を通じてシロキサン結合を形成して前記(メタ)アクリレート系(共)重合体とシラン架橋剤を架橋させることができる。
前記シラン架橋剤は、分子当たり平均1個以上のシラン系官能基を有する化合物またはその混合物であってもよく、前記1以上のシラン系官能基を含む化合物であってもよい。前記シラン系官能基は、シラン官能基またはアルコキシシラン官能基を含むことができ、好ましくはアルコキシシラン官能基としてトリエトキシシラン基を用いることができる。前記シラン系官能基は、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体に含まれているシラン系官能基とゾルゲル反応を通じてシロキサン結合を形成して前記(メタ)アクリレート系(共)重合体とシラン架橋剤を架橋させることができる。
この時、前記シラン架橋剤は、前記シラン系官能基の当量が200g/個乃至1000g/個であってもよい。これによって、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体とシラン架橋剤間の架橋密度が最適化されて、既存のマトリックスに比べて温度と湿度に対して優れた耐久性を確保することができる。それだけでなく、前述した架橋密度の最適化を通じて、高い屈折率を有する光反応性単量体と低い屈折率を有する成分間の流動性(mobility)を高めることによって屈折率変調を極大化させて記録特性を向上させることができる。
前記シラン架橋剤に含まれている前記シラン系官能基の当量が1000g/個以上と過度に増加するようになると、マトリックスの架橋密度低下により記録後の回折格子の境界面が崩れることがあり、緩い架橋密度および低いガラス転移温度により単量体および可塑剤成分が表面に溶出してヘイズを発生させることがある。前記シラン架橋剤に含まれている前記シラン系官能基の当量が200g/個未満と過度に減少するようになると、架橋密度が過度に高くなってモノマーと可塑剤成分の流動性を阻害し、それによって記録特性が顕著に低くなるという問題が発生することがある。
より具体的に、前記シラン架橋剤は、重量平均分子量が100乃至2000、または300乃至1000、または300乃至700である線状のポリエーテル主鎖および前記主鎖の末端または分枝鎖に結合したシラン系官能基を含むことができる。
前記重量平均分子量が100乃至2000である線状のポリエーテル主鎖は、下記の化学式3で表される繰り返し単位を含むことができる。
[化学式3]
−(RO)−R
前記化学式3で、Rは炭素数1乃至10のアルキレン基であり、nは1以上、または1乃至50、または5乃至20、または8乃至10の整数である。
前記シラン架橋剤が柔軟なポリエーテルポリオールを主鎖に導入することによってマトリックスのガラス転移温度および架橋密度調節を通じて成分の流動性を向上させることができる。
一方、前記シラン系官能基とポリエーテル主鎖の結合は、ウレタン結合を媒介とすることができる。具体的に、前記シラン系官能基とポリエーテル主鎖は、ウレタン結合を通じて相互間結合を形成することができ、より具体的には前記シラン系官能基に含まれているケイ素原子がウレタン結合の窒素原子と直接または炭素数1乃至10のアルキレン基を媒介として結合し、前記ポリエーテル主鎖に含まれているR官能基がウレタン結合の酸素原子と直接結合することができる。
このように前記シラン系官能基とポリエーテル主鎖がウレタン結合を媒介として結合することは、前記シラン架橋剤がシラン系官能基を含むイソシアネート化合物と重量平均分子量が100乃至2000である線状のポリエーテルポリオール化合物間の反応を通じて製造された反応生成物であるためである。
より具体的に、前記イソシアネート化合物は、脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族のモノ−イソシアネート、ジ−イソシアネート、トリ−イソシアネートまたはポリ−イソシアネート;またはウレタン、尿素、カルボジイミド、アシル尿素、イソシアヌレート、アロファネート、ビューレット、オキサジアジントリオン、ウレトジオンまたはイミノオキサジアジンジオン構造を有するジ−イソシアネートまたはトリイソシアネートのオリゴ−イソシアネートまたはポリ−イソシアネート;を含むことができる。
前記シラン系官能基を含むイソシアネート化合物の具体的な例としては、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
また、前記ポリエーテルポリオールは、例えば、スチレンオキシド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、ブチレンオキシド、エピクロロヒドリンの多重添加生成物とこれらの混合添加生成物およびグラフト生成物、そして多価アルコールまたはこれらの混合物の縮合により得られるポリエーテルポリオールおよび多価アルコール、アミンおよびアミノアルコールのアルコキシ化により得られるものである。
前記ポリエーテルポリオールの具体的な例としては、1.5乃至6のOH官能度および200乃至18000g/モル間の数平均分子量、好ましくは1.8乃至4.0のOH官能度および600乃至8000g/モルの数平均分子量、特に好ましくは1.9乃至3.1のOH官能度および650乃至4500g/モルの数平均分子量を有する、ランダムまたはブロック共重合体形態のポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)およびこれらの組み合わせ、またはポリ(テトラヒドロフラン)およびこれらの混合物である。
このように、前記シラン系官能基とポリエーテル主鎖がウレタン結合を媒介として結合する場合、より容易にシラン架橋剤を合成することができる。
前記シラン架橋剤の重量平均分子量(GPC測定)は、1000乃至5,000,000であってもよい。重量平均分子量はGPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(単位:g/mol)を意味する。前記GPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を測定する過程では、通常知られた分析装置と示差屈折検出器(Refractive Index Detector)などの検出器および分析用カラムを用いることができ、通常適用される温度条件、溶媒、流速(flow rate)を適用することができる。前記測定条件の具体的な例として、30℃の温度、クロロホルム溶媒(Chloroform)および1mL/minの流速(flow rate)が挙げられる。
一方、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体は、シラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート繰り返し単位および(メタ)アクリレート繰り返し単位を含むことができる。
シラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート繰り返し単位の例としては。下記の化学式1で表される繰り返し単位が挙げられる。
Figure 0006932416
前記化学式1で、R乃至Rは、それぞれ独立して、炭素数1乃至10のアルキル基であり、Rは水素または炭素数1乃至10のアルキル基であり、Rは炭素数1乃至10のアルキレン基である。
好ましくは前記化学式1で、R乃至Rは、それぞれ独立して、炭素数1のメチル基であり、Rは炭素数1のメチル基であり、Rは炭素数3のプロピレン基である、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503)由来繰り返し単位またはR乃至Rは、それぞれ独立して、炭素数1のメチル基であり、Rは水素であり、Rは炭素数3のプロピレン基である、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103)由来繰り返し単位であってもよい。
また、前記(メタ)アクリレート繰り返し単位の例としては、下記の化学式2で表される繰り返し単位が挙げられる。
Figure 0006932416
前記化学式2で、Rは炭素数1乃至20のアルキル基であり、Rは水素または炭素数1乃至10のアルキル基であり、好ましくは前記化学式2で、Rは炭素数4のブチル基であり、Rは水素である、ブチルアクリレート由来繰り返し単位であってもよい。
前記化学式2の繰り返し単位:前記化学式1の繰り返し単位間のモル比率は0.5:1乃至14:1であってもよい。前記化学式1の繰り返し単位のモル比率が過度に減少するようになると、マトリックスの架橋密度が過度に低くなって支持体としての役割を果たすことができず、記録後の記録特性の減少が発生することがあり、前記化学式1の繰り返し単位のモル比率が過度に増加するようになると、マトリックスの架橋密度が過度に高くなって各成分の流動性が劣ることによって屈折率変調値の減少が発生することがある。
