JP6765104B2 - 電気的中点におけるrfプローブシステムの校正技術 - Google Patents
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Description
高周波インピーダンス測定等の高周波検査において使用される高周波特性検査装置には、測定部材として、その先端に測定信号をDUT(被試験装置、被測定回路網)に入力、或いはDUTから出力するシグナル端子(S)および接地されたグランド端子(G)が離間し並行して配設された高周波プローブ(S−Gタイプ、またはG−Sタイプ)や、その先端にシグナル端子(S)を挟むように2本のグランド端子(G,G)が各離間し並行して配設された高周波プローブ(G−S−Gタイプ)などが使用されている(特許文献3)。
校正は検査用の所定の基準パターンを用意し、たとえば、図14に示す基準器を用いてZ軸方向の調整(プローブ押付け量)を行なった後、所定の基準器(例えば、THRU,SHORT,LOAD基準器)に移動して、目視(図12、比較例1)、或いは、PC制御等により予め決められた量プローブを平行移動させる(図12、比較例2)事によって高周波プローブのXY位置を決めてから行うのが一般的である。
次に対向する他方のプローブ先端についても同様にZ軸の位置を調整して一対の対向する高周波プローブを用意して基準パターンによる校正を行う。
この表1の環境条件による不安定性項目を見ると平面回路の顕微鏡手法によるプローブ位置の制御精度は、せいぜい10μm程度であり、実体顕微鏡を利用する場合の顕微鏡解像度の限界に近い。
そのため、プローブ位置決めの精度の限界を超えるプローブ位置の制御手法が望まれていた。
顕微鏡手法は幾何的な中点を電気的な中点をみなして実施するものであるが、実際は幾何的な中点と電気的な中点とは異なり、しかもその違いは高周波になるほど顕著となることがわかった。
またこの基準位置合わせによる解析手法は図5に示したようにそれぞれ他の基準器においても適用可能であることは言うまでもない。
図1(b)に示すように、各基準器でプローブ位置決めを行なった後、速やかにその位置で校正を行なってよい。
よって、この解析手法を、極値法と差分法と名付ける(図5)。
ポート1とポート2での測定信号とは、一対のプローブS端子において計測された測定信号を言う。
図5の表の上欄は解析用パラメータであり、Sref、Stransは反射特性・透過特性を表し、Srefは反射係数S11またはS22であり、Stransは透過係数S12またはS21である。θrefは反射係数Srefの位相であり、θtransは透過係数Stransの位相である。
同様にUref=Re(Sref)、Vref=Im(Sref)、Utrans=Re(Strans)、Vtrans=Im(Strans)である(Reは実部を表し、Imは虚部を表す)。
図5の表の左欄に示すThru、Load、Short基準器の各方向において表に示された解析用パラメータとパラメータ解析手法を選択することで各基準器における電気的な中点にプローブ位置を決定する事が可能である。
図2〜4に本実施例で使用するTHRU、SHORT、LOAD基準器の形状例を示す。
基準器とは、平面回路等の被試験装置を測定する際の位置決めに予め使用する被試験装置の一部と同一の大きさと形状を有した試験片であり、一般的には図2に示したTHRU基準器、図3に示したSHORT基準器や図4に示したLOAD基準器など他のパターンが合わせて配置された試料(サンプル)の一部である。
SHORT基準器とは、各プローブのシグナルとグランド端子間を短絡させたほぼ全反射である基準器である。
以下、簡略化した図10の構成のシステムによって、図2〜4に示す各基準器を用いて、可動ステージに載置されたサンプル上のプローブ位置を決定する手法を説明する。
なお、本発明の解析手法は特に断らない限りTHRU、SHORT、LOAD基準器のいずれにも適用可能であることから、基本基準器を特定しないで、または、適宜基準器を変えて説明を進める。
この目的のために、高周波特性検査装置はサンプルを載置した可動ステージを稼働し、回転させるステージ回転機構を備えてもよい。
この時直上に配する位置はおおまかな位置でかまわないが、一対の対向する高周波プローブの先端が可動ステージ上の基準器の信号領域に接触してX,Y方向に移動し得る始点となるように仮決めの位置を決めるのが望ましい。
本実施例では、図10における制御装置としてパーソナルコンピュータを用いてZ軸移動量を計算してステージコントローラに入力した。
サンプルの表面がプローブ片方にコンタクトすると、反射係数(S11、S22)が大きく変化する。
例えばLOAD基準器やTHRU基準器の場合は反射係数が0.7以下、SHORT基準器の場合は位相が90〜180℃となるように設定すれば、一対のプローブのコンタクト有無の判定が可能である。
移動量は、例えば±10μmの範囲で1μmずつ移動しながら各位置における両プローブの反射係数を測定する。
例えば、THRU基準器のX位置は反射係数S11、S22の実部をP1=U11、P2=U22とし、|U11−U22|を解析して決定する。
また、SHORT基準器のX位置は反射係数S11、S22の実部をP1=U11、P2=U22とし、差分法によるパラメータ|U11−U22|を解析して決定する。
また、LOAD基準器は反射係数S11、S22の振幅(P1=|S11|、P2=|S22|)の差分法によるパラメータ||S11|−|S22||、が極値となるプローブ位置をX位置として決定する。
好適には、その差がゼロ、すなわち、P1=P2、となる位置である。
移動量は、例えば±10μmの範囲で2μmずつ移動しながら各位置におけるパラメータP1、P2を解析してY位置を決定する(Step7、図11)。
例えば、THRU基準器は反射係数S11、S22の実部(P1=U11、P2=U22)の極値法によるパラメータU11xU22、SHORT基準器は反射係数S11、S22の実部(P1=U11、P2=U22)の極値法によるパラメータU11xU22、LOAD基準器は反射係数S11、S22の振幅(P1=|S11|、P2=|S22|)の極値法によるパラメータ|S11|x|S22|、がそれぞれ極値となるプローブ位置をY位置として決定すればよい。
