JP6775376B2 - 表示装置 - Google Patents
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Description
1−1.表示装置の構成
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置100の構成を示す。表示装置100は、基材102の一平面に、表示領域104、駆動回路領域106、端子領域108が配置される。表示領域104は複数の画素110が配列し、第1配線118a、118b、第2配線120が設けられる。駆動回路領域106は、第1駆動回路112a、112b、第2駆動回路が配置される。端子領域108は、複数の端子電極116が配列される。
表示装置100の曲げ領域101に交差して配置される第2配線120の構造を図2(A)及び図2(B)を参照して説明する。図2(A)は、曲げ領域101における第2配線120の平面図を示し、図2(B)はA1−A2線に対応する断面構造を示す。
図5は、表示装置100の曲げ領域101において、基材102を曲げた状態を示す断面図である。表示装置100は、駆動回路領域106に含まれる第2駆動回路114が表示領域104の背面側に配置されるように基材102が曲げられている。第2配線120は、曲げ領域101において基材102と共に曲げられる。第2配線120は、第1導電層131と第2導電層133とで構成され、第1導電層131と第2導電層133との間には層間絶縁層167が設けられている。曲げ領域101の外側の領域には、第1接続部135及び第2接続部137が設けられる。第1導電層131及び第2導電層133は、第1接続部135及び第2接続部137でそれぞれ電気的に接続される。
図6は、画素110の等価回路の一例を示す。画素110は、第1スイッチング素子148、第2スイッチング素子150、発光素子154、発光素子を駆動するトランジスタ152(以下、「駆動トランジスタ」ともいう。)、第1容量素子156、第2容量素子158を含む。
図7は、画素110の構造を示す平面図である。画素110は、駆動トランジスタ152、第1スイッチング素子148、第2スイッチング素子150、第1容量素子156及び第2容量素子158が配置される。これらの素子を囲むように、第1配線118a、118b、第2配線120、第6配線128が設けられている。第1配線118a、118bは、図7で示すX方向に配設され、第2配線120及び第6配線128はY方向に配設される。第1配線118a、118bと、第2配線120及び第6配線128は絶縁層を挟んで交差して配置される。すなわち、第1配線118a、118bと、第2配線120及び第6配線128とは絶縁層を挟んで異なる層に設けられる。
図7、図8及び図9で示す画素構造を有する表示装置100において、曲げ領域101に対応する領域に設けられる配線の構造を図10に示す。図10(A)及び図10(B)は、曲げ領域101と交差する配線の一例として、第2配線120の一例を示す。図10(A)は第2配線120の平面図を示し、図14(B)はD1−D2線に沿った断面構造を示す。
2−1.表示装置の構成
図11は、曲げ領域101が表示領域104に重畳する表示装置100の一形態を示す。曲げ領域101と交差する方向に配設される第2配線120及び第5配線126は、少なくとも曲げ領域101において、第1の実施形態と同様に複数の導電層によって構成され、曲げ領域101の外側領域において異なる層に設けられた導電層が電気的に接続される接続部を有する。これにより、第2配線120を構成する複数の導電層には同じ信号が印加されることとなり、第2配線120の断線不良を防いでいる。なお、図11に示す表示装置100は、曲げ領域101の位置が異なること以外は、第1の実施形態で示す表示装置と同様である。
本実施形態に係る表示装置100の配線構造の詳細を、図面を参照して説明する。図12は、表示領域104において4つの画素110が配列する態様を例示する。画素110の構成は、第1に実施形態で述べるものと同様である。表示領域104において、図中に示すX方向に第1配線118が配設され、Y方向に第2配線120及び第6配線128が配設される。
3−1.表示装置の構成
図15は、曲げ領域101が表示領域104に重畳する表示装置100の一形態を示す。曲げ領域101と交差する方向に配設される第1配線118a、118bは、少なくとも曲げ領域において、第1の実施形態と同様に、絶縁層を挟んで第1導電層と第2導電層とが設けられる構造を有する。第1導電層と第2導電層とは、曲げ領域101の外側領域において第1接続部134と第2接続部136により電気的に接続される第1配線118a、118bは、少なくとも曲げ領域101と交差する領域においてこのような配線構造を有している。
図16は、第1配線118aに第1接続部134aを設け、第1配線118bに第1接続部134bを設けた一例を示す。曲げ領域101は、図16で示すY方向に沿って存在している。第1接続部134a、134bは曲げ領域101の外側に設けられている。これにより、第1配線118を構成する複数の導電層には同じ信号が印加されることとなり、第1配線118の断線不良を防いでいる。画素110の構成は、第1の実施形態で述べるものと同様である。図17は、G1−G2線に沿った断面構造を示す。
Claims (4)
- 基材と
前記基材の一平面に配置された複数の画素を含む表示領域と、前記表示領域に隣接して配置されてた駆動回路領域と、前記基材の端部に配置された端子領域と、前記表示領域及び前記駆動回路領域、並びに前記駆動回路領域と前記端子領域との間に設けられた複数の配線と、を有し、
前記表示領域は、
前記基材に設けられた第1絶縁層と、前記第1絶縁層の上層に配置された第2絶縁層と、
前記第2絶縁層上に設けられ一方向に伸長する第1配線と、
前記第2絶縁層上に設けられた第3絶縁層と、
前記第3絶縁層上に設けられた第4絶縁層と、
前記第1配線と交差する方向に伸長する第2配線と、
前記第1絶縁層と前記第2絶縁層との間に設けられた半導体層と、前記半導体層と少なくとも一部が重なり前記第2絶縁層と前記第3絶縁層との間に設けられたゲート電極と、を含むトランジスタと、を含み、
前記トランジスタのソース領域とドレイン領域はソース配線とドレイン配線とそれぞれ接続し、
前記ソース配線と前記ドレイン配線は前記第3絶縁層上に位置し、
前記第2配線は前記表示領域において、
前記第3絶縁層上に設けられた第1導電層と、
前記第4絶縁層上に設けられた第2導電層と、を含み、
前記第1導電層と前記第2導電層とは、前記第4絶縁層を貫通する第1コンタクトホールによって電気的に接続される第1接続部と、前記第1接続部から離れた位置で前記第4絶縁層を貫通する第2コンタクトホールによって電気的に接続される第2接続部と、によって電気的に接続され、
前記第1導電層と前記ソース配線と前記ドレイン配線は同層に配置されている、ことを特徴とする表示装置。 - 前記基材は可撓性を有し、
前記第1の接続部と前記第2の接続部との間に曲げ領域を含む、請求項1に記載の表示装置。 - 前記基材の裏面にサポート部材を有し、前記サポート部材は、前記第1接続部と前記第2に接続部との間に切欠き部を有し、
前記切欠き部が前記曲げ領域に対応して配置されている、請求項2に記載の表示装置。 - 前記第1導電層と前記第2導電層とに、同じ信号が印加される、請求項1に記載の表示装置。
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