JP6757872B1 - フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤 - Google Patents

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Abstract

本発明は、RZrO3の組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むフェライト粒子、上記フェライト粒子を含む電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像用キャリア、及び電子写真現像剤を提供する。

Description

本発明は、フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤に関する。
電子写真現像方法は、現像剤中のトナーを感光体上に形成された静電潜像に付着させて現像する方法をいう。この方法で使用される現像剤は、トナーとキャリアからなる二成分系現像剤と、トナーのみを用いる一成分系現像剤とに分けられる。二成分系現像剤を用いた現像方法としては、古くはカスケード法等が採用されていたが、現在では、マグネットロールを用いる磁気ブラシ法が主流である。
磁気ブラシ法では、現像剤が充填されている現像ボックス内においてキャリアとトナーとを攪拌・混合することによって、トナーに電荷を付与する。そして、マグネットを保持する現像ロールによりキャリアを感光体の表面に搬送する。その際、キャリアにより、電荷を帯びたトナーが感光体の表面に搬送される。感光体上で静電的な作用によりトナー像が形成された後、現像ロール上に残ったキャリアは再び現像ボックス内に回収され、新たなトナーと撹拌・混合され、一定期間繰り返して使用される。
二成分系現像剤は、一成分系現像剤とは異なり、キャリア自体の磁気特性や電気特性をトナーと分離して設計することができるため、現像剤を設計する際の制御性がよい。そのため、二成分系現像剤は高画質が要求されるフルカラー現像装置及び画像維持の信頼性、耐久性が要求される高速印刷を行う装置等に適している。
近年、静電潜像を高精細に現像するためトナーの小粒径化が進められている。トナーの小粒径化に伴いキャリアも小粒径化されている。キャリアを小粒径化することで、キャリアとトナーとが撹拌・混合される際の機械的ストレスが軽減し、トナースペント等の発生を抑制することができるため、従来と比較すると現像剤は長寿命化している。しかしながら、キャリアを小粒径化するとキャリア飛散が生じやすくなり、白斑等の画像欠陥が生じやすくなる。
このような課題に対処するため、高磁化又は高抵抗なキャリアが種々提案されてきた。例えば、特許文献1には、(MnO)x(MgO)y(Fe)zの組成式で表され、MnO、MgO及びFeの一部がSrOで置換されたフェライト粒子において、x、y、zの量をそれぞれ所定の範囲内にすると共に、SrOの置換量を所定の量とすることにより、磁化が高く、磁化のバラツキを抑制したキャリアが提案されている。
また、特許文献2には、(MnO)x(MgO)y(Fe)zの組成式で表され、x,y,zの量が所定の範囲内であるフェライト成分と、このフェライト成分に固溶されていない所定量のZrOとを含むフェライト粒子をキャリア芯材とした、高抵抗なキャリアが提案されている。
特許文献1や特許文献2に開示されるように、高磁化又は高抵抗なキャリアを用いることで、キャリア飛散を抑制し、キャリア飛散に伴う画像欠陥を抑制することが可能になる。ところで、二成分系現像剤においては、画像濃度、カブリ、白斑、階調性、解像力等の画像特性が、初期の段階から所定の値を示し、しかもこれらの特性が耐刷期間中に変動せず、安定に維持されることが必要である。しかしながら、現像剤が使用される環境下における雰囲気温度及び雰囲気湿度は一定ではない。特に、抵抗は雰囲気温度や雰囲気湿度の影響を受けやすいため、現像剤の特性を安定に維持するには、抵抗の環境依存性の小さいキャリアが求められる。
そこで、特許文献3には、MnFe(3−x)の組成式で表されるフェライト成分を主成分としたキャリア芯材の表面を酸洗浄することにより、抵抗の環境依存性を小さくしたキャリアが提案されている。特許文献4には、(MnO)x(MgO)y(Fe)zの組成式で表され、且つ、Sr及びTiを含有するキャリアにおいて、組成比を所定の範囲内にすることで、高温高湿下においても抵抗の環境依存性を小さくしたキャリアが提案されている。特許文献5には、MnFeO4−x4+yの組成式で表されるコア組成を主成分とし、SiとMgとをそれぞれ所定量含有させたキャリア芯材を用いることにより、抵抗の環境依存性を小さくしたキャリアが提案されている。
日本国特許第3243376号公報 日本国特許第3872025号公報 日本国特許第5129079号公報 日本国特許第5850331号公報 日本国特許第5352729号公報
しかしながら、上記従来(特許文献1〜特許文献5に開示)のキャリア芯材等を用いたキャリアでは、依然として高温高湿環境下においてキャリア飛散を十分に抑制することは困難であった。キャリア飛散が生じると、上記画像欠陥が生じるだけではなく、飛散したキャリアが感光体や定着ローラに付着し、これらの損傷を招く。
そこで、本件発明の課題は、高温高湿環境下においてもキャリア飛散の発生を抑制することできるフェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤を提供することにある。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
[1]
RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むフェライト粒子。
[2]
前記RがSr、Ca及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素である[1]に記載のフェライト粒子。
[3]
X線回折パターンのリートベルト解析により当該フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときに、前記ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を0.05質量%以上2.50質量%以下含む[1]又は[2]に記載のフェライト粒子。
[4]
電極間距離2mm及び印加電圧500Vで測定したときの、低温低湿環境(10℃相対湿度20%)下での抵抗値Lの対数値(logΩ)と高温高湿環境(30℃相対湿度80%)下での抵抗値Hの対数値(logΩ)との比logL/logHが1.0以上1.15以下である[1]〜[3]のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
[5]
前記抵抗値Hが1.0×10(Ω)以上1.0×10(Ω)以下であり、且つ、1K・1000/4π・A/mの磁場をかけたときのVSM測定による飽和磁化が55emu/g以上65emu/g以下である[4]に記載のフェライト粒子。
[6]
(MO)a(Fe)b(但し、MはFe,Mg,Mn,Cu,Zn及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素、a+b=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とする[1]〜[5]のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
[7]
当該フェライト粒子は、(MnO)x(MgO)y(Fe)z(但し、15≦x≦50、2≦y≦35、45≦z≦60、x+y+z=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とする[1]〜[6]のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
[8]
[1]〜[7]のいずれか一項に記載のフェライト粒子を含む電子写真現像剤用キャリア芯材。
[9]
[1]〜[7]のいずれか一項に記載のフェライト粒子と、当該フェライト粒子の表面に設けられた樹脂被覆層とを備える電子写真現像剤用キャリア。
[10]
[9]に記載の電子写真現像剤用キャリアとトナーとを含む電子写真現像剤。
[11]
補給用現像剤として用いられる[10]に記載の電子写真現像剤。
本件発明によれば、高温高湿環境下においてもキャリア飛散の発生を抑制することできるフェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤を提供することができる。
フェライト粒子の断面を示す。
以下、本件発明に係るフェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤の実施の形態を説明する。なお、本明細書において、フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤は、特記しない限り、それぞれ個々の粒子の集合体、つまり粉体を意味するものとする。まず、フェライト粒子の実施の形態を説明する。また、以下では、本件発明に係るフェライト粒子は、主として、電子写真現像剤用キャリア芯材として用いられるものとして説明する。しかしながら、本件発明に係るフェライト粒子は磁性インク、磁性流体、磁性フィラー、ボンド磁石用フィラー及び電磁波シールド材用フィラー等の各種機能性フィラー、電子部品材料等の各種用途に用いることができ、当該フェライト粒子の用途は電子写真現像剤用キャリア芯材に限定されるものではない。