このようにして、XYZ三軸方向のプローブ位置を高い再現性で精密に決めることができる。
このように、本技術を活かすことでより高い精度での校正が実現できる。
2 可動ステージ(サンプルステージ、ステージ、プローブステーション)
3 VNA(計測装置)
4 周波数拡張ユニット
5 抵抗体
6 ステージコントローラ
7 制御装置
8 平面回路評価装置(高周波特性検査装置)
9 THRU基準器
10 LOAD基準器
11 SHORT基準器
12 シグナル領域(信号領域)
13 グランド領域
14、14a、14b シグナル端子(S)
15、15a、15b、15c、15d グランド端子(G)
16 測定対象(DUT)
17 同軸ケーブル
Claims (11)
- 離間して形成されたシグナル領域およびグランド領域を有する平面回路の電気的特性をその先端を前記平面回路の表面に接触させて高周波を放出して得たSパラメータにより検査する一対の高周波プローブを備えた高周波特性検査装置であって、
前記高周波プローブはその先端に前記グランド領域に接触するグランド端子と前記シグナル領域に前記グランド端子と同時に接触するシグナル端子とを備え、
前記一対の高周波プローブは所定の間隔で対向して前記平面回路の表面に同時に接触するように構成されており、
前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置の校正を、対向する一対の前記高周波プローブの各シグナル端子が前記シグナル領域において接触して前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射特性の実部又は虚部に基づいて決定する電気的中点において行うことを特徴とする高周波特性検査装置。 - さらに、前記平面回路を載置する可動ステージと、その可動ステージのX、Y、Z軸の稼動を制御するステージコントローラとを備え、
前記平面回路の前記シグナル領域において長手方向をX軸方向、短手方向をY軸方向、垂直方向をZ軸方向とした場合、
Z軸方向のコンタクト位置を決定し、
当該Z軸方向のコンタクト位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをX軸方向に稼動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、|Re(S 11 )―Re(S 22 )|(Re(P)はPの実部)又は|Im(S 11 )−Im(S 22 )|(Im(P)はPの虚部)が極値となるように前記一対の前記高周波プローブのX軸の位置を決定する
請求項1記載の高周波特性検査装置。 - 決定された前記Z軸方向のコンタクト位置及び前記X軸の位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをY軸方向に移動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、Re(S 11 )xRe(S 22 )が極値となるようにY軸の位置を決定し、
前記決定されたY軸の位置における前記対向する一対の前記高周波プローブの中点を前記平面回路のシグナル領域の電気的中点の基準位置として校正することを特徴とする請求項2に記載の高周波特性検査装置。 - 離間して形成されたシグナル領域およびグランド領域を有する平面回路の電気的特性をその先端を前記平面回路の表面に接触させて高周波を放出して得たSパラメータにより検査する一対の高周波プローブを備えた高周波特性検査装置であって、
前記高周波プローブはその先端に前記グランド領域に接触するグランド端子と前記シグナル領域に前記グランド端子と同時に接触するシグナル端子とを備え、
前記一対の高周波プローブは所定の間隔で対向して前記平面回路の表面に同時に接触するように構成されており、
前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置の校正を、対向する一対の前記高周波プローブの各シグナル端子が前記シグナル領域において接触して前記高周波を放出して測定したSパラメータの透過特性の実部又は虚部に基づいて決定する電気的中点において行うことを特徴とする高周波特性検査装置。 - さらに、前記平面回路を載置する可動ステージと、その可動ステージのX、Y、Z
軸の稼動を制御するステージコントローラとを備え、
前記平面回路の前記シグナル領域において長手方向をX軸方向、短手方向をY軸方向、垂直方向をZ軸方向とした場合、
Z軸方向のコンタクト位置を決定し、
当該Z軸方向のコンタクト位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをX軸方向に稼動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの透過係数S 12 及びS 21 から、Re(S 12 )xRe(S 21 )(Re(P)はPの実部)又はIm(S 12 )xIm(S 21 )(Im(P)はPの虚部)が極値となるように前記一対の前記高周波プローブのX軸の位置を決定する
請求項4記載の高周波特性検査装置。 - 決定された前記Z軸方向のコンタクト位置及び前記X軸の位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをY軸方向に移動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの透過係数S 12 及びS 21 から、Re(S 12 )xRe(S 21 )又はIm(S 12 )xIm(S 21 )が極値となるようにY軸の位置を決定し、
前記決定されたY軸の位置における前記対向する一対の前記高周波プローブの中点を前記平面回路のシグナル領域の電気的中点の基準位置として校正することを特徴とする請求項5に記載の高周波特性検査装置。 - 離間して形成されたシグナル領域およびグランド領域を有する平面回路の電気的特性をその先端を前記平面回路の表面に接触させて高周波を放出して得たSパラメータにより検査する一対の高周波プローブと、
