JP6905843B2 - 塗布処理装置 - Google Patents
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Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
121 スピンチャック
130 アウターカップ
140 インナーカップ
154 レジスト液供給ノズル
158 溶剤供給ノズル
161 溶剤供給ノズル
170 溝
171 凸条部
200 制御部
W ウェハ
Claims (12)
- 基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持して回転させる基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に対して塗布液を供給する塗布液供給部材と、
前記基板保持部に保持された基板を囲み得るように、前記基板保持部の外側に配置されたカップと、
を有し、
前記カップの内周面には、少なくとも前記基板保持部に保持された基板の高さ位置から下方に、縦方向の溝が複数形成され、
前記各溝のカップ内周面における縦方向の各上端部は、上方に向かうにつれて広がるようにテーパ状に成形されていることを特徴とする、塗布処理装置。 - 前記各溝の断面は、台形であることを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理装置。
- 前記各溝によって形成される凸条部の上部表面は、溝の底部に対して相対的に撥水性が高いことを特徴とする、請求項1〜2のいずれか一項に記載の塗布処理装置。
- 前記凸条部の上部表面の、溝の底部表面に対する割合は、90%以上であることを特徴とする、請求項3に記載の塗布処理装置。
- 前記凸条部の上部表面の、溝の底部表面に対する割合は、95%以上であることを特徴とする、請求項3に記載の塗布処理装置。
- 前記カップの内側に、前記基板保持部を囲む他のカップを有し、
当該他のカップの表面には、縦方向の溝が複数形成されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布処理装置。 - 前記他のカップにおける各溝の断面は、台形であることを特徴とする、請求項6に記載の塗布処理装置。
- 基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持して回転させる基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に対して塗布液を供給する塗布液供給部材と、
前記基板保持部に保持された基板を囲み得るように、前記基板保持部の外側に配置されたカップと、
を有し、
前記カップの内周面には、少なくとも前記基板保持部に保持された基板の高さ位置から下方に、縦方向の溝が複数形成され、
前記カップの内側に、前記基板保持部を囲む他のカップを有し、
当該他のカップの表面には、縦方向の溝が複数形成され、
前記他のカップにおける各溝のカップ内周面における縦方向の各上端部は、上方に向かうにつれて広がるようにテーパ状に成形されていることを特徴とする、塗布処理装置。 - 前記他のカップにおける各溝の断面は、台形であることを特徴とする、請求項8に記載の塗布処理装置。
- 前記他のカップにおける前記各溝によって形成される凸条部の上部表面は、溝の底部に対して相対的に撥水性が高いことを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一項に記載の塗布処理装置。
- 前記凸条部の上部表面の、溝の底部表面に対する割合は、90%以上であることを特徴とする、請求項10に記載の塗布処理装置。
- 前記凸条部の上部表面の、溝の底部表面に対する割合は、95%以上であることを特徴とする、請求項10に記載の塗布処理装置。
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