前記(メタ)アクリレート系(共)重合体の重量平均分子量(GPC測定)は、100,000乃至5,000,000、または300,000乃至900,000であってもよい。重量平均分子量はGPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(単位:g/mol)を意味する。前記GPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を測定する過程では、通常知られた分析装置と示差屈折検出器(Refractive Index Detector)などの検出器および分析用カラムを用いることができ、通常適用される温度条件、溶媒、流速(flow rate)を適用することができる。前記測定条件の具体的な例として、30℃の温度、クロロホルム溶媒(Chloroform)および1mL/minの流速(flow rate)が挙げられる。
一方、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体は、前記シラン系官能基の当量が300g/個乃至2000g/個、または500g/個乃至2000g/個、または550g/個乃至1800g/個、または580g/個乃至1600g/個、または586g/個乃至1562g/個であってもよい。前記当量はシラン官能基間の分子量の平均値を意味し、前記当量値が小さいほど官能基の密度が高く、前記当量値が大きいほど官能基密度が小さくなる。
これによって、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体とシラン架橋剤間の架橋密度が最適化されて、既存のマトリックスに比べて温度と湿度に対して優れた耐久性を確保することができる。それだけでなく、前述した架橋密度の最適化を通じて、高い屈折率を有する光反応性単量体と低い屈折率を有する成分間の流動性(mobility)を高めることによって、屈折率変調を極大化させて記録特性を向上させることができる。
前記(メタ)アクリレート系(共)重合体に含まれている前記シラン系官能基の当量が300g/個未満と過度に減少するようになると、マトリックスの架橋密度が過度に高くなって成分の流動性を阻害し、それによって記録特性の減少が発生することがある。また、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体に含まれている前記シラン系官能基の当量が2000g/個超過と過度に増加するようになると、架橋密度が過度に低くて支持体としての役割を果たすことができず、記録後に生成された回折格子の境界面が崩れて屈折率変調値が時間が経過しながら減少することがある。
一方、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体100重量部に対して、前記シラン架橋剤含有量が10重量部乃至90重量部、または20重量部乃至70重量部、または22重量部乃至65重量部であってもよい。
前記反応生成物で、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体100重量部に対して、前記シラン架橋剤含有量が過度に減少するようになると、マトリックスの硬化速度が顕著に遅くなって支持体としての機能を失い、記録後の回折格子の境界面が簡単に崩れることがあり、前記反応生成物で、前記(メタ)アクリレート系(共)重合体100重量部に対して、前記シラン架橋剤含有量が過度に増加するようになると、マトリックスの硬化速度は速くなるが、反応性シラン基含有量の過度な増加により他の成分との相溶性の問題が発生してヘイズが発生するようになる。
また、前記反応生成物のモジュラス(貯蔵弾性率)が0.01MPa乃至5MPaであってもよい。前記モジュラス測定方法の具体的な例として、TA InstrumentsのDHR(discovery hybrid rheometer)装備を利用して常温(20℃乃至25℃)で1Hzの周波数(frequency)で貯蔵弾性率(storage modulus)(G’)値を測定することができる。
また、前記反応生成物のガラス転移温度が−40℃乃至10℃であってもよい。前記ガラス転移温度測定方法の具体的な例として、DMA(dynamic mechanical analysis)測定装備を利用して応力変形(strain)0.1%、周波数(frequency)1Hz、昇温速度5℃/minのセッティング条件で−80℃〜30℃領域で光重合組成物がコーティングされたフィルムの位相角(Phase angle)(Loss modulus)変化を測定する方法が挙げられる。
前記高分子マトリックスまたはその前駆体の他の一例として、1以上のイソシアネート基を含む化合物とポリオール間の反応生成物を含む高分子マトリックスが挙げられる。
前記1以上のイソシアネート基を含む化合物は、分子当たり平均1個以上のNCO官能基を有する公知の化合物またはその混合物であってもよく、前記1以上のイソシアネート基を含む化合物であってもよい。
より具体的に前記1以上のイソシアネート基を含む化合物は、脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂肪族のモノ−、ジ−、トリ−またはポリ−イソシアネートである。また、前記1以上のイソシアネート基を含む化合物は、ウレタン、尿素、カルボジイミド、アシル尿素、イソシアヌレート、アロファネート、ビューレット、オキサジアジントリオン、ウレトジオンまたはイミノオキサジアジンジオン構造を有する単量体型ジ−および/またはトリイソシアネートの比較的に分子量が大きい2次産物(オリゴ−およびポリイソシアネート)であってもよい。
前記1以上のイソシアネート基を含む化合物の具体的な例としては、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、1,8−ジイソシアネート−4−(イソシアネートメチル)オクタン、2,2,4−および/または2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、異性体ビス(4,4’−イソシアネートシクロヘキシル)メタンおよび任意の要望される異性体含有量を有するその混合物、イソシアネートメチル−1,8−オクタンジイソシアネート、1,4−シクロへキシレンジイソシアネート、異性体シクロヘキサンジメチレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−および/または2,6−トルエンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、2,4’−または4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートおよび/またはトリフェニルメタン4,4’,4”−トリイソシアネートなどが挙げられる。
前記1以上のイソシアネート基を含む化合物と反応して高分子マトリックスを形成するポリオールは、2乃至20炭素数を有する脂肪族、芳香脂肪族または脂環式ジオール、トリオールおよび/または高級ポリオールであってもよい。
前記ポリオールは、300g/mol乃至10,000g/molの水酸基当量と100,000乃至1,500,0000g/molの重量平均分子量を有することができる。
前記ジオールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−2−ブチルプロパンジオール、トリメチルペンタンジオール、ジエチルオクタンジオール位置異性体、1,3−ブチレングリコール、シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−および1,4−シクロヘキサンジオール、水素化ビスフェノールA(2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン)、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネートがある。
また、前記トリオールの例としては、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンまたはグリセロールがある。適した高度−官能性アルコールは、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールまたはソルビトールである。
また、前記ポリオールとしては、比較的大きい分子量の脂肪族および脂環式ポリオール、例えばポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ヒドロキシ−官能性アクリル樹脂、ヒドロキシ−官能性ポリウレタン、ヒドロキシ−官能性エポキシ樹脂などを用いることができる。