1.フェライト粒子及び電子写真現像剤用キャリア芯材
まず、本件発明に係るフェライト粒子の実施の形態を説明する。
1−1.ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分
本件発明に係るフェライト粒子は、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含む。
磁気ブラシ法に好適な二成分系の電子写真現像剤用キャリアとして、磁性粒子を芯材とし、その表面を樹脂で被覆した樹脂被覆キャリアが用いられている。芯材とする磁性粒子として、酸化第二鉄(Fe)を主成分とする磁性酸化物であるフェライト粒子が主として用いられている。キャリアの小粒径化に伴うキャリア飛散を抑制するには、高磁化及び高抵抗なフェライト粒子を芯材とすることが求められる。
近年、芯材には、Feの他に、Mg,Mn,Sr,Ca等の金属元素を含む多元フェライト粒子が広く用いられている。フェライトを製造する際には、目的とする組成の金属元素を含む金属酸化物や金属水酸化物等を原料として用いる。高磁化のフェライト粒子を得るには、原料のフェライト化反応を十分に進行させて、磁性を示さない未反応の原料(以下、「未反応原料」と称する。)がフェライト粒子中に残存しないようにすることが求められる。しかしながら、多元フェライトの場合、元素の組み合わせによってフェライトの生成温度や生成速度が異なり、フェライト反応は原料同士の接触面でしか進行しないため、一般的な焼成条件により、原料を完全にフェライト化することは困難である。そのため、フェライト粒子中には未反応原料が残存する。
また、フェライトの原料にはNa等のフェライト反応に関与しない金属又は金属化合物が不可避不純物として含まれる。これらの不可避不純物は磁性を示さない。そのため、高磁化のフェライト粒子を得るには、不可避不純物量を低減する必要がある。しかしながら、どのように純度の高い原料を用いても、原料中に不可避不純物は微量に存在し、不可避不純物を完全に除去することは現実的ではない。
さらに、フェライト粒子の組織構造に欠陥があると、フェライト粒子の磁化は低下する。磁化の低下要因となる構造欠陥として、フェライト粒子内の欠陥(例えば、格子欠陥等)が挙げられる。多元フェライトの場合、単元フェライトと比較すると、フェライト反応が複雑になるため、構造欠陥が生じやすい。
一方、フェライト粒子は金属酸化物からなるため、一般に、高抵抗である。しかしながら、表面に水分が付着すると、抵抗は低下する。また、原料に含まれるNa等のアルカリ金属を含む不可避不純物は雰囲気中の水分の存在により容易にイオン化する。そのため、フェライト粒子中の不可避不純物量が増加すると、フェライト粒子の抵抗は低くなる。また、不可避不純物量が増加すると、雰囲気湿度の変化によって抵抗が変動しやすくなる。
これらのことから、高抵抗であり、抵抗の環境依存性が小さいフェライト粒子を得るには、フェライト粒子中の不可避不純物量を低減する必要がある。しかしながら、上述のとおり、不可避不純物を完全に除去することは現実的ではない。なお、上記未反応原料(但し、不可避不純物を除く)は、金属酸化物であるため、未反応原料を含むことはフェライト粒子の低抵抗化の要因とはならない。
ところで、フェライト粒子は単結晶の集合体である多結晶体である場合が多い。フェライト粒子の組成が同じであっても、フェライト粒子の磁気特性や電気特性はフェライト粒子の組織構造によって変化する。そこで、本件発明者らは、フェライト粒子の組織構造に着目し、高磁化及び高抵抗を有し、且つ、抵抗の環境依存性の小さいフェライトを得るには、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むことが重要であることを見出し、本件発明に想到するに至った。
RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むことで、上記課題が解決できる理由は定かではないが、本件発明者らは以下のように推察する。
フェライト粒子の粒界には、未反応原料や不可避不純物などのフェライトと固溶しない成分が存在する。また、結晶粒の成長に伴い粒界に押し出されたこれらの成分はフェライト粒子の表面にも存在する。フェライト粒子を構成する結晶粒が大きいと、粒界は、フェライト粒子の表面における一点と他の点とを結ぶ流路のようにフェライト粒子内部に連続的に形成される。フェライト粒子の表面や粒界に存在する不可避不純物は容易にイオン化する。そのため、フェライト粒子内において連続的に形成された粒界に、Na等の不可避不純物が連続的に分布すると、水分がフェライト粒子の表面に付着すると粒界が導通路のようになり、フェライト粒子の抵抗は低下する。また、このような構造を有するフェライト粒子では、雰囲気湿度の変化によって、抵抗の変動も大きくなると考えられる。また、上述したとおり、フェライト粒子中の未反応原料や不可避不純物を完全に除去することは困難である。
一方、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分はフェライトと固溶しないため、当該結晶相成分はフェライト粒子の粒界に分散する。従って、当該結晶相成分を含むフェライト粒子は、当該結晶相成分を含まない場合と比較すると、フェライト粒子における粒界体積が相対的に増加する。フェライト粒子に含まれる不可避不純物量が同じであれば、フェライト粒子の粒界体積が相対的に増加すると、粒界における不可避不純物の分布密度は相対的に低下する。粒界には、不可避不純物の他、絶縁性物質である当該結晶相成分が存在する。本件発明に係るフェライト粒子では、粒子内に粒界が複雑に分布すると共に、粒界内に不可避性不純物や当該結晶相成分などの絶縁性物質が不連続に分布するため、粒界が導通路のように機能することを抑制することができる。そのため、本件発明に係るフェライト粒子によれば、抵抗の環境依存性を小さくすることができると考えられる。
なお、当該フェライト粒子において、RzOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むとは、少なくともフェライト粒子の内部に当該結晶相成分が含まれることをいい、フェライト粒子の内部における当該結晶相成分の分散が良好であることが好ましく、当該フェライト粒子の表面及び内部に当該結晶相成分が均一に分散していることがより好ましいものとする。
また、フェライト粒子における粒界体積が相対的に小さいと、不可避不純物が粒界から表面に押し出される結果、フェライト粒子表面に存在する不可避不純物量が相対的に多くなる。一方、フェライト粒子における粒界体積が相対的に大きいと、フェライト粒子の表面に存在する不可避不純物量を相対的に低減することができる。そのため、フェライト粒子を高抵抗化することができ、且つ、フェライト粒子表面の不可避不純物に起因する抵抗の環境依存性を小さくすることができる。
さらに、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分は絶縁性が高く、粒界や粒子表面に当該結晶相成分が存在することで、フェライト粒子の高抵抗化を図ることができる。さらに、当該結晶相成分を含むフェライト粒子を得るには、Zrを含む化合物(例えば、ZrO)を原料として用いる。例えば、多元フェライトがRを含む組成を有する場合、Rを含む原料と、Zrを含む化合物とが固相反応するため、フェライト粒子中の上記未反応原料の含有量を低減することができる。そのため、構造欠陥が生じるのも抑制することができ、相対的に高磁化のフェライト粒子を得ることができる。
このような理由から、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むフェライト粒子とすることで、上述した理由から、高磁化及び高抵抗であり、抵抗の環境依存性を小さくすることができると推察する。以下、本件発明に係るフェライト粒子についてより詳細に説明する。
(1)R(アルカリ土類金属元素)
本件発明において、Rは、Ca、Sr、Ba及びRaからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素、すなわちアルカリ土類金属元素である。アルカリ土類金属元素はジルコニウムよりもイオン半径が十分大きく、ジルコニウムとペロブスカイト型の結晶構造を形成する。本件発明において、Rは、Sr、Ca及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素であることがより好ましい。これらの元素は所定の温度条件でジルコニウムと固相反応し、ペロブスカイト型の結晶構造を形成する。そのため、フェライト粒子の製造工程において焼成温度を当該範囲内において制御することにより、本件発明に係るフェライト粒子を得ることができる。
(2)結晶相成分含有割合
X線回折パターンのリートベルト解析により当該フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときに、上記RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を0.05質量%以上2.50質量%以下含むことが好ましい。上記RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を当該範囲で含むことで、高磁化及び高抵抗であり、抵抗の環境依存性の良好なフェライト粒子を得ることができる。