前記平面回路を載置する可動ステージと、
当該可動ステージのX、Y、Z軸の稼動を制御するステージコントローラと、
を備え、
前記高周波プローブはその先端に前記グランド領域に接触するグランド端子と前記シグナル領域に前記グランド端子と同時に接触するシグナル端子とを備え、
前記一対の高周波プローブは所定の間隔で対向して前記平面回路の表面に同時に接触するように構成されており、
前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置の校正を、対向する一対の前記高周波プローブの各シグナル端子が前記シグナル領域において接触して前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射特性に基づいて決定する電気的中点において行う高周波特性検査装置であって、
前記平面回路の前記シグナル領域において長手方向をX軸方向、短手方向をY軸方向、垂直方向をZ軸方向とした場合、
Z軸方向のコンタクト位置を決定し、
当該Z軸方向のコンタクト位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをX軸方向に稼動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、||S 11 |―|S 22 ||又は|S 11 |x|S 22 |が極値となるように前記一対の前記高周波プローブのX軸の位置を決定する
高周波特性検査装置。 - 決定された前記Z軸方向のコンタクト位置及び前記X軸の位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをY軸方向に移動して、
前記高周波を放出して得たSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、|S11|x|S22|が極値となるようにY軸の位置を決定し、
前記決定されたY軸の位置における前記対向する一対の前記高周波プローブの中点を前記平面回路のシグナル領域の電気的中点の基準位置として校正することを特徴とする請求項7に記載の高周波特性検査装置。 - 離間して形成されたシグナル領域およびグランド領域を有する平面回路の電気的特性をその先端を前記平面回路の表面に接触させて高周波を放出して得たSパラメータにより検査する一対の高周波プローブを備えた高周波特性検査装置を用いて前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置を校正する校正方法であって、
前記高周波プローブはその先端に前記グランド領域に接触するグランド端子と前記シグナル領域に前記グランド端子と同時に接触するシグナル端子とを備え、
前記一対の高周波プローブは所定の間隔で対向して前記平面回路の表面に同時に接触するように構成されており、
前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置の校正を、対向する一対の前記高周波プローブの各シグナル端子が前記シグナル領域において接触して前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射特性の実部又は虚部、もしくは、Sパラメータの透過特性の実部又は虚部に基づいて決定する電気的中点において行うことを特徴とする校正方法。 - 離間して形成されたシグナル領域およびグランド領域を有する平面回路の電気的特性をその先端を前記平面回路の表面に接触させて高周波を放出して得たSパラメータにより検査する一対の高周波プローブを備えた高周波特性検査装置を用いて前記平面回路の前記シグナル領域における前記一対の高周波プローブの基準位置を校正する校正方法であって、
前記高周波プローブはその先端に前記グランド領域に接触するグランド端子と前記シグナル領域に前記グランド端子と同時に接触するシグナル端子とを備え、
前記平面回路を載置する可動ステージ、その可動ステージのX、Y、Z軸の稼動を制御するステージコントローラを備え、前記一対の高周波プローブは所定の間隔で対向して前記平面回路の表面に同時に接触するように構成されており、
前記平面回路の前記シグナル領域において長手方向をX軸方向、短手方向をY軸方向、垂直方向をZ軸方向とした場合、
前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージをZ軸方向に稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射特性に基づいてZ軸方向のコンタクト位置を決定し、
決定された前記Z軸方向のコンタクト位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをX軸方向に稼動して、前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、||S11|―|S22||、または、|Re(S11)―Re(S22)|(Re(P)はPの実部)が極値となるように前記一対の前記高周波プローブのX軸の位置を決定し、
決定された前記Z軸方向のコンタクト位置及び前記X軸の位置において前記対向する一対の前記高周波プローブの各先端と前記シグナル領域とを接触させ、さらに前記ステージコントローラを制御し前記平面回路を載置する可動ステージを稼動して前記対向する一対の前記高周波プローブをY軸方向に移動して、前記高周波を放出して測定したSパラメータの反射係数S 11 及びS 22 から、|S11|x|S22|、または、Re(S11)xRe(S22)が極値となるようにY軸の位置を決定し、
前記決定されたY軸の位置における前記対向する一対の前記高周波プローブの中点を前記平面回路のシグナル領域の電気的中点の基準位置として前記一対の高周波プローブの基準位置を校正する校正方法。 - 請求項9又は10記載の校正方法を前記高周波特性検査装置に実行させるためのプログラム。
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