前記ポリエステルポリオールは、例えばエタンジオール、ジ−、トリ−またはテトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ジ−、トリ−またはテトラプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオールまたはこれらの混合物のような多価アルコールを用い、任意にトリメチロールプロパンまたはグリセロールのようにより高い官能性のポリオールを同時に用い、例えばコハク酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、o−フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸またはトリメリット酸、および酸無水物、例えばo−フタル酸無水物、トリメリット酸無水物またはコハク酸無水物、またはこれらの混合物のような脂肪族、脂環式または芳香族のジ−またはポリカルボン酸またはその無水物から公知の方式で製造され得るような、線状ポリエステルジオールである。もちろん、脂環式および/または芳香族のジ−およびポリヒドロキシ化合物もまたポリエステルポリオールの製造のための多価アルコールとして適する。遊離ポリカルボン酸の代わりに、低級アルコールの相応するポリカルボン酸無水物または相応するポリカルボキシレート、またはこれらの混合物をポリエステルの製造に用いることも可能である。
また、前記高分子マトリックスの合成に用いることができるポリエステルポリオールとしては、ラクトンの単一−または共重合体があり、これは好ましくはブチロラクトン、ε−カプロラクトンおよび/またはメチル−ε−カプロラクトンのようなラクトンまたはラクトン混合物の、例えばポリエステルポリオール用合成成分として前記で言及された小さい分子量の多価アルコールのような適した2官能性および/またはより高い官能性の開始剤分子との添加反応により得られる。
また、ヒドロキシル基を有するポリカーボネートもまた予備重合体合成のためのポリヒドロキシ成分として適しているが、例えばジオール、例えば1,4−ブタンジオールおよび/または1,6−ヘキサンジオールおよび/または3−メチルペンタンジオールの、ジアリールカーボネート、例えばジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネートまたはホスゲンとの反応によって製造され得るものである。
また、前記高分子マトリックスの合成に用いることができるポリエーテルポリオールは、例えばスチレンオキシド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、ブチレンオキシド、エピクロロヒドリンの多重添加生成物とこれらの混合添加生成物およびグラフト生成物、そして多価アルコールまたはこれらの混合物の縮合により得られるポリエーテルポリオールおよび多価アルコール、アミンおよびアミノアルコールのアルコキシ化により得られるものである。前記ポリエーテルポリオールの具体的な例としては、1.5乃至6のOH官能度および200乃至18000g/モル間の数平均分子量、好ましくは1.8乃至4.0のOH官能度および600乃至8000g/モルの数平均分子量、特に好ましくは1.9乃至3.1のOH官能度および650乃至4500g/モルの数平均分子量を有する、ランダムまたはブロック共重合体形態のポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド)およびこれらの組み合わせ、またはポリ(テトラヒドロフラン)およびこれらの混合物である。
一方、前記光反応性単量体は、多官能(メタ)アクリレート単量体または単官能(メタ)アクリレート単量体を含むことができる。
前述のように、前記フォトポリマー組成物の光重合過程で単量体が重合されてポリマーが相対的に多く存在する部分では屈折率が高くなり、高分子バインダーが相対的に多く存在する部分では屈折率が相対的に低くなって屈折率変調ができるようになり、このような屈折率変調により回折格子が生成される。
具体的に、前記光反応性単量体の一例としては、(メタ)アクリレート系α、β−不飽和カルボン酸誘導体、例えば(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリルまたは(メタ)アクリル酸などや、またはビニル基(vinyl)またはチオール基(thiol)を含む化合物が挙げられる。
前記光反応性単量体の一例として屈折率が1.5以上、または1.53以上、または1.5乃至1.7である多官能(メタ)アクリレート単量体が挙げられ、このような屈折率が1.5以上、または1.53以上、または1.5乃至1.7である多官能(メタ)アクリレート単量体は、ハロゲン(Halogen)原子(臭素、ヨウ素など)、硫黄(S)、リン(P)、または芳香族環(aromatic ring)を含むことができる。
前記屈折率が1.5以上である多官能(メタ)アクリレート単量体のより具体的な例としては、ビスフェノールA変性ジアクリレート系、フルオレンアクリレート系(HR6022など−Miwon社)、ビスフェノールフルオレンエポキシアクリレート系(HR6100、HR6060、HR6042など−Miwon社)、ハロゲン化エポキシアクリレート系(HR1139、HR3362など−Miwon社)などが挙げられる。
前記光反応性単量体の他の一例として単官能(メタ)アクリレート単量体が挙げられる。前記単官能(メタ)アクリレート単量体は、分子内部にエーテル結合およびフルオレン官能基を含むことができ、このような単官能(メタ)アクリレート単量体の具体的な例としては、フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールエチレンオキシド(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−(フェニルチオ)エチル(メタ)アクリレート、またはビフェニルメチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
一方、前記光反応性単量体としては、50g/mol乃至1000g/mol、または200g/mol乃至600g/molの重量平均分子量を有することができる。前記重量平均分子量はGPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を意味する。
一方、前記実施形態のホログラム記録媒体は、光開始剤をさらに含むことができる。前記光開始剤は、光または化学放射線により活性化される化合物であり、前記光反応性単量体など光反応性官能基を含有する化合物の重合を開始する。
前記光開始剤としては、通常知られた光開始剤を大きい制限なしに用いることができるが、その具体的な例としては光ラジカル重合開始剤、光陽イオン重合開始剤、または光陰イオン重合開始剤が挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤の具体的な例としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン、アルミネート着物、有機過酸化物、N−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体、アミン誘導体などが挙げられる。より具体的に、前記光ラジカル重合開始剤としては、1,3−ジ(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’’−テトラキス(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3−フェニル−5−イソオキサゾロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(製品名:Irgacure 651/製造会社:BASF)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(製品名:Irgacure 184/製造会社:BASF)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1(製品名:Irgacure 369/製造会社:BASF)、およびビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタン(製品名:Irgacure 784製造会社:BASF)、Ebecryl P−115(製造会社:SK entis)などが挙げられる。