上記RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分の含有割合が上記範囲内であると、当該フェライト粒子の内部に当該結晶相成分を均一に分散させることが容易になり、構造欠陥の発生を抑制したり、抵抗の環境依存性を小さくすることがより容易になる。また、上記範囲内とすることで、当該結晶相成分の偏析を抑制し、機械的ストレスを受けたときの割れや欠けが生じにくい強度の高いフェライト粒子を得ることができる。その結果、キャリア飛散も抑制することができる。さらに、上記範囲内で当該結晶相成分を含むことで、高磁化及び高抵抗であり、抵抗の環境依存性のより良好なフェライト粒子を得ることができる。
また、上記効果を得る上で、当該フェライト粒子は当該結晶相成分を0.10質量%以上含むことがより好ましく、0.15質量%以上含むことがさらに好ましく、0.20質量%以上含むことが特に好ましい。また、当該フェライト粒子は当該結晶相成分を2.00質量%以下含むことがより好ましく、1.75質量%以下含むことがさらに好ましく、1.50質量%以下含むことが特に好ましい。
なお、当該結晶相成分含有割合の測定方法については、後述の通り、実施例にて記載した。
(3)ジルコニウム含有割合
当該フェライト粒子はジルコニウムを0.1mol%以上3.0mol%以下含むことが好ましい。当該範囲内でジルコニウムを含むことにより、上記RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分の含有割合が概ね上記範囲内となり、高磁化及び高抵抗であり、抵抗の環境依存性の小さいフェライト粒子を得ることができる。当該フェライト粒子におけるジルコニウムの含有割合は0.2mol%以上であることがより好ましい。また、当該フェライト粒子におけるジルコニウムの含有割合は2.0mol%以下であることがより好ましく、1.5mol%以下であることがさらに好ましい。
(4)アルカリ土類金属元素含有割合
アルカリ土類金属元素(R)の含有割合は0.1mol%以上3.0mol%以下であることがより好ましい。当該範囲内でアルカリ土類金属元素(R)を含むことにより、上記RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分の含有割合が概ね上記範囲内となり、高磁化及び高抵抗であり、抵抗の環境依存性の小さいフェライト粒子を得ることができる。当該フェライト粒子におけるアルカリ土類金属元素(R)の含有割合は0.2mol%以上であることがより好ましい。また、当該フェライト粒子におけるアルカリ土類金属元素(R)の含有割合は2.0mol%以下であることがより好ましく、1.5mol%以下であることがさらに好ましい。
1−2.組成
当該フェライト粒子は、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含む限り、その組成は特に限定されるものではない。しかしながら、高磁化及び高抵抗のフェライト粒子を得るという観点から、当該フェライト粒子は、(MO)a(Fe)b(但し、MはFe,Mg,Mn,Cu,Zn及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素、a+b=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とすることが好ましい。フェライトはスピネル型結晶構造、マグネトプランバイト型結晶構造、ガーネット型結晶構造などの結晶構造を有するが、スピネル型結晶構造を有するフェライトは軟磁性を示し、抵抗などの電気特性の調整も容易であることから、電子写真現像剤用キャリア芯材に好適である。
なお、主成分とは、当該フェライト粒子が複数の結晶相成分(上記RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含む)を含む場合、それらの結晶相成分の中でスピネル結晶相が最も大きな割合を占めることをいい、特に当該スピネル結晶相成分が50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。スピネル相結晶相成分の含有量は、金属元素の組成によって決定することができ、後述するX線回折パターンのリートベルト解析により当該フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときに得られる質量分率とすることができる。
さらに、当該フェライト粒子は、(MnO)x(MgO)y(Fe)z(但し、15≦x≦50、2≦y≦35、45≦z≦60、x+y+z=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とすることがさらに好ましい。なお、主成分とは上述の通りである。
Mnを含む組成とすることにより、低磁場側の磁化を高くすることができる。また、Mnを含む組成とすることにより、本焼成後の炉出の際のフェライトの再酸化を防止することができる。特にMnの含有量を15mol%以上とすることで、相対的にFeの含有量が増加するのを抑制し、当該フェライト粒子中のマグネタイト成分の含有割合が大きくなるのを抑制することができる。そのため、低磁場側の磁化の低下を抑制し、キャリア付着の発生を抑制することができる。また、電子写真印刷を行う上で良好な抵抗値に調整することが容易になるため、カブリの発生や階調性の悪化、白抜け等の画像欠陥の発生を抑制することができる。さらに、トナー消費量を適正に保つことができる。
また、Mnの含有量を50mol%以下とすることで抵抗が高くなりすぎ、白抜け等の画像欠陥が発生するのを抑制できる
Mgを含む組成とすることにより、高抵抗のフェライト粒子を得ることができる。また、Mgの含有量を2mol%以上とすることで、Feの含有量に対してMnの含有量が適切になり、フェライト粒子の磁化や抵抗を電子写真印刷を行う上で良好な範囲内に調整することが容易になる。そのため、カブリの発生や階調性の悪化、はけ筋の発生、キャリア飛散等の画像欠陥の発生を抑制することができる。さらに、Mg原料として水酸化マグネシウムを用いたときに、当該フェライト粒子を製造する際の焼成温度が低いと、フェライト粒子に水酸基が残存する場合がある。Mgの含有量を35mol%以下とすることで、原料に起因して存在する残存水酸基の量を低減することができる。そのため、残存水酸基により当該フェライト粒子の帯電量や抵抗といった電気的特性が雰囲気湿度の影響を受けて変動するのを抑制し、当該フェライト粒子の電気的特性の環境依存性をより良好にすることができる。
当該フェライト粒子は酸化第二鉄を主成分とする磁性酸化物である。従って、x<zを満たすことが前提となる。Feの含有量を45mol%以上60mol%以下とすることで、フェライト粒子の磁化や抵抗を電子写真印刷を行う上で良好な範囲内に調整することが容易になる。
1−3.磁気特性
当該フェライト粒子を電子写真現像剤用キャリアの芯材として用いる場合、1K・1000/4π・A/mの磁場をかけたときのVSM測定による飽和磁化が55emu/g以上65emu/g以下であることが好ましい。飽和磁化が55emu/g以上になると、芯材の磁力が高く、低磁化に起因するキャリア飛散を良好に抑制することができる。また、飽和磁化と電気抵抗はトレードオフの関係にあるが、フェライト粒子の飽和磁化が当該範囲内であると、両者のバランスが良好になり高画質の電子写真印刷を良好に行うことのできる電子写真現像剤を得ることができる。また、磁化が高くとも抵抗が低いと、低抵抗に起因するキャリア飛散が生じることがある。飽和磁化を65emu/g以下とすることで、低抵抗に起因するキャリア飛散も良好に抑制することができる。
飽和磁化は、振動試料型磁気測定装置(型式:VSM−C7−10A(東英工業社製))を用いて測定した。具体的な測定手順は後述の実施例に記載される手順にて測定した。
1−4.電気的特性
(1)抵抗の環境変動比(logL/logH)
電極間距離2mm及び印加電圧500Vで測定したときの、低温低湿環境(10℃相対湿度20%)下での抵抗値Lの対数値(logΩ)と高温高湿環境(30℃相対湿度80%)下での抵抗値Hの対数値(logΩ)との比logL/logH(以下、「抵抗の環境変動比(logL/logH)」ともいう)が1.0以上1.15以下であることが好ましく、1.0以上1.10以下であることがより好ましい。抵抗の環境変動比(logL/logH)が当該範囲内であると、雰囲気湿度が変化したときの抵抗の変動が少なく、高温高湿環境下においてもキャリア飛散の発生を抑制することでき、高画質の電子写真印刷を高温高湿下においても良好に行うことができる。
フェライト粒子について、低温低湿環境(10℃相対湿度20%)下での抵抗値L(Ω)、高温高湿環境(30℃相対湿度80%)下での抵抗値H(Ω)、及び、抵抗の環境変動比(logL/logH)は、後述の実施例に記載される方法にて測定した。
(2)抵抗値H
上記抵抗値Hは1.0×10(Ω)以上1.0×10(Ω)以下であることが好ましい。高温高湿下における当該フェライト粒子の抵抗値が当該範囲内であると、高温高湿環境下においてもキャリア飛散の発生を抑制することができる。
好ましい一態様として、フェライト粒子の抵抗値Hは1.0×10(Ω)以上1.0×10(Ω)以下であり、且つ、1K・1000/4π・A/mの磁場をかけたときのVSM測定による飽和磁化が55emu/g以上65emu/g以下であることが好ましい
1−5.物性
(1)体積平均粒径(D50
当該フェライト粒子を電子写真現像剤用キャリアの芯材として用いる場合、その体積平均粒径(D50)は24μm以上40μm以下であることが好ましい。但し、ここでいう体積平均粒径は、レーザ回折・散乱法によりJIS Z 8825:2013に準拠して測定した値をいう。
体積平均粒径(D50)は、日機装株式会社製マイクロトラック粒度分析計(Model9320−X100)を用いて、後述の実施例に記載される方法にて測定した。
