JP6927114B2 - 粘着剤組成物および粘着シート - Google Patents
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Description
本発明において、「(メタ)アクリル」とはアクリルあるいはメタクリルを、「(メタ)アクリロイル」とはアクリロイルあるいはメタクリロイルを、「(メタ)アクリレート」とはアクリレートあるいはメタクリレートをそれぞれ意味するものである。
また、「アクリル系樹脂」とは、少なくとも1種の(メタ)アクリレート系モノマーを含む重合成分を重合して得られる樹脂である。
なお、本発明において、「シート」とは、特に「フィルム」、「テープ」と区別するものではなく、これらも含めた意味として記載するものである。
本発明で用いるエチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)は、上記一般式(1)で示されるエチレン性不飽和基含有構造部位(x)を側鎖に有するものであればよく、例えば、カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α)とビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル類(β)とを反応させて得ることが好ましい。
上記カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α)は、カルボキシル基含有モノマー(a1)およびアルキル(メタ)アクリレート(a2)、好ましくは官能基含有モノマー(a3)(ただし、カルボキシル基含有モノマー(a1)を除く。)、さらに必要に応じて、その他の共重合性モノマー(a4)を重合させて得られるものである。
上記アルキル(メタ)アクリレート(a2)のなかでも、共重合性、粘着物性、取り扱いやすさおよび原料入手しやすさの点で、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。
上記水酸基含有モノマーのなかでも、架橋剤(B)との反応性に優れる点で、1級水酸基含有モノマーが好ましく、特には2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましい。
本発明で用いるビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル類(β)は、ラジカル重合性を有する(メタ)アクリロイル基とカチオン重合性を有するビニルエーテル基を有する化合物である。
上記カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α)とビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル類(β)との反応は、例えば、反応器にカルボキシ基含有アクリル系樹脂(α)とビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル類(β)とを一括または別々に仕込み公知の反応手段で行うことができる。
酸価は、滴定に要した0.1mol/L水酸化カリウムメタノール溶液の液量から、下式により算出する。
酸価=a×F×5.611/試料量(g)
a:0.1mol/L水酸化カリウムメタノール溶液の量(mL)
F:0.1mol/L水酸化カリウムメタノール溶液の力価
ヘミアセタール化率(%)={1−(エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)
の酸価/カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α)の酸価)}×100
エチレン性不飽和基含有量(mmol/100g)
=(Nca×Rhe/100)/〔Me×(Nca×Rhe/100)+100〕×100
Nca:カルボキシル基含有アクリル系樹脂におけるカルボキシル基含有モノマー量(mol/100g)
Rhe:ヘミアセタール化率(%)
Me:ビニルエーテル基含有(メタ)アクリル酸エステル(β)の分子量
本発明の粘着剤組成物には、活性エネルギー線照射前の粘着力を向上させるために、更に架橋剤(B)を含有させる。上述のように架橋剤(B)は、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)中の官能基と反応し、架橋構造を形成するものであり、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、アミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤が挙げられる。これらのなかでも、粘着シートの基材シートとの接着性を向上させる点やエチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)との反応性の点から、イソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。
本発明の粘着剤組成物は、活性エネルギー線照射における硬化性を向上させ、活性エネルギー線照射後の剥離性を向上させる点から、光重合開始剤(C)を配合させることが好ましい。上記光重合開始剤(C)としては、光の作用によりラジカルを発生するものであればよく、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノンオリゴマー等のアセトフェノン類;
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチル−ジフェニルサルファイド、3,3',4,4'−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)エチル]ベンゼンメタナミニウムブロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類;
2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロリド等のチオキサントン類;
2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類;
等が挙げられる。なかでも、好ましくは、アセトフェノン類、とりわけ1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンや、チオキサントン類、とりわけ2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイドである。
なお、これら光重合開始剤(C)は、単独で用いるか、または2種以上を併用することができる。