前記光陽イオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩(diazonium salt)、スルホニウム塩(sulfonium salt)、またはヨードニウム塩(iodonium salt)が挙げられ、例えばスルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−4−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−p−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)などが挙げられる。また、ベンゾイントシレート、2,5−ジニトロベンジルトシレート、N−トシルフタル酸イミドなども挙げられる。前記光陽イオン重合開始剤のより具体的な例としては、Cyracure UVI−6970、Cyracure UVI−6974およびCyracure UVI−6990(製造会社:Dow Chemical Co.in USA)やIrgacure 264およびIrgacure 250(製造会社:BASF)またはCIT−1682(製造会社:Nippon Soda)などの市販製品が挙げられる。
前記光陰イオン重合開始剤としては、ボレート塩(Borate salt)が挙げられ、例えばブチリルクロリンブチルトリフェニルボレート(BUTYRYL CHOLINE BUTYLTRIPHENYLBORATE)などが挙げられる。前記光陰イオン重合開始剤のより具体的な例としては、Borate V(製造会社:Spectra group)などの市販製品が挙げられる。
また、前記実施形態のフォトポリマー組成物は、一分子(類型I)または二分子(類型II)開始剤を用いることもできる。前記自由ラジカル光重合のための(類型I)システムは、例えば第三級アミンと組み合わせられた芳香族ケトン化合物、例えばベンゾフェノン、アルキルベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーの(Michler’s)ケトン)、アントロンおよびハロゲン化ベンゾフェノンまたは前記類型の混合物である。前記二分子(類型II)開始剤としては、ベンゾインおよびその誘導体、ベンジルケタール、アシルホスファインオキシド、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスファインオキシド、ビスアシルホスファインオキシド、フェニルグリオキシルエステル、カンファーキノン、アルファ−アミノアルキルフェノン、アルファ−、アルファ−ジアルコキシアセトフェノン、1−[4−(フェニルチオ)フェニル]オクタン−1,2−ジオン2−(O−ベンゾイルオキシム)およびアルファ−ヒドロキシアルキルフェノンなどが挙げられる。
前記実施形態のホログラム記録媒体は、前記高分子マトリックスまたはその前駆体1重量%乃至80重量%;前記光反応性単量体1重量%乃至80重量%;および光開始剤0.1重量%乃至20重量%;を含むことができる。後述するように、前記フォトポリマー組成物が有機溶媒をさらに含む場合、前述した成分の含有量はこれら成分の総合(有機溶媒を除いた成分の総合)を基準にする。
一方、前記ホログラム記録媒体は、ホスフェート系化合物および低屈折率フッ素系化合物からなる群より選択された1種以上をさらに含むことができる。
前記ホスフェート系化合物および低屈折率フッ素系化合物は、光反応性単量体に比べて低い屈折率を有しており、高分子マトリックスの屈折率を低めてフォトポリマー組成物の屈折率変調を極大化させることができる。しかも、前記ホスフェート系化合物は、可塑剤の役割を果たして、前記高分子マトリックスのガラス転移温度を低めて光反応性単量体と低屈折成分の流動性(mobility)を高め、フォトポリマー組成物の成形性向上にも寄与することができる。
より具体的に、前記低屈折率フッ素系化合物は、反応性が殆どない安定性を有し、低屈折特性を有するため、前記フォトポリマー組成物内に添加時に高分子マトリックスの屈折率をより低めることができるため、モノマーとの屈折率変調を極大化させることができる。
前記フッ素系化合物は、エーテル基、エステル基およびアミド基からなる群より選択された1種以上の官能基および2以上のジフルオロメチレン基を含むことができる。より具体的に、前記フッ素系化合物は、2個のジフルオロメチレン基間の直接結合またはエーテル結合を含む中心官能基の両末端にエーテル基を含む官能基が結合した下記の化学式4の構造を有することができる。
Figure 0006932416
前記化学式4で、R11およびR12は、それぞれ独立して、ジフルオロメチレン基であり、R13およびR16は、それぞれ独立して、メチレン基であり、R14およびR15は、それぞれ独立して、ジフルオロメチレン基であり、R17およびR18は、それぞれ独立して、ポリアルキレンオキシド基であり、mは1以上、または1乃至10、または1乃至3の整数である。
好ましくは前記化学式4で、R11およびR12は、それぞれ独立して、ジフルオロメチレン基であり、R13およびR16は、それぞれ独立して、メチレン基であり、R14およびR15は、それぞれ独立して、ジフルオロメチレン基であり、R17およびR18は、それぞれ独立して、2−メトキシエトキシメトキシ基であり、mは2の整数である。
前記フッ素系化合物は、屈折率が1.45未満、または1.3以上1.45未満であってもよい。前述のように光反応性単量体が1.5以上の屈折率を有するため、前記フッ素系化合物は光反応性単量体より低い屈折率を通じて、高分子マトリックスの屈折率をより低めることができるため、モノマーとの屈折率変調を極大化させることができる。
具体的に、前記フッ素系化合物含有量は、光反応性単量体100重量部に対して、30重量部乃至150重量部、または50重量部乃至110重量部であってもよい。
前記フッ素系化合物含有量は、光反応性単量体100重量部に対して過度に減少するようになると、低屈折成分の不足により記録後の屈折率変調値が低くなり、前記フッ素系化合物含有量が光反応性単量体100重量部に対して過度に増加するようになると、その他成分との相溶性の問題でヘイズが発生したり一部のフッ素系化合物がコーティング層の表面で溶出するという問題が発生することがある。
前記フッ素系化合物は、重量平均分子量(GPC測定)が300以上、または300乃至1000であってもよい。重量平均分子量測定の具体的な方法は前述したとおりである。
一方、前記ホスフェート系化合物の具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレシルホスフェート、クレシルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェートなどが挙げられる。
前記ホスフェート系化合物は、前述したフッ素系化合物と共に1:5乃至5:1の重量比率に添加されてもよい。前記ホスフェート系化合物は、屈折率が1.5未満であり、分子量が700以下であってもよい。
一方、前記ホログラム記録媒体は、光感応染料をさらに含むことができる。前記光感応染料は、前記光開始剤を増感させる増感色素の役割を果たすが、より具体的に前記光感応染料は、光重合体組成物に照射された光により刺激されてモノマーおよび架橋モノマーの重合を開始する開始剤の役割も共に果たすことができる。前記フォトポリマー組成物は、光感応染料0.01重量%乃至30重量%、または0.05重量%乃至20重量%含むことができる。
前記光感応染料の例が大きく限定されるのではなく、通常知られた多様な化合物を用いることができる。前記光感応染料の具体的な例としては、セラミドニンのスルホニウム誘導体(sulfonium derivative)、ニューメチレンブルー(new methylene blue)、チオエリスロシントリエチルアンモニウム(thioerythrosine triethylammonium)、6−アセチルアミノ−2−メチルセラミドニン(6−acetylamino−2−methylceramidonin)、エオシン(eosin)、エリスロシン(erythrosine)、ローズベンガル(rose bengal)、チオニン(thionine)、ベーシックイエロー(baseic yellow)、ピナシアノールクロリド(Pinacyanol chloride)、ローダミン6G(rhodamine 6G)、ガロシアニン(gallocyanine)、エチルバイオレット(ethyl violet)、ビクトリアブルーR(Victoria blue R)、セレスチンブルー(Celestine blue)、キナルジンレッド(Quinaldine Red)、クリスタルバイオレット(crystal violet)、ブリリアントグリーン(Brilliant Green)、アストラゾンオレンジ G(Astrazon orange G)、ダルレッド(darrow red)、ピロニンY(pyronin Y)、ベーシックレッド29(basic red 29)、ピリリウムI(pyrylium iodide)、サフラニンO(Safranin O)、シアニン、メチレンブルー、アズールA(Azure A)、またはこれらの2以上の組み合わせが挙げられる。