体積平均粒径が当該範囲内であると、トナーに対する帯電付与性が高く、長期間に亘って当該帯電付与性を維持することができる。そのため、電子写真現像剤の長寿命化を図ることができる。
これに対して、当該フェライト粒子の体積平均粒径(D50)が24μm未満であると、粒径が小さいため、キャリア飛散が生じやすくなる。また、当該フェライト粒子の体積平均粒径(D50)が24μm未満であると、粒径が小さいため、当該フェライト粒子が凝集しやすくなる。当該フェライト粒子を芯材とし、その表面に樹脂を被覆してキャリアとする際に、当該フェライト粒子が凝集していると、個々のフェライト粒子の表面を良好に樹脂で被覆することができなくなる。その後、現像剤の製造時或いは使用時に、フェライト粒子の凝集がほぐれると、当該現像剤は樹脂が被覆されていない領域の大きいキャリアの含有率が高くなる。そのため、このようなフェライト粒子を芯材とするキャリアを用いて現像剤を製造すると、トナーに対する十分な帯電付与性を得られない場合があるため好ましくない。
一方、当該フェライト粒子の体積平均粒径(D50)が40μmを超えると、当該粉体を構成する一つ一つの粒子の粒径が大きくなる。そのため、体積平均粒径(D50)が小さいフェライト粒子と比較すると、粉体全体としてみたときにトナーとの摩擦帯電に寄与するキャリアの表面積が小さくなる。そのため、トナーに対する十分な帯電付与性が得られなくなる場合がある。これを改善するために、個々のフェライト粒子の表面に凹凸を付与して、個々のフェライト粒子の表面積を増加させると、トナーとの摩擦帯電に寄与するキャリアの表面積を増加させることができる。この場合、トナーに対する帯電付与性は向上するが、トナーとの混合時等にキャリア表面の凸部に機械的ストレスが加わるなどして、キャリアの割れ・欠けが生じやすくなるため好ましくない。すなわち、現像剤使用時におけるキャリアの強度を維持することができない場合があり、好ましくない。
(6)BET比表面積
当該フェライト粒子のBET比表面積は0.050以上0.600以下であることが好ましい。BET比表面積が0.050未満である場合は、粒径に対するフェライト粒子表面の凹凸が少なく、或いは、小さくなるため、当該フェライト粒子を芯材としてその表面を樹脂で被覆した際に、樹脂層がトナーとの混合時等に剥離し易くなる。キャリアの表面から樹脂が剥離すると、その部分は芯材が露出する。すなわち、フェライト粒子の表面が露出するため、キャリア飛散や帯電性低下による画像欠陥が生じ易くなる。また、BET比表面積が0.600を超えると、粒径に対するフェライト粒子表面の凹凸が多く、或いは、大きくなるため、フェライト粒子の凸部を樹脂で被覆することが困難になり、凸部が露出する場合がある。そのため、トナーに対する十分な帯電付与性を有するキャリアを得ることができない場合がある。また、表面の凹凸が大きくなると、トナーとの混合時等にキャリア表面の凸部に機械的ストレスが加わるなどして、キャリアの割れ・欠けが生じやすくなるため好ましくない。すなわち、現像剤使用時におけるキャリアの強度を維持することができない場合があり、好ましくない。
フェライト粒子のBET比表面積は、比表面積測定装置(Macsorb HM model−1208、株式会社マウンテック)を用いて、後述の実施例に記載される方法にて測定した。
2.電子写真現像剤用キャリア
次に、本件発明に係る電子写真現像剤用キャリアについて説明する。本発明に係る電子写真現像剤用キャリアは、上記フェライト粒子と、当該フェライト粒子の表面に設けられた樹脂被覆層とを備える。すなわち、上記フェライト粒子は、電子写真現像剤用キャリアの芯材として用いられる。
電子写真現像剤用キャリア芯材は、上記フェライト粒子を含む。フェライト粒子については上述したとおりであるため、ここでは主として樹脂被覆層について説明する。
(1)被覆樹脂の種類
樹脂被覆層を構成する樹脂(被覆樹脂)の種類は、特に限定されるものではない。例えば、フッ素樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フッ素アクリル樹脂、アクリル−スチレン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることができる。また、シリコーン樹脂等をアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂等の各樹脂で変性した変成シリコーン樹脂等を用いてもよい。例えば、トナーとの撹拌混合時に受ける機械的ストレスによる樹脂剥離を抑制するという観点からは、被覆樹脂は熱硬化性樹脂であることが好ましい。当該被覆樹脂に好適な熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂及びそれらを含有する樹脂等が挙げられる。但し、上述のとおり、被覆樹脂の種類は特に限定されるものではなく、組み合わせるトナーの種類や使用環境等に応じて、適宜適切なものを選択することができる。
また、1種類の樹脂を用いて樹脂被覆層を構成してもよいし、2種類以上の樹脂を用いて樹脂被覆層を構成してもよい。2種類以上の樹脂を用いる場合は、2種類以上の樹脂を混合して1層の樹脂被覆層を形成してもよいし、複数層の樹脂被覆層を形成してもよい。例えば、フェライト粒子の表面に、フェライト粒子と密着性の良好な第一の樹脂被覆層を設け、当該第一の樹脂被覆層の表面に、当該キャリアに所望の帯電付与性能を付与するための第二の樹脂被覆層を設けることなども好ましい。
(3)樹脂被覆量
フェライト粒子の表面を被覆する樹脂量(樹脂被膜量)は、芯材として用いるフェライト粒子に対して0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。当該樹脂被覆量が0.1質量%未満であると、フェライト粒子の表面を樹脂で十分被覆することが困難になり、所望の帯電付与能力を得ることが困難になる。また、当該樹脂被覆量が10質量%を超えると、製造時にキャリア粒子同士の凝集が発生してしまい、歩留まり低下等の生産性の低下と共に、実機内での現像剤の流動性或いは、トナーに対する帯電付与性等の現像剤特性が変動するため好ましくない。
(4)添加剤
樹脂被覆層には、導電剤や帯電制御剤等のキャリアの電気抵抗や帯電量、帯電速度をコントロールすることを目的とした添加剤が含まれていてもよい。導電剤としては、例えば、導電性カーボン、酸化チタンや酸化スズ等の酸化物、又は、各種の有機系導電剤を挙げることができる。但し、導電剤の電気抵抗は低いため、導電剤の添加量が多くなりすぎると、電荷リークを引き起こしやすくなる。そのため、導電剤の含有量は、被覆樹脂の固形分に対して0.25質量%以上20.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15.0質量%以下であることがより好ましく、1.0質量%以上10.0質量%以下であることがさらに好ましい。
帯電制御剤としては、トナー用に一般的に用いられる各種の帯電制御剤や、シランカップリング剤が挙げられる。これらの帯電制御剤やカップリング剤の種類は特に限定されないが、ニグロシン系染料、4級アンモニウム塩、有機金属錯体、含金属モノアゾ染料等の帯電制御剤や、アミノシランカップリング剤やフッ素系シランカップリング剤等を好ましく用いることができる。帯電制御剤の含有量は、被覆樹脂の固形分に対して好ましくは0.25質量%以上20.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15.0質量%以下であることがより好ましく、1.0質量%以上10.0質量%以下であることがさらに好ましい。
3.電子写真現像剤
次に、本件発明に係る電子写真現像剤の実施の形態について説明する。当該電子写真現像剤は、上記電子写真現像剤用キャリアとトナーとを含む。
当該電子写真現像剤を構成するトナーとして、例えば、重合法により製造される重合トナー及び粉砕法によって製造される粉砕トナーのいずれも好ましく用いることができる。これらのトナーは各種の添加剤を含んでいてもよく、上記キャリアと組み合わせて電子写真現像剤として使用することができる限り、どのようなものであってもよい。
トナーの体積平均粒径(D50)は2μm以上15μm以下であることが好ましく、3μm以上10μm以下であることがより好ましい。トナーの体積平均粒径(D50)が当該範囲内であると、高画質な電子写真印刷を行うことができる電子写真現像剤を得ることができる。
キャリアとトナーとの混合比、すなわちトナー濃度は、3質量%以上15質量%以下であることが好ましい。トナーを当該濃度で含む電子写真現像剤は、所望の画像濃度が得られやすく、カブリやトナー飛散をより良好に抑制することができる。
一方、当該電子写真現像剤を補給用現像剤として用いることができる。この場合には、キャリア1質量部に対してトナー2質量部以上50質量部以下であることが好ましい。
当該電子写真現像剤は、磁気ドラム等にキャリアを磁力により吸引付着させてブラシ状にしてトナーを搬送し、バイアス電界を付与しながら、感光体上等に形成された静電潜像にトナーを付着させて可視像を形成する磁気ブラシ現像法を適用した各種電子写真現像装置に好適に用いることができる。当該電子写真現像剤は、バイアス電界を付与する際に、直流バイアス電界を用いる電子写真現像装置だけでなく、直流バイアス電界に交流バイアス電界を重畳した交番バイアス電界を用いる電子写真現像装置にも用いることができる。
4.製造方法
以下では、本件発明に係るフェライト粉、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤の製造方法について説明する。