光重合開始剤(C)の含有量が少なすぎると活性エネルギー線照射後の剥離性が低下しやすくなる傾向があり、多すぎると被加工部材に対する汚染性が増大する傾向がある。
本発明の粘着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに例えば、エチレン性不飽和化合物を配合することも活性エネルギー線照射後の剥離性の点で好ましく、また、帯電防止剤、酸化防止剤、可塑剤、充填剤、顔料、希釈剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、粘着付与樹脂等の添加剤をさらに含有していてもよい。これらの添加剤は単独でもしくは2種以上を併せて用いることができる。特に酸化防止剤は、粘着剤層の安定性を保つのに有効である。酸化防止剤を配合する場合の含有量は、特に制限はないが、好ましくは0.01〜5重量%である。なお、添加剤の他にも、粘着剤組成物の構成成分の製造原料等に含まれる不純物等が少量含有されていてもよい。
以下、上記粘着シートについて説明する。
ゲル分率(%)=酢酸エチル浸漬後の粘着剤層の重量(g)
/酢酸エチル浸漬前の粘着剤層の重量(g)×100
還流冷却器、撹拌器、窒素ガスの吹き込み口および温度計を備えた4ツ口丸底フラスコに、酢酸エチル110部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.04部を仕込み還流温度まで加熱し、2−ヒドロキシエチルアクリレート(a3)0.2部、アクリル酸(a1)15部、n−ブチルアクリレート(a2)84.8部の混合モノマーを2時間滴下後1時間加熱し、さらに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(ADVN)酢酸エチル溶液を滴下しながら還流温度で1時間反応させた。その後、酢酸エチルにて希釈してカルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)溶液(固形分33.9重量%、粘度5,000mPa・s/25℃、重量平均分子量58万、分散度4.9、ガラス転移温度(Tg)−41.1℃)を得た。
還流冷却器、撹拌器、窒素ガスの吹き込み口および温度計を備えた4ツ口丸底フラスコに、酢酸エチル62部、トルエン9部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.032部を仕込み還流温度まで加熱し、2−ヒドロキシエチルアクリレート(a3)10部、n−ブチルアクリレート(a2)90部の混合モノマーを2時間滴下後1時間加熱し、さらにアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)酢酸エチル溶液を適宜追加しながら還流温度で5.5時間反応させた。その後、酢酸エチルにて希釈して水酸基含有アクリル系樹脂(α’−1)溶液(固形分34.9重量%、粘度5100mPa・s/25℃、重量平均分子量78万、分散度5.4、ガラス転移温度(Tg)−52.5℃)を得た。
還流冷却器、撹拌器、窒素ガスの吹き込み口および温度計を備えた4ツ口丸底フラスコに、酢酸エチル62部、トルエン9部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.032部を仕込み還流温度まで加熱し、2−ヒドロキシエチルアクリレート(a3)28部、n−ブチルアクリレート(a2)62部、メチルメタクリレート(a2)10部の混合モノマーを2時間滴下後1時間加熱し、さらにアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)酢酸エチル溶液を適宜追加しながら還流温度で5.5時間反応させた。その後、酢酸エチルにて希釈してアクリル系樹脂(α’−2)溶液(固形分39.7重量%、粘度5500mPa・s/25℃、重量平均分子量60万、分散度5.0、ガラス転移温度(Tg)−35.3℃)を得た。
上記カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)中のアクリル酸(a1)100mol%に対して、ビニルエーテル基含有アクリル酸エステル類(β)としてアクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル(以下、「VEEA」と称する)(日本触媒社製)を50mol%追加し、80℃で20時間反応させ、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A−1)を得た。また、酸価測定によって得たカルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)中のアクリル酸に対するヘミアセタール化率は49%(VEEAのカルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)に対するエチレン性不飽和基導入率は98%)、エチレン性不飽和基の含有量は86mmol/100gであった。
上記カルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)中のアクリル酸100mol%に対して、ビニルエーテル基含有アクリル酸エステル類(β)としてVEEAを100mol%追加し、80℃で20時間反応させ、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A−2)を得た。また、酸価測定によって得たカルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)中のアクリル酸に対するヘミアセタール化率は73%(VEEAのカルボキシル基含有アクリル系樹脂(α−1)に対するエチレン性不飽和基導入率は73%)、エチレン性不飽和基の含有量は118mmol/100gであった。
上記水酸基含有アクリル系樹脂(α’−1)中の2−ヒドロキシエチルアクリレート100mol%に対して、40mol%の2−メタクリロイルオキシエチルアクリレート(以下、「MOI」と称する)(昭和電工社製)とウレタン化触媒としてジブチル錫ジラウレートを適宜追加し、50℃で18時間反応させ、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A’−1)を得た。MOIによるウレタン化率は40%、エチレン性不飽和基の含有量は33mmol/100gであった。
上記水酸基含有アクリル系樹脂(α’−2)中の2−ヒドロキシエチルアクリレート100mol%に対して、75mol%のMOIとウレタン化触媒としてジブチル錫ジラウレートを適宜追加し、50℃で18時間反応させ、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A’−2)を得た。MOIによるウレタン化率は75%、エチレン性不飽和基の含有量は59mmol/100gであった。
