JP6791051B2 - マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Description
xi=a0+a1i+a2j
yj=b0+b1i+b2j
2 鏡筒
4 電子銃
6 照明レンズ
8 成形アパーチャアレイ
10 ブランキングアパーチャアレイ
12 縮小レンズ
14 制限アパーチャ部材
15 対物レンズ
16 コイル
17 主偏向器
20 描画室
22 XYステージ
40 検査アパーチャ
50 電流検出器
100 制御部
110 制御計算機
Claims (4)
- 複数の穴が形成され、前記複数の穴を荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャアレイと、
前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える複数のブランカが配置されたブランキングアパーチャアレイと、
描画対象の基板が載置される移動可能なステージと、
前記ステージの位置を検出するステージ位置検出器と、
前記ステージに設けられた複数の反射マークと、
前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち1本のビームを通過させる検査アパーチャと、
前記マルチビームを偏向する偏向器と、
前記マルチビームを前記検査アパーチャ上でスキャンすることで前記検査アパーチャを通過した前記マルチビームの各ビームのビーム電流を検出する第1検出器と、
前記反射マークから反射する荷電粒子を検出する第2検出器と、
前記第1検出器により検出されたビーム電流に基づいてビーム画像を作成し、前記ビーム画像と、前記ステージの位置とに基づいて基準ビーム形状を測定する第1ビーム形状測定部と、
前記ブランカによりオンビームを切り替え、該オンビームを前記反射マークに対してスキャンし、前記第2検出器により検出される荷電粒子の強度の変化と、前記ステージの位置とに基づいてビーム形状を測定する第2ビーム形状測定部と、
を備え、
前記基準ビーム形状と、前記第2ビーム形状測定部により測定されるビーム形状とに基づいて、各ビームの照射量を調整し、前記基板に照射されるマルチビームのビーム形状を補正し、
描画処理前に前記第1ビーム形状測定部が前記基準ビーム形状を測定すると共に、前記第2ビーム形状測定部がビーム形状を測定し、
描画処理中、所定のタイミングで前記第2ビーム形状測定部がビーム形状を測定し、描画処理前に測定したビーム形状と描画処理中に測定したビーム形状との差分を前記基準ビーム形状に加算することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 描画処理中に前記第2ビーム形状測定部が測定したビーム形状に特異点が含まれている場合、前記マルチビームを前記検査アパーチャ上でスキャンし、検出されたビーム電流に基づいて作成されたビーム画像を用いて、前記ブランキングアパーチャアレイにおける欠陥を検出することを特徴とする請求項1に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 描画処理中、所定のタイミングで前記反射マークをスキャンし、前記第2検出器の検出結果を用いて、前記マルチビームのドリフト測定を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 荷電粒子ビームを放出する工程と、
アパーチャ部材の複数の開口部を前記荷電粒子ビームが通過することにより、マルチビームを形成する工程と、
複数のブランカを用いて、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオン/オフを切り替えるブランキング偏向を行う工程と、
偏向器を用いて、ブランキング偏向されたビームを、基板を載置可能なステージの移動に追従して各ビームの描画位置に偏向する工程と、
前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち1本のビームを通過させる検査アパーチャを前記マルチビームでスキャンする工程と、
前記検査アパーチャを通過した前記マルチビームの各ビームのビーム電流を検出する工程と、
前記ビーム電流に基づいてビーム画像を作成し、前記ビーム画像と、前記ステージの位置とに基づいて基準ビーム形状を測定する工程と、
オンビームを切り替えながら、前記ステージ上に設けられた反射マークを該オンビームでスキャンする工程と、
前記反射マークから反射する荷電粒子を検出する工程と、
反射荷電粒子の強度の変化と、前記ステージの位置とに基づいてビーム形状を測定する工程と、
前記基準ビーム形状に基づいて各ビームの照射量を調整し、前記基板に照射されるマルチビームのビーム形状を補正する工程と、
を備え、
描画処理前に前記基準ビーム形状を測定すると共に、前記反射荷電粒子に基づくビーム形状の測定を行い、
描画処理中、所定のタイミングで前記反射荷電粒子に基づくビーム形状の測定を行い、描画処理前に測定したビーム形状と描画処理中に測定したビーム形状との差分を前記基準ビーム形状に加算することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
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