4−1.フェライト粉及び電子写真現像剤用キャリア芯材
本件発明に係るフェライト粉及び電子写真現像剤用キャリア芯材は、次のようにして製造することができる。
まず、所望のフェライト組成となるように原料を適量秤量した後、ボールミル又は振動ミル等で0.5時間以上、好ましくは1時間以上20時間以下粉砕混合し、仮焼成する。
例えば、(MnO)x(MgO)y(Fe)z(但し、15≦x≦50、2≦y≦35、45≦z≦60、x+y+z=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とするフェライト粒子を製造するには、x、y、zが所望の値となるように、それぞれの原料を秤量し、粉砕混合する。原料としては、例えば、Feと、Mg(OH)及び/又はMgCOと、MnO、Mn、Mn及びMnCOからなる群から選ばれる1種類以上のマンガン化合物を用いることが好ましい。
本件発明に係るフェライト粒子は、RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含む。そのため、アルカリ土類金属元素(R)については、アルカリ土類金属元素(R)の酸化物を原料とし、所望の添加量となるように秤量し、他の原料と粉砕混合する。Zrについては、ZrOを原料とすることができる。
ここで、当該ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を0.05質量%以上2.50質量%以下(但し、X線回折パターンのリートベルト解析により当該フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときに得られる質量分率とする)含むフェライト粒子を製造する際には、モル比で主成分原料:100に対して、ZrO:0.1以上3.0以下配合することが好ましく、ZrO:0.2以上1.5以下配合することがより好ましい。また、モル比で主成分原料:100に対してアルカリ土類金属元素(R)の酸化物:0.1以上3.0以下配合することが好ましく、ZrO:0.2以上1.5以下配合することがより好ましい。当該ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分はアルカリ土類金属元素(R)の酸化物と、ZrOとの固相反応により生じる。そのため、アルカリ土類金属元素(R)の酸化物及びZrOの添加量及び添加比率を上記好ましい配合量の範囲内において適宜変化させることにより、当該ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分の生成量を調整することができる。
本件発明に係るフェライト粒子を製造する際に、所望の添加量となるようにZrOを秤量し、他の原料と粉砕混合してもよいが、ZrO以外の原料を粉砕、混合し、大気下で仮焼成した後に、ZrOを加え、さらに粉砕混合することも好ましい。ここでは、ZrO以外の原料を粉砕混合した粉砕物を加圧成形機等を用いてペレット化した後、大気下で700℃以上1200℃以下の温度で仮焼成した後に、ZrOを加えるものとして以下説明する。
他の原料を粉砕混合し、仮焼成した後、得られた仮焼物に所定量のZrOを加え、さらにボ−ルミル又は振動ミル等で粉砕した後、水を加えてビーズミル等を用いて微粉砕し、スラリーを得る。メディアとして使用するビーズの径、組成、粉砕時間を調整することによって、粉砕度合いをコントロールすることができる。原料を均一に分散させる上で、1mm以下の粒径を持つ微粒なビーズをメディアとして使用することが好ましい。また、原料を均一に分散させる上で、粉砕物の体積平均粒径(D50)が2.5μm以下になるように粉砕することが好ましく、2.0μm以下になるように粉砕することがより好ましい。加えて、二酸化ジルコニウムを内部に均一に分散するために、原料の粉砕混合時に二酸化ジルコニウムを加えることが望ましい。また、異常粒成長を抑制するため、粒度分布の粗目側の粒径(D90)は3.5μm以下になるように粉砕することが好ましい。このようにして得られたスラリーに、必要に応じて分散剤、バインダー等を添加し、2ポイズ以上4ポイズ以下に粘度調整することが好ましい。この際、バインダーとしてポリビニルアルコールやポリビニルピロリドンを用いることができる。
上記のように調整されたスラリーを、スプレードライヤーを用いてスラリーを噴霧し、乾燥させることで造粒物を得る。この際、造粒条件としては、吐出量を20Hz以上50Hz以下、アトマイザーディスク回転数を11000rpm以上20000rpm以下、乾燥温度を100℃以上500℃以下の範囲とすることが好ましい。
次に、上記造粒物を焼成する前に分級し、当該造粒物に含まれる微細粒子を除去することが粒度の揃ったフェライト粉を得る上で好ましい。造粒物の分級は、既知の気流分級や篩等を用いて行うことができる。
次に、分級された造粒物を焼成する。造粒物は必要に応じて一次焼成した後に、本焼成を行うことが好ましい。一次焼成を行う場合、その焼成温度は600℃以上900℃以下にすることが好ましい。
また、本焼成は、不活性雰囲気又は弱酸化性雰囲気下で、850℃以上の温度で4時間以上24時間以下保持することにより、行うことが好ましい。但し、本焼成温度は、本件発明に係るフェライト粒子が得られる限り、特に限定されるものではない。ここで、不活性雰囲気又は弱酸化性雰囲気下とは、窒素と酸素の混合ガス雰囲気下において酸素濃度が0.1体積%(1000ppm)以上5体積%(50000ppm)以下であることをいい、雰囲気酸素濃度が0.1体積%(1000ppm)以上3.5体積%(35000ppm)以下であることがより好ましく、0.1体積%(1000ppm)以上2.5体積%(25000ppm)以下であることがさらに好ましい。
例えば、(MnO)x(MgO)y(Fe)z(但し、15≦x≦50、2≦y≦35、45≦z≦60、x+y+z=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とするフェライト粒子を製造するには、スピネル型結晶からなるフェライト成分を十分に生成させつつ、粒界にジルコニウム成分を分散させるためにスピネル型結晶からなるフェライト成分の生成に適した温度(850℃以上1150℃以下)で3時間以上保持し、その後、例えば、ジルコン酸ストロンチウムなどのRZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を生成させるために適した温度で1時間以上保持することにより本焼成を行うことがより好ましい。
例えば、ジルコン酸ストロンチウム(SrZrO)の場合、ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を十分に生成させるためには、1150℃以上1500℃以下、好ましくは1150℃以上1350℃以下の温度で1時間以上保持することが好ましい。ジルコン酸カルシウム(CaZrO)やジルコン酸バリウム(BaZrO)の場合、原料を微粉砕すると共に反応促進剤を添加した上で所定の温度下で焼成することが好ましい。ジルコン酸カルシウム(CaZrO)やジルコン酸バリウム(BaZrO)のペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を生成させるには、反応促進剤を添加しない場合には、2000℃以上の高温で焼成する必要がある。一方、原料を数十ナノメートル程度の一次粒径まで微粉砕し、反応促進剤としてアルミニウム化合物(例えば、アルミナ(Al)等)等を添加することで、1500℃以下の温度でもこれらのペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を生成させることができる。このように目的とする組成に応じて、ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を生成する上で適した温度で保持すると共に、必要に応じてその他の条件を調整することで本件発明に係るフェライト粒子を得ることができる。
なお、本焼成を行う際は、ロータリーキルンのように、造粒物(被焼成物)を流動させながら熱間部を通過させるような形式の焼成炉よりも、トンネルキルン或いはエレベータキルン等のように造粒物をコウ鉢等に入れて静置した状態で熱間を通過させるような形式の焼成炉で行うことが好ましい。ロータリーキルン等のように造粒物を流動させながら熱間部を通過させる形式の焼成炉では、焼成雰囲気の酸素濃度が低いと、造粒物が熱間部を通過する際に炉の内面に付着し、その内側を流動しながら通過する造粒物に十分に熱を加えることができない場合がある。その場合、造粒物を十分に焼結することができないまま、造粒物が熱間部を通過するため、得られた焼成物は表面の焼結は十分に行われていても、内部の焼結が不十分であることが多い。そのような焼成物は電子写真現像剤用キャリア芯材として要求される強度を満たさない他、内部におけるフェライト反応が不十分であるため、電子写真現像剤用キャリア芯材として要求される磁気特性及び電気特性を満たさない場合がある。さらに、焼成物の内部の焼結が不十分である場合、焼成工程においてRZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を十分に生成させることができない。そのため、本件発明に係るフェライト粒子を得ることが困難になる。
一方、造粒物をコウ鉢等に入れて静置した状態で熱間部を通過させる形式の焼成炉で造粒物を焼成すれば、被焼成物の内部を十分に焼結させることができるため、高磁化及び高抵抗であり、且つ、RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分が十分に生成されたフェライト粒子を得ることが容易になる。これらの理由から、本焼成工程を行う際には、トンネルキルン、エレベータキルン等を用いることが好ましい。