上記水酸基含有アクリル系樹脂(α’−2)中の2−ヒドロキシエチルアクリレート100mol%に対して、80mol%のMOIとウレタン化触媒としてジブチル錫ジラウレートを適宜追加し、50℃で18時間反応させ、エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A’−3)を得た。MOIによるウレタン化率は80%、エチレン性不飽和基の含有量は148mmol/100gであった。
架橋剤(B−1)として以下のものを用意した。
・コロネートL55E(トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンのアダクト体、東ソー社製)
光重合開始剤(C−1)として以下のものを用意した。
・Omnirad184(アセトフェノン類、IGM RESINS社製)
上記のようにして調製、準備したエチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A−1、A−2)および(A’−1、A’−2、A’−3)100部に対して、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製「コロネートL−55E」)を下記の表1の通りに添加したものに、光重合開始剤(IGM RESINS社製「Omnirad184」)を1部混合し、これを酢酸エチルにて固形分濃度を30重量%に調液し、粘着剤組成物溶液を得た。
得られた粘着剤組成物および粘着シートについて、以下の通り評価を行った。評価結果を後記表1に示す。
得られた粘着シートを40mm×40mmに裁断した後、軽剥離38μmポリエステル系離型シートを剥がし、粘着剤層側を50mm×100mmのSUSメッシュシート(200メッシュ)に貼合してから、重剥離38μmポリエステル系離型シートを剥がしSUSメッシュシートの長手方向に対して中央部より折り返してサンプルを包み込んだ後、酢酸エチル250gの入った密封容器にて24時間浸漬した際の、酢酸エチル浸漬前後の粘着剤層の重量変化から下記式によりゲル分率を求めた。
ゲル分率(重量%)=酢酸エチル浸漬後の粘着剤層の重量(g)
/酢酸エチル浸漬前の粘着剤層の重量(g)×100
上記で得られた粘着シートから25mm×100mmの試験片を作製し、軽剥離38μmポリエステル系離型シートを剥がし、ステンレス板(SUS304BA板)に23℃、50%RHの雰囲気下にて重量2kgのゴムローラーを2往復させて加圧貼付し、同雰囲気下で30分放置した後、剥離速度300mm/minで180度剥離強度(N/25mm)を測定した。評価基準は下記の通りである。
(評価基準)
○・・・10.0N/25mm以上
△・・・5.0N/25mm以上、10.0N/25mm未満
×・・・5.0N/25mm未満
上記で得られた粘着シートから25mm×100mmの試験片を作製し、軽剥離38μmポリエステル系離型シートを剥がし、ステンレス板(SUS304BA板)に23℃、50%RHの雰囲気下にて重量2kgのゴムローラーを2往復させて加圧貼付し、同雰囲気下で30分間放置した後、80Wの高圧水銀灯を1灯を用いて、ガラス板側から紫外線照射(積算照射量250mJ/cm2)を施し、23℃、50%RHの雰囲気下で30分間静置した後、剥離速度300mm/minで180度剥離強度(N/25mm)を測定した。評価基準は下記の通りである。
(評価基準)
○・・・1N/25mm未満
×・・・1N/25mm以上
上記で得られた粘着シートから25mm×100mmの試験片を作製し、軽剥離38μmポリエステル系離型シートを剥がしたうえで、ステンレス板(SUS304BA板)に23℃、50%RHの雰囲気下にて重量2kgのゴムローラーを2往復させて加圧貼付し、さらに80Wの高圧水銀灯を1灯を用いて、ガラス板側から紫外線照射(積算照射量250mJ/cm2)を施し、150℃に加熱したオーブンジェット乾燥機に30分間投入した。乾燥機から取り出し、23℃、50%RHの雰囲気下で30分間冷却した後、剥離速度300mm/minで180度剥離強度(N/25mm)を測定した。
(評価基準:粘着力)
◎・・・10.0N/25mm以上
○・・・2.0N/25mm以上10.0N/25mm未満
×・・・2.0N/25mm未満
加熱による粘着力上昇率(%)
=活性エネルギー線照射・加熱後粘着力/活性エネルギー線照射後の粘着力×100
また、同じくエチレン性不飽和基含有構造部位(x)を有さないエチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂を含有する比較例2、6〜9品は、活性エネルギー線照射後の剥離性には優れるものの、その後熱を加えても粘着力の上昇はみられないものであった。
Claims (7)
- 上記エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)におけるエチレン性不飽和基の含有量が30〜500mmol/100gであることを特徴とする請求項1記載の粘着剤組成物。
- 上記エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂(A)が、水酸基を含有することを特徴とする請求項1または2記載の粘着剤組成物。
- 更に、光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の粘着剤組成物。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の粘着剤組成物が架橋された粘着剤層を有することを特徴とする粘着シート。
- 活性エネルギー線照射により粘着剤層が硬化され剥離可能となることを特徴とする請求項5記載の粘着シート。
- 粘着剤層の下記条件(1)での活性エネルギー線照射後の粘着力が0.01〜1N/25mm未満で、下記条件(2)での加熱後の粘着力が1〜30N/25mmであることを特徴とする請求項5または6記載の粘着シート。
条件(1):80Wの高圧水銀灯を1灯用いて、積算照射量250mJ/cm2の紫外線照射を施し、23℃、50%RHの雰囲気下で30分間静置した後、剥離速度300mm/minで180度剥離強度(N/25mm)を測定したときの粘着力。
条件(2):80Wの高圧水銀灯を1灯用いて、積算照射量250mJ/cm2の紫外線照射を施し、150℃に加熱した乾燥機に30分間投入し、その後、乾燥機から取り出し、23℃、50%RHの雰囲気下で30分間冷却した後、剥離速度300mm/minで180度剥離強度(N/25mm)を測定したときの粘着力。
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