一方、前記ホログラム記録媒体の製造時には有機溶媒が用いられてもよい。前記有機溶媒の非制限的な例を挙げると、ケトン類、アルコール類、アセテート類およびエーテル類、またはこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
このような有機溶媒の具体的な例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンまたはイソブチルケトンなどのケトン類;メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、またはt−ブタノールなどのアルコール類;エチルアセテート、i−プロピルアセテート、またはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類;テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類;またはこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
前記有機溶媒は、前記ホログラム記録媒体を製造するためのフォトポリマー組成物に含まれる各成分を混合する時に添加されたり、各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されながら前記フォトポリマー組成物に含まれてもよい。前記フォトポリマー組成物中の有機溶媒の含有量が過度に小さい場合、前記フォトポリマー組成物の流れ性が低下して最終製造されるフィルムに縞柄ができるなど不良が発生することがある。また、前記有機溶媒の過剰添加時に固形分含有量が低くなり、コーティングおよび成膜が十分になさらず、フィルムの物性や表面特性が低下することがあり、乾燥および硬化過程で不良が発生することがある。これによって、前記フォトポリマー組成物は、含まれる成分の全体固形分の濃度が1重量%乃至70重量%、または2重量%乃至50重量%になるように有機溶媒を含むことができる。
前記フォトポリマー組成物は、その他添加剤、触媒などをさらに含むことができる。例えば、前記フォトポリマー組成物は、前記高分子マトリックスや光反応性単量体の重合を促進するために通常知られた触媒を含むことができる。前記触媒の例としては、スズオクタノエート、亜鉛オクタノエート、ジブチルスズジラウレート、ジメチルビス[(1−ヨウ素ネオデシル)オキシ]スタナン、ジメチルスズジカルボキシレート、ジルコニウムビス(エチルヘキサノエート)、ジルコニウムアセチルアセトネート、p−トルエンスルホン酸(p−toluenesulfonic acid)または第三級アミン、例えば1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−1−メチル−2H−ピリミド(1,2−a)ピリミジンなどが挙げられる。
前記その他添加剤の例としては消泡剤が挙げられ、前記消泡剤としてはシリコーン系反応性添加剤を用いることができ、その例としてTego Rad 2500が挙げられる。
一方、前記ホログラム記録媒体は、5μm乃至30μmの厚さでも0.020以上または0.021以上、または0.020乃至0.035の屈折率変調値(n)を実現することができる。
また、前記ホログラム記録媒体は、5μm乃至30μmの厚さで50%以上、または85%以上、または85乃至99%の回折効率を実現することができる。
前記ホログラム記録媒体を製造するためのフォトポリマー組成物は、これに含まれるそれぞれの成分を均一に混合し、20℃以上の温度で乾燥および硬化を行った後、所定の露光過程を経て全体可視範囲および近紫外線領域(300乃至800nm)での光学的適用のためのホログラムとして製造され得る。
前記フォトポリマー組成物中の高分子マトリックスまたはその前駆体を形成する成分をまず均質に混合し、前述したシラン架橋剤を後ほど触媒と共に混合してホログラムの形成過程を準備することができる。
前記フォトポリマー組成物は、これに含まれるそれぞれの成分の混合には通常知られた混合器、攪拌機またはミキサーなどを特別な制限なしに用いることができ、前記混合過程での温度は0℃乃至100℃、好ましくは10℃乃至80℃、特に好ましくは20℃乃至60℃であってもよい。
一方、前記フォトポリマー組成物中の高分子マトリックスまたはその前駆体を形成する成分をまず均質に混合した後、20℃以上の温度で硬化される液体配合物になることができる。前記硬化の温度は前記フォトポリマーの組成により変わることがあり、例えば30℃乃至180℃の温度で加熱することによって促進される。
前記硬化時には前記フォトポリマーが所定の基板やモールドに注入されたりコーティングされた状態であってもよい。
一方、前記フォトポリマー組成物から製造されたホログラム記録媒体に視覚的ホログラムの記録する方法は、通常知られた方法を大きい制限なしに用いることができ、後述する実施形態のホログラフィック記録方法で説明する方法を一つの例として採用することができる。
一方、発明のまた他の実施形態によれば、可干渉性のレーザにより前記フォトポリマー組成物に含まれている光反応性単量体を選択的に重合させる段階を含む、ホログラフィック記録方法が提供され得る。
前述のように、前記フォトポリマー組成物を混合および硬化する過程を通じて視覚的ホログラムが記録されていない状態の媒体を製造することができ、所定の露出過程を通じて前記媒体上に視覚的ホログラムを記録することができる。
前記フォトポリマー組成物を混合および硬化する過程を通じて提供される媒体に、通常知られた条件下で公知の装置および方法を利用して視覚的ホログラムを記録することができる。
一方、発明のまた他の実施形態によれば、ホログラム記録媒体を含む光学素子が提供され得る。
前記光学素子の具体的な例としては、光学レンズ、鏡、偏向鏡、フィルター、拡散スクリーン、回折部材、塗光体、導波管、映写スクリーンおよび/またはマスクの機能を有するホログラフィック光学素子、光メモリシステムの媒質と光拡散板、光波長分割器、反射型、透過型カラーフィルターなどが挙げられる。
前記ホログラム記録媒体を含む光学素子の一例としてホログラムディスプレイ装置が挙げられる。
前記ホログラムディスプレイ装置は、光源部、入力部、光学系および表示部を含む。前記光源部は、入力部および表示部で物体の3次元映像情報を提供、記録および再生することに使用されるレーザビームを照射する部分である。また、前記入力部は、表示部に記録する物体の3次元映像情報を予め入力する部分であり、例えば、電気駆動液晶SLM(electrically addressed liquid crystal SLM)に空間別光の強さと位相のような物体の3次元情報を入力することができ、この時、入力ビームを用いることができる。前記光学系はミラー、偏光器、ビームスプリッタ、ビームシャッター、レンズなどから構成されてもよく、前記光学系は、光源部で放出されるレーザビームを入力部に送る入力ビーム、表示部に送る記録ビーム、基準ビーム、消去ビーム、読み出しビームなどで分配することができる。
前記表示部は、入力部から物体の3次元映像情報を伝達されて光学駆動SLM(opticallya ddressed SLM)からなるホログラムプレートに記録し、物体の3次元映像を再生することができる。この時、入力ビームと基準ビームの干渉を通じて物体の3次元映像情報を記録することができる。前記ホログラムプレートに記録された物体の3次元映像情報は、読み出しビームが生成する回折パターンにより3次元映像として再生され、消去ビームは形成された回折パターンを迅速に除去するために用いることができる。一方、前記ホログラムプレートは3次元映像を入力する位置と再生する位置の間で移動され得る。
本発明によれば、薄い厚さを有しながらも大きい屈折率変調値を実現し、温度および湿度に対する耐久性が向上したホログラム記録媒体、これを含む光学素子、および前記ホログラム記録媒体を利用したホログラフィック記録方法が提供され得る。
発明を下記の実施例でより詳細に説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例により限定されるのではない。
[製造例]
製造例1:ポリオールの合成
2Lのジャケット反応器にメチルアクリレート34.5g、ブチルアクリレート57.5g、4−ヒドロキシブチルアクリレート8gを入れ、エチルアセテート150gで希釈した。前記ジャケット反応器の温度を60乃至70℃に維持しながら約1時間程度攪拌を進行した。そして、前記反応器にn−ドデシルメルカプタン0.035gを追加的に入れ、30分程度追加攪拌を進行した。以降、重合開始剤AIBN(2,2’−アゾ−ビスイソブチロニトリル)0.04gを添加し、約70℃内外の温度で約4時間程度重合しながら、残留するアクリレート類単量体の含有量1重量%になる時まで維持して、ポリオールを合成した。この時、得られたポリオールはGPC法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が約70万であり、KOH適正法を利用して測定したOH当量が1802g/OHmolであった。