その後、焼成物を解砕、分級を行ってフェライト粒子を得る。分級方法としては、既存の風力分級、メッシュ濾過法、沈降法等を用いて所望の粒子径に粒度調整する。乾式回収を行う場合は、サイクロン等で回収することも可能である。粒度調整を行う際は前述の分級方法を2種類以上選んで実施してもよく、1種類の分級方法で条件を変更して粗粉側粒子と微粉側粒子を除去してもよい。
その後、必要に応じて、フェライト粒子の表面を低温加熱することで表面酸化処理を施し、フェライト粒子の表面抵抗を調整することができる。表面酸化処理は、ロータリー式電気炉、バッチ式電気炉等を用い、大気等の酸素含有雰囲気下で、400℃以上730℃以下、好ましくは450℃以上650℃以下でフェライト粒子に熱処理を施すことにより行うことができる。表面酸化処理時の加熱温度が400℃よりも低い場合は、フェライト粒子表面を十分に酸化することができず、所望の表面抵抗特性が得られない場合がある。一方、加熱温度が730℃よりも高い場合、マンガン含有フェライトでは、マンガンの酸化が進みすぎ、フェライト粒子の磁化が低下するため好ましくない。フェライト粒子の表面に均一に酸化被膜を形成するには、ロータリー式電気炉を用いることが好ましい。但し、当該表面酸化処理は任意の工程である。
4−2.電子写真現像剤用キャリア
本件発明に係る電子写真現像剤用キャリアは、上記フェライト粒子を芯材とし、当該フェライト粒子の表面に樹脂被覆層を設けたものである。樹脂被覆層を構成する樹脂は上述したとおりである。フェライト粒子の表面に樹脂被覆層を形成する際には、公知の方法、例えば刷毛塗り法、流動床によるスプレードライ法、ロータリドライ方式、万能攪拌機による液浸乾燥法等を採用することができる。フェライト粒子の表面に対する樹脂の被覆面積の割合(樹脂被覆率)を向上させるためには、流動床によるスプレードライ法を採用することが好ましい。いずれの方法を採用する場合であっても、フェライト粒子に対して、1回又は複数回樹脂被覆処理を行うことができる。樹脂被覆層を形成する際に用いる樹脂被覆液には、上記添加剤を含んでいてもよい。また、フェライト粒子表面における樹脂被覆量は上述したとおりであるため、ここでは説明を省略する。
フェライト粒子の表面に樹脂被覆液を塗布した後、必要に応じて、外部加熱方式又は内部加熱方式により焼き付けを行ってもよい。外部加熱方式では、固定式又は流動式の電気炉、ロータリー式電気炉、バーナー炉などを用いることができる。内部加熱方式では、マイクロウェーブ炉を用いることができる。被覆樹脂にUV硬化樹脂を用いる場合は、UV加熱器を用いる。焼き付けは、被覆樹脂の融点又はガラス転移点以上の温度で行うことが求められる。被覆樹脂として、熱硬化性樹脂又は縮合架橋型樹脂等を用いる場合は、これらの樹脂の硬化が十分進む温度で焼き付ける必要がある。
4−3.電子写真現像剤
次に、本発明に係る電子写真現像剤の製造方法について説明する。
本発明に係る電子写真現像剤は、上記電子写真現像剤用キャリアとトナーとを含む。トナーは上述したとおり、重合トナー及び粉砕トナーのいずれも好ましく用いることができる。
重合トナーは、懸濁重合法、乳化重合法、乳化凝集法、エステル伸長重合法、相転乳化法等の公知の方法で製造することができる。例えば、界面活性剤を用いて着色剤を水中に分散させた着色分散液と、重合性単量体、界面活性剤及び重合開始剤を水性媒体中で混合撹拌し、重合性単量体を水性媒体中に乳化分散させて、撹拌、混合しながら重合させた後、塩析剤を加えて重合体粒子を塩析させる。塩析によって得られた粒子を、濾過、洗浄、乾燥させることにより、重合トナーを得ることができる。その後、必要により乾燥されたトナー粒子に外添剤を添加してもよい。
さらに、この重合トナー粒子を製造するに際しては、重合性単量体、界面活性剤、重合開始剤、着色剤等を含むトナー組成物を用いる。当該トナー組成物には、定着性改良剤、帯電制御剤を配合することができる。
粉砕トナーは、例えば、バインダー樹脂、着色剤、帯電制御剤等を、例えばヘンシェルミキサー等の混合機で充分混合し、次いで二軸押出機等で溶融混練して均一分散し、冷却後に、ジェットミル等により微粉砕化し、分級後、例えば風力分級機等により分級して所望の粒径のトナーを得ることができる。必要に応じて、ワックス、磁性粉、粘度調節剤、その他の添加剤を含有させてもよい。さらに分級後に外添剤を添加することもできる。
次に、実施例および比較例を示して本件発明を具体的に説明する。但し、本件発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
(1)フェライト粒子
実施例1では、(MnO)x(MgO)y(Fe)zの組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とし、SrZrOの組成式(R=Sr)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むフェライト粒子を次のようにして製造した。まず、主成分原料として、モル比でMnO換算:38.3、MgO換算:10.4、Fe:51.3となるように、MnO原料、MgO原料及びFe原料をそれぞれ秤量した。また、モル比で主成分原料:100に対してSrO:0.8になるようにSrO原料を秤量した。ここで、MnO原料としては四酸化三マンガン、MgO原料としては酸化マグネシウム、Fe原料として酸化第二鉄、SrO原料としては炭酸ストロンチウムをそれぞれ用いた。
なお、本明細書において、「モル比で主成分原料:100に対して」における主成分原料は、「主成分原料の合計」を意味する。
次いで、秤量した原料を乾式のメディアミル(振動ミル、1/8インチ径のステンレスビーズ)で5時間粉砕し、得られた粉砕物をローラーコンパクターにより約1mm角のペレットにした。得られたペレットを目開き3mmの振動篩にり粗粉を除去し、次いで、目開き0.5mmの振動篩により微粉を除去した後、連続式電気炉で800℃で3時間加熱し、仮焼成を行った。次いで、乾式のメディアミル(振動ミル、1/8インチ径のステンレスビーズ)を用いて、平均粒径が約5μmになるまで粉砕した。このとき粉砕時間は6時間とした。
得られた粉砕物に、水と、ZrO原料としての二酸化ジルコニウムを加え、湿式のメディアミル(横型ビーズミル、1mm径のジルコニアビーズ)を用いて6時間粉砕した。このとき、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:1.0になるように、粉砕物に二酸化ジルコニウムを加えた。得られたスラリーの粒径(粉砕の一次粒子径)をレーザー回折式粒度分布測定装置(LA−950、株式会社堀場製作所)で測定したところ、D50は約2μm、D90は3.2μmであった。
さらに、上記のようにして調製したスラリーに分散剤を適量添加し、バインダーとしてPVA(ポリビニルアルコール)を固形分(スラリー中の仮焼成物量)に対して0.4質量%添加し、次いでスプレードライヤーにより造粒、乾燥した。得られた造粒物の粒度調整を行い、その後、ロータリー式電気炉を用い、大気雰囲気下で800℃、2時間加熱し、分散剤やバインダーといった有機成分の除去を行った。
その後、トンネル式電気炉により、焼成温度(保持温度)1250℃、酸素濃度0体積%雰囲気下で3時間保持することにより造粒物の本焼成を行った。このとき、昇温速度を100℃/時、冷却速度を110℃/時とした。得られた焼成物をハンマークラッシャーにより解砕し、さらにジャイロシフター(振動篩機)及びターボクラシファイア(気流分級機)により分級して粒度調整を行い、磁力選鉱により低磁力品を分別し、フェライト粒子を得た。
得られたフェライト粒子を、熱間部と、当該熱間部に後続する冷却部とを備えるロータリー式の電気炉により表面酸化処理を行い、続いて冷却することにより、表面酸化処理が施されたフェライト粒子を得た。表面酸化処理では、熱間部では大気雰囲気下、540℃でフェライト粒子の表面に酸化被膜を形成した。実施例1のフェライト粒子の主たる製造条件を表1に示す。
(2)電子写真現像剤用キャリア
上記フェライト粒子を芯材とし、当該フェライト粒子に対して、以下のようにアクリル樹脂を被覆して、実施例1のキャリアを得た。
まず、アクリル樹脂(ダイヤナールLR−269、三菱レイヨン株式会社製)とトルエンとを混合したアクリル樹脂溶液(樹脂固形分10質量%)を調製した。この樹脂溶液と上記実施例1のフェライト粒子とを万能撹拌機によって混合することによりフェライト粒子の表面を当該樹脂溶液で被覆した。その際、フェライト粒子に対して樹脂固形分が1.5質量%となる量の樹脂溶液を用いた。続いて、樹脂溶液が付着したフェライト粒子を熱交換型撹拌加熱装置を用い、145℃で3時間撹拌しながら加熱し、樹脂溶液に含まれる揮発成分を揮発させてフェライト粒子を乾燥させた。これにより、フェライト粒子の表面に樹脂被覆層を備える実施例1の電子写真現像剤用キャリアを得た。
(3)電子写真現像剤
上記電子写真現像剤用キャリアとトナーとをターブラミキサーを用いて30分間撹拌して混合し、1kgの現像剤(トナー濃度7.5重量%)を得た。ここで、トナーはフルカラープリンターに使用されている市販の負極性トナー(シアントナー、富士ゼロックス株式会社製DocuPrintC3530用;平均粒径約5.8μm)を用いた。
[実施例2]