製造例2:非反応性低屈折物質2の製造
1000mlフラスコに2,2’−((オキシビス(1,1,2,2−テトラフルオロエタン−2,1−ジイル))ビス(オキシ))ビス(2,2−ジフルオロエタン−1−オール)20.51gを入れた後、テトラヒドロフラン500gに溶かして0℃で攪拌しながら水素化ナトリウム(鉱油中の60%分散体)4.40gを数回にかけて 慎重に添加した。0℃で20分攪拌した後、2−メトキシエトキシメチルクロリド 12.50mlを徐々に滴下した。H NMRで反応物が全て消耗されたことが確認されると、減圧して反応溶媒を全て除去した。ジクロロメタン300gで3回抽出して有機層を集めた後、硫酸マグネシウムでフィルターした後、減圧してジクロロメタンを全て除去して純度95%以上の液状生成物29gを98%の収率で得た。
製造例3:シラン系官能基が分枝鎖に位置した(メタ)アクリレート系(共)重合体の製造
2Lジャケット反応器にブチルアクリレート69.3g、KBM−503(3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン)20.7gを入れ、エチルアセテート700gで希釈した。約70℃に反応温度をセッティングし、約1時間程度攪拌を進行した。n−ドデシルメルカプタン0.02gを追加的に入れ、30分程度さらに攪拌を進行した。以降、重合開始剤であるAIBN0.06gを入れ、反応温度で4時間以上重合を進行して残留アクリレート含有量が1%未満になる時まで維持して、シラン系官能基が分枝鎖に位置した(メタ)アクリレート系(共)重合体(重量平均分子量約900,000、Si−(OR)当量1019g/個)を製造した。
製造例4:シラン架橋剤の製造
1000mlフラスコにKBE−9007(3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン)19.79g、PEG−400 12.80gとDBTDL 0.57gを入れ、テトラヒドロフラン300gで希釈した。TLCで反応物が全て消耗されたことが確認される時まで常温で攪拌した後、減圧して反応溶媒を全て除去した。
ジクロロメタン:メチルアルコール=30:1の展開液条件下でカラムクロマトグラフィーを通じて純度95%以上の液状生成物28gを91%の収率に分離してシラン架橋剤を得た。
[実施例および比較例:フォトポリマー組成物の製造]
実施例1および2と比較例1
前記製造例1のポリオール、光反応性単量体(高屈折アクリレート、屈折率1.600、HR6022[Miwon])、safranin O(染料、シグマアルドリッチ社製品)、製造例2の非反応性低屈折物質、トリブチルホスフェート(Tributyl phosphate[TBP]、分子量266.31、屈折率1.424、シグマアルドリッチ社製品)、Ebecryl P−115(SK entis)、Borate V(Spectra group)、Irgacure 250(BASF)およびメチルイソブチルケトン(MIBK)を光を遮断した状態で混合し、ペースト(Paste)ミキサーで約10分間攪拌して透明なコーティング液を得た。
前記コーティング液にMFA−75X(Asahi Kasei、6官能イソシアネート、キシレンに75重量%で稀釈)を添加して5〜10分間さらに攪拌し、触媒であるDBTDL(dibutyltin dilaurate)を入れ、約1分間攪拌した後、マイヤーバー(meyer bar)を利用して、80μm厚さのTAC基材に7μmにコーティングして、40℃で1時間硬化した。
実施例3および4
下記表1に記載されたとおり、前記製造例3のシラン系官能基が分枝鎖に位置した(メタ)アクリレート系(共)重合体、光反応性単量体(高屈折アクリレート、屈折率1.600、HR6022[Miwon])、製造例2の非反応性低屈折物質、トリブチルホスフェート(Tributyl phosphate[TBP]、分子量266.31、屈折率1.424、シグマアルドリッチ社製品)、safranin O(染料、シグマアルドリッチ社製品)、Ebecryl P−115(SK entis)、Borate V(Spectra group)、Irgacure 250(BASF)およびメチルイソブチルケトン(MIBK)を光を遮断した状態で混合し、ペースト(Paste)ミキサーで約10分間攪拌して透明なコーティング液を得た。
前記コーティング液に前記製造例4の前述したシラン架橋剤を添加して5〜10分間さらに攪拌した。以降、前記コーティング液に触媒であるDBTDLを入れて約1分間攪拌した後、マイヤーバー(meyer bar)を利用して、80μm厚さのTAC基材に7μm厚さにコーティングして40℃で1時間乾燥させた。
[実験例:ホログラフィック記録]
(1)前記実施例および比較例のそれぞれで製造されたフォトポリマー(ホログラム記録媒体)コーティング面をスライド(slide)ガラスにラミネートし、記録時にレーザがガラス面を先に通過するように固定した。
(2)DMAを利用したmain relaxation temperature(Tr)の測定
DMA(dynamic mechanical analysis)装備を利用して0.1%の応力変形(strain)、1Hzの周波数(frequency)および5℃/minの昇温速度のセッティング条件で−80℃乃至30℃領域で記録前の前記ホログラム記録媒体をフィルム状態で位相角(Phase angle)を測定した。
位相角(Phase angle)はG’’(損失弾性率)/G’(貯蔵弾性率)で計算されるtan deltaの角度値を意味し、位相角値が大きいほど物質のviscousな特性が高く現れることを意味する。
位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点を主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)と決め、実施例および比較例で得られたホログラム記録媒体のTr値を確認した。
(3)回折効率(η)の測定
二つの干渉光(参照光および物体光)の干渉を通じてホログラフィックを記録し、透過型記録は二つのビームをサンプルの同一面に入射した。二つのビームの入射角により回折効率は変わるようになり、二つのビームの入射角が同一な場合、non−slantedになる。non−slanted記録は、二つのビームの入射角が法線基準に同一であるため、回折格子はフィルムと垂直に生成される。
532nm波長のレーザを用いて透過型non−slanted方式で記録(2θ=45°)し、下記一般式1で回折効率(η)を計算した。
Figure 0006932416
前記一般式1で、ηは回折効率であり、Pは記録後サンプルの回折されたビームの出力量(mW/cm)であり、Pは記録したサンプルの透過されたビームの出力量(mW/cm)である。
(4)屈折率変調値(n)の測定
透過型ホログラムのLossless Dielectric gratingは下記一般式2から屈折率変調値(△n)を計算することができる。
Figure 0006932416
前記一般式2で、dはフォトポリマー層の厚さであり、△nは屈折率変調値であり、η(DE)は回折効率であり、λは記録波長である。
Figure 0006932416
前記表1に示すように、−80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が0℃以下である実施例1乃至4のホログラム記録媒体は、0.024以上の屈折率変調値(△n)を実現することができるという点が確認された。
これに反して、前記Trが13℃である比較例1のホログラム記録媒体は、実施例に比べて相対的に低い回折効率を有する点が確認された。

Claims (8)

  1. −80℃乃至30℃領域で動力学的分析(dynamic mechanical analysis)時における位相角(Phase angle)の温度に応じた変化率が最も大きい地点である主緩和温度(main relaxation temperature、Tr)が−15℃以下に現れ、
    前記動力学的分析は、0.1%の応力変形(strain)、1Hzの周波数(frequency)および5℃/minの昇温速度の条件で行われ、
    高分子マトリックスまたはその前駆体;光反応性単量体;ならびにホスフェート系化合物および1.45未満の屈折率を有する低屈折率フッ素系化合物からなる群より選択された1種以上を含み、
    前記高分子マトリックスまたはその前駆体は、シラン系官能基が分枝鎖に位置する(メタ)アクリレート系(共)重合体およびシラン架橋剤を含む、ホログラム記録媒体。
  2. 前記ホログラム記録媒体は、光開始剤をさらに含む、請求項1に記載のホログラム記録媒体。
  3. 前記低屈折率フッ素系化合物は、エーテル基、エステル基およびアミド基からなる群より選択された1種以上の官能基および2以上のジフルオロメチレン基を含む、請求項1に記載のホログラム記録媒体。
  4. 前記高分子マトリックスの屈折率が1.45乃至1.70である、請求項1から3のいずれか一項に記載のホログラム記録媒体。
  5. 前記シラン架橋剤は、重量平均分子量が100乃至2000である線状のポリエーテル主鎖および前記主鎖の末端または分枝鎖で結合したシラン系官能基を含む、請求項に記載のホログラム記録媒体。
  6. 前記光反応性単量体は、屈折率が1.5以上である多官能(メタ)アクリレート単量体または屈折率が1.5以上である単官能(メタ)アクリレート単量体を含む、請求項1からのいずれか一項に記載のホログラム記録媒体。
  7. 請求項1からのいずれか一項に記載のホログラム記録媒体を含む光学素子。
  8. 電磁気放射線により請求項1からのいずれか一項に記載のホログラム記録媒体に含まれている光反応性単量体を選択的に重合させる段階を含む、ホログラフィック記録方法。
JP2019554535A 2017-12-08 2018-12-07 フォトポリマー組成物 Active JP6932416B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20170168049 2017-12-08
KR10-2017-0168049 2017-12-08
KR1020180156152A KR102244648B1 (ko) 2017-12-08 2018-12-06 포토폴리머 조성물
KR10-2018-0156152 2018-12-06
PCT/KR2018/015467 WO2019112358A1 (ko) 2017-12-08 2018-12-07 포토폴리머 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020515910A JP2020515910A (ja) 2020-05-28
JP6932416B2 true JP6932416B2 (ja) 2021-09-08

Family

ID=67103042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019554535A Active JP6932416B2 (ja) 2017-12-08 2018-12-07 フォトポリマー組成物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11226557B2 (ja)
EP (1) EP3588499B1 (ja)
JP (1) JP6932416B2 (ja)
KR (1) KR102244648B1 (ja)
CN (1) CN110462734B (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102009421B1 (ko) * 2017-04-25 2019-08-12 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102156872B1 (ko) * 2017-09-27 2020-09-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102268129B1 (ko) * 2017-10-16 2021-06-22 주식회사 엘지화학 비반응성 불소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물
KR102166848B1 (ko) * 2017-12-11 2020-10-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102338107B1 (ko) * 2018-09-14 2021-12-09 주식회사 엘지화학 홀로그램 매체
KR102309427B1 (ko) * 2018-09-27 2021-10-05 주식회사 엘지화학 홀로그램 매체
KR102239212B1 (ko) * 2018-12-14 2021-04-12 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
CN113557135A (zh) * 2019-03-20 2021-10-26 积水化学工业株式会社 夹层玻璃用中间膜及夹层玻璃
KR102384288B1 (ko) * 2019-07-02 2022-04-06 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR20220112996A (ko) * 2021-02-05 2022-08-12 주식회사 엘지화학 홀로그램 형성용 포토폴리머 조성물, 홀로그램 기록 매체, 및 광학 소자

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4950567A (en) * 1988-01-15 1990-08-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic optical combiners for head-up displays
JPH09106241A (ja) * 1995-10-09 1997-04-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法
GB9929953D0 (en) 1999-12-17 2000-02-09 Cambridge Res & Innovation Holographic recording medium,and method of forming thereof,utilizing linearly polarized light
JP4672206B2 (ja) * 2001-01-29 2011-04-20 大日本印刷株式会社 体積ホログラム積層体の作成方法
JP4730492B2 (ja) 2001-03-08 2011-07-20 大日本印刷株式会社 ホログラム転写箔
KR100828246B1 (ko) 2001-09-20 2008-05-07 엘지전자 주식회사 홀로그램 소자 및 그 홀로그램 소자를 이용한 광픽업 장치
AU2002343084A1 (en) 2001-12-03 2003-06-17 Polight Technologies Ltd. Holographic recording medium
JP4071525B2 (ja) 2002-04-08 2008-04-02 メモリーテック株式会社 光情報記録媒体
JP2003316239A (ja) * 2002-04-23 2003-11-07 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体、体積ホログラム転写箔、及び体積ホログラムラベル
JP4461901B2 (ja) 2004-05-11 2010-05-12 Tdk株式会社 ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体
JP2006154083A (ja) 2004-11-26 2006-06-15 Toshiba Corp ホログラム記録媒体
JP4909535B2 (ja) 2005-06-23 2012-04-04 日東電工株式会社 積層反射体、認証カード、バーコードラベル、認証システム、及び、認証領域形成システム
JP2007086196A (ja) 2005-09-20 2007-04-05 Fujifilm Corp 光記録媒体用組成物、及び光記録媒体、並びに、光記録方法及び光再生方法
JP4918977B2 (ja) 2005-10-11 2012-04-18 大日本印刷株式会社 ホログラム転写箔
JP2007139843A (ja) 2005-11-15 2007-06-07 Daiso Co Ltd ホログラム記録材料用組成物、ホログラム記録媒体およびその製造方法
JP4751751B2 (ja) 2006-03-30 2011-08-17 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用組成物及びその製造方法、並びに光記録媒体
JP5493262B2 (ja) 2006-10-25 2014-05-14 三菱化学株式会社 体積ホログラム光記録媒体、体積ホログラム記録層形成用組成物及び体積ホログラム記録材料
KR20090074019A (ko) 2006-10-25 2009-07-03 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 체적 홀로그램 광기록 매체, 체적 홀로그램 기록층 형성용 조성물 및 체적 홀로그램 기록 재료