本実施例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:3.00になるようにSrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1280℃にした点を除いて実施例1と同様にして、実施例2のフェライト粒子を製造した。実施例2の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[実施例3]
本実施例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:0.10になるようにSrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1215℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、実施例3のフェライト粒子を製造した。実施例3の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[実施例4]
本実施例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:3.00になるようにSrO原料を秤量した点と、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:0.10になるようにZrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1230℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、実施例4のフェライト粒子を製造した。実施例4の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[実施例5]
本実施例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:0.10になるようにSrO原料を秤量した点と、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:3.00になるようにZrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1270℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、実施例5のフェライト粒子を製造した。実施例5の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[実施例6]
本実施例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:3.00になるようにSrO原料を秤量した点と、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:3.00になるようにZrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1320℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、実施例6のフェライト粒子を製造した。実施例6の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[実施例7]
本実施例では、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1210℃にした点と、本焼成時の雰囲気酸素濃度を1.3体積%にした点と、表面酸化処理を行わなかった点とを除いて実施例1と同様にして、実施例7のフェライト粒子を製造した。実施例7の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例1]
本比較例では、ZrOを添加しなかった点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1280℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、比較例1のフェライト粒子を製造した。比較例1の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例2]
本比較例では、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:0.05になるようにZrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1200℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、比較例2のフェライト粒子を製造した。比較例2の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例3]
本比較例では、モル比で上記主成分原料:100に対してSrO:0.05になるようにSrO原料を秤量した点と、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:0.05になるようにZrO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1200℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、比較例3のフェライト粒子を製造した。比較例3の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例4]
本比較例では、SrOを添加しなかった点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1200℃にした点とを除いて実施例1と同様にして、比較例4のフェライト粒子を製造した。比較例4の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例5]
本比較例では、SrOを添加しなかった点と、モル比で上記主成分原料:100に対してZrO:3.00になるようにZrO原料を秤量した点とを除いて実施例1と同様にして、比較例5のフェライト粒子を製造した。比較例5の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例6]
本比較例では、SrO原料に代えてCaO原料を用いた点と、モル比で上記主成分原料:100に対してCaO換算:0.80になるようにCaO原料を秤量した点と、ZrOを添加しなかった点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1200℃にした点とを除いて実施例1と同様にして比較例6のフェライト粒子を製造した。なお、CaO原料としてCaCOを用いた。比較例6の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
[比較例7]
本比較例では、ZrO原料に代えてTiO原料を用いた点と、モル比で上記主成分原料:100に対してTiO:0.80molになるようにTiO原料を秤量した点と、本焼成時の焼成温度(保持温度)を1200℃にした点とを除いて実施例1と同様にして比較例7のフェライト粒子を製造した。比較例7の主たる製造条件を表1に示す。また、当該フェライト粒子を芯材として用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写真現像剤用キャリアを製造し、当該電子写真現像剤用キャリアを用いて電子写真現像剤を製造した。
〈評価〉
以上のようにして得た各実施例及び各比較例のフェライト粒子について、(1)ペロブスカイト型結晶相成分含有量、(2)飽和磁化、(3)BET比表面積、(4)抵抗について評価した。また、以上のようにして得た各実施例及び各比較例の電子写真現像剤を用いて、(5)キャリア飛散量を評価した。
以下、各評価方法/測定方法及び評価結果を述べる。
1.評価方法/測定方法
(1)ペロブスカイト型結晶相成分含有量(質量%)
各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子を試料とし、粉末X線回折パターンをリートベルト解析することにより、各フェライト粒子におけるRZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶相成分含有量を求めた。粉末X線回折パターンの波形分離では各結晶相の同定と定量を行うことが困難な場合があるが、結晶構造モデルに基づいたリートベルト解析により各相の同定と定量が可能になる。
X線回折装置(XRD)として、パナリティカル社製「X’PertPRO MPD」を用いた。X線源としてCo管球(CoKα線)を用いた。光学系として集中光学系及び高速検出器「X’Celarator」を用いた。測定条件は以下のとおりである。
スキャンスピード :0.08°/秒
発散スリット :1.0°
散乱スリット :1.0°
受光スリット :0.15mm
封入管の電圧及び電流値:40kV/40mA
測定範囲 :2θ=15°〜90°
積算回数 :5回
得られた測定結果を元に、「国立研究開発法人物質・材料研究機構、"AtomWork"(URL:http://crystdb.nims.go.jp/)」に開示の構造より結晶構造を以下の通り同定した。
A相:マンガンフェライト(スピネル型結晶)からなる結晶相
結晶構造: 空間群 F d -3 m (No. 227)
B相:RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相
結晶構造:空間群 P n m a (No. 62)
C相:二酸化ジルコニウム(ジルコニア)