CN101523305A (zh) 2006-10-25 2009-09-02 三菱化学株式会社 体积全息光记录介质、体积全息记录层形成用组合物和体积全息记录材料
JP2009037685A (ja) 2007-08-01 2009-02-19 Sony Corp ホログラム記録再生装置
JP5212063B2 (ja) 2007-12-27 2013-06-19 住友化学株式会社 感光性樹脂組成物
IL200996A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer formulations having a low crosslinking density
JP2010237612A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Daikin Ind Ltd 含フッ素体積型ホログラム光情報記録材料用組成物、および該組成物を用いた含フッ素体積型ホログラム光情報記録媒体
EP2478033A1 (en) 2009-09-16 2012-07-25 3M Innovative Properties Company Fluorinated coating and phototools made therewith
EP2317511B1 (de) * 2009-11-03 2012-03-07 Bayer MaterialScience AG Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem Modul Guv
TWI488908B (zh) 2009-11-03 2015-06-21 Bayer Materialscience Ag 製造全像膜的方法
WO2011054797A1 (de) 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung mit verschiedenen schreibcomonomeren
EP2497081B1 (de) 2009-11-03 2013-10-16 Bayer Intellectual Property GmbH Verfahren zur herstellung von holographischen medien
PL2497082T3 (pl) 2009-11-03 2013-12-31 Bayer Ip Gmbh Fluorouretany jako dodatek w formulacji fotopolimerowej
BR112012010472A2 (pt) 2009-11-03 2016-03-15 Bayer Materialscience Ag processo para a produção de um filme holográfico
JP2011210335A (ja) 2010-03-30 2011-10-20 Nippon Shokubai Co Ltd 光記録媒体用光重合性樹脂組成物、硬化物及び光記録媒体
JP5488146B2 (ja) 2010-04-08 2014-05-14 大日本印刷株式会社 体積型ホログラム記録用感光性組成物、p偏光回折型偏光分離素子及び液晶体積型ホログラム素子
CN103153948B (zh) 2010-08-11 2014-12-03 拜耳知识产权有限责任公司 双官能(甲基)丙烯酸酯书写单体
EP2450893A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
EP2450387A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien
JP5807382B2 (ja) * 2011-05-20 2015-11-10 Tdk株式会社 ホログラム記録材料組成物及びホログラム記録媒体
EP2613319A1 (de) 2012-01-05 2013-07-10 Bayer MaterialScience AG Schichtverbund aus einem Photopolymerfilm und einer Klebstoffschicht
JP2013182040A (ja) 2012-02-29 2013-09-12 Tdk Corp ホログラム記録用フォトポリマー組成物及びホログラム記録媒体
EP3087150A1 (en) 2013-12-23 2016-11-02 Dow Corning Corporation Moisture curable compositions
KR102009421B1 (ko) * 2017-04-25 2019-08-12 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102156872B1 (ko) 2017-09-27 2020-09-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102268129B1 (ko) * 2017-10-16 2021-06-22 주식회사 엘지화학 비반응성 불소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물
KR102166848B1 (ko) * 2017-12-11 2020-10-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102157366B1 (ko) * 2017-12-15 2021-03-29 주식회사 엘지화학 염료 화합물 및 포토폴리머 조성물
KR102228538B1 (ko) * 2018-06-01 2021-03-15 주식회사 엘지화학 염료 화합물 및 포토폴리머 조성물
KR102338107B1 (ko) * 2018-09-14 2021-12-09 주식회사 엘지화학 홀로그램 매체
KR102239212B1 (ko) * 2018-12-14 2021-04-12 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
US20200150528A1 (en) 2020-05-14
JP2020515910A (ja) 2020-05-28
EP3588499A1 (en) 2020-01-01
KR20190068456A (ko) 2019-06-18
CN110462734B (zh) 2021-09-07
EP3588499A4 (en) 2020-04-22
CN110462734A (zh) 2019-11-15
US11226557B2 (en) 2022-01-18
EP3588499B1 (en) 2023-08-30
KR102244648B1 (ko) 2021-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6932416B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP7061744B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP7012975B2 (ja) 染料化合物およびフォトポリマー組成物
JP6991242B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP6862012B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP7009018B2 (ja) ホログラム媒体
JP7005100B2 (ja) 非反応性フッ素系化合物およびそれを含む光重合性組成物
JP7045027B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP7134545B2 (ja) フォトポリマー組成物
JP2021523424A (ja) ホログラム媒体
WO2019112358A1 (ko) 포토폴리머 조성물
WO2019078585A1 (ko) 비반웅성 블소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191002

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200812

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200914

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210719

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6932416

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150