結晶構造:空間群 P -4 2 m (No. 111)
次に解析用ソフト「RIETAN-FP v2.83(http://fujioizumi.verse.jp/download/download.html)」を用いて同定した結晶構造を精密化することで、質量換算の存在比率を各結晶相の相組成比として算出した。
プロファイル関数はThompson,Cox,Hastingの擬Voigt関数を使用しHowardの方法で非対称化を行った。フィッティングの正確さを表すRwp値,S値が各々Rwp:2%以下,S値:1.5以下であり、2θ=35〜37°に於いてB,C相のメインピークがフィッティングされていることを確認した上で、各パラメータの最適化を行った。
以上のようにして行ったX線回折パターンのリートベルト解析結果に基づき、フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときのペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分(B相)の含有量(質量%)を求めた。
(2)体積平均粒径(D50
体積平均粒径(D50)は、日機装株式会社製マイクロトラック粒度分析計(Model9320−X100)を用いて、次のようにして測定した。各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子を試料とし、各試料10gと水80mlを100mlのビーカーに入れ、分散剤(ヘキサメタリン酸ナトリウム)を2滴〜3滴添加し、超音波ホモジナイザー(SMT.Co.LTD.製UH−150型)を用い、出力レベル4に設定し、20秒間分散を行い、ビーカー表面にできた泡を取り除くことによりサンプルを調製し、当該サンプルを用いて、上記マイクロトラック粒度分析計によりサンプルの体積平均粒径を測定した。
(3)飽和磁化
飽和磁化は、振動試料型磁気測定装置(型式:VSM−C7−10A(東英工業社製))を用いて測定した。具体的な測定手順は次のとおりである。まず、各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子を試料とし、内径5mm、高さ2mmのセルに試料を充填し上記装置にセットした。そして、磁場を印加し、1K・1000/4π・A/m(=1kOe)まで掃引した。次いで、印加磁場を減少させ、記録紙上にヒステリシスカーブを作成した。このカーブのデータより印加磁場が1K・1000/4π・A/mにおける磁化を読み取り、飽和磁化とした。
(4)抵抗
各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子を試料とし、次の手順により低温低湿環境(10℃相対湿度20%)下での抵抗値L(Ω)と、高温高湿環境(30℃相対湿度80%)下での抵抗値H(Ω)と、抵抗の環境変動比(logL/logH)とを測定した。まず、電極間間隔2.0mmとし、非磁性の平行平板電極(10mm×40mm)を対向させて配置し、その間に試料を200mg充填した。試料は、平行平板電極に取り付けた磁石(表面磁束密度:1500Gauss、電極に接する磁石の面積:10mm×30mm)により平行平板電極間に保持させた。そして、互いに対向する平行平板電極間に500Vの電圧を印加し、エレクトロメータ(KEITHLEY社製、絶縁抵抗計model16517A)を用いて測定した。上記抵抗値L、上記抵抗値Hはそれぞれ低温低湿環境(10℃相対湿度20%)及び高温高湿環境(30℃相対湿度80%)に雰囲気温度及び湿度が調整された恒温恒湿室内に試料を12時間以上暴露した後、当該環境下において上記の手順により測定した抵抗値である。また、このように測定した抵抗値L及び抵抗値Hの対数値に基づき、下記式により抵抗の環境変動比(logL/logH)を求めた。表1には、各抵抗値L及びHの対数値(logL及びlogH)と、抵抗の環境変動比(logL/logH)を示す。
抵抗の環境変動比(logL/logH)=抵抗値Lの対数値/抵抗値Hの対数値
(5)BET比表面積
各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子を試料とし、次の手順により比表面積測定装置(Macsorb HM model−1208、株式会社マウンテック)を用いてBET比表面積を求めた。まず、ガラスシャーレに20g程度の試料を取り分けた後、真空乾燥機で−0.1MPaまで脱気した。脱気し、ガラスシャーレ内の真空度が−0.1MPa以下に到達していることを確認した後、200℃で2時間加熱した。これらの前処理を施した試料を上記比表面積測定装置専用の標準サンプルセルに約5〜7g収容した。標準サンプルセルに収容した試料の質量は精密天秤で正確に秤量した。そして、測定ポートに試料を収容した標準サンプルセルをセットし、温度10℃〜30℃、相対湿度20%〜80%で、1点法によりBET比表面積の測定を行った。測定終了時に試料の質量を入力し、算出された値をBET比表面積の測定値とした。
(6)キャリア飛散量
各実施例及び各比較例で製造した電子写真現像剤を用いて、キャリア飛散量を次のようにして評価した。高温高湿環境(30℃相対湿度80%)に雰囲気温度及び湿度が調整された恒温恒湿室内にてフルカラー電子写真現像機(Ricoh社製imagio MP C2500)を用いて、適性露光条件下で1000(1k)試験画像の印刷を行った後、ベタ画像を3枚印刷し、画像中のキャリア飛散量の合計を目視によってカウントした。
(7)Zr元素の分散度合い
各実施例及び各比較例で製造したフェライト粒子について、以下の式で定義するZr元素の分散度合いを測定した。
Zrの分散度合い=Zr(s)/Zr(c)
但し、
Zr(s):エネルギー分散型X線分析によって測定された粒子断面の表面部におけるZr量(質量%)
Zr(c):エネルギー分散型X線分析によって測定された粒子断面の中心部におけるZr量(質量%)
ここで、図1を参照しながら説明する。
フェライト粒子の断面(粒子断面)の中心部は、次のように定義する。粒子断面(例えば、SEM画像)における最大直径を線分Dxとしたとき、線分Dxの中点を粒子断面の中心Cとし、線分Dxの端点をそれぞれ点Pとする。そして、当該中心Cをその中心位置とし、一辺の長さが線分Dxの35%の長さである正方形を正方形Sとする。この正方形Sで囲まれた領域を中心部と定義する。
また、粒子断面の表面部は、次のように定義する。線分Dx上の点であって、点Pから中心Cに向かって線分Dxの長さの15%の距離の位置を点P’とする。そして、線分Dxの長さの35%の長さを有し、線分Dxに直交し、かつ点P又は点P’を中点とする線分を長辺とし、線分Dxの長さの15%の長さを有する線分を短辺とする長方形を長方形R1とする。本件発明では、フェライト粒子の断面において、この長方形R1で囲まれた領域を表面部と定義する。
このように定義した粒子断面の中心部及び表面部に対して、エネルギー分散型X線分析(EDX分析)を行い、各領域におけるZr元素の含有量を測定する。具体的な測定方法は以下のとおりである。
(a)フェライト粒子を樹脂包埋し、イオンミリングによる断面加工を施すことにより、測定用の断面試料を作製する。イオンミリングは、日立ハイテクノジーズ社製のIM4000PLUSを使用し、イオンビームの加速電圧を6.0kVとして、アルゴン雰囲気下で行う。ここで、分析対象とするフェライト単粒子は、当該フェライト単粒子が含まれるフェライト粒子(粉体)の体積平均粒径をD50としたとき、最大直径DxがD50×0.8≦Dx≦D50×1.2の範囲である粒子とする。
(b)得られた断面試料に対して、走査電子顕微鏡(SEM、日立ハイテクノジーズ社製SU8020)にて加速電圧を15kV、WDを15mmとして分析対象とするフェライト粒子の断面を観察する。このとき、視野の中に分析対象とするフェライト粒子1つのみが存在し、かつ粒子全体が視野内に収まるように倍率を設定する。
(c)そして、フェライト粒子断面の中心部及び表面部(上記定義した領域)に対してEDX分析を行う。EDX分析では、エネルギー分散型X線分析装置(堀場製作所製EMax X−Max50)によって、Fe、Mn、Mg、Sr及びZrを対象としてマッピング収集を行い、得られたX線スペクトルピークから各々の元素量(質量%)を算出する。得られた粒子断面の中心部におけるZr量を「Zr(c)」とし、粒子断面の表面部におけるZr量を「Zr(s)」とする。
そして、EDX分析によって得られた粒子断面の中心部におけるZr量(Zr(c))及び粒子断面の表面部におけるZr量(Zr(s))を、上述した式(1)に代入することにより、分析対象としたフェライト粒子のZrの分散度合いを得ることができる。
このとき、粒子断面の表面部におけるZr量については、長方形R1と同様に定義された長方形R2と、粒子断面の中心Cをとおり直線Dxに直行する直線Dyについて上記点P,P’と同様に定めた点Q,Q’に基づき定義した長方形R3及び長方形R4で囲まれた4つの領域を表面部と定義し、各領域におけるZr量の平均値とした。各長方形R1、R2、R3、R4は、粒子断面の輪郭に沿って略等間隔に配置されるようにした。
2.評価結果
表2に上記各評価項目の測定結果を示す。なお、表2において、ペロブスカイト型結晶相成分含有量(質量%)は、上記の通り粉末X線回折パターンをリートベルト解析することにより得られた値である。また、表2の抵抗値Hの欄において、B.D.は抵抗値が上記エレクトロメータの測定下限である2.5×10未満であることを意味する。
表2に示すように、実施例1〜実施例8のフェライト粒子は、原料として、アルカリ土類金属元素(R)を含む酸化物と、二酸化ジルコニウムとを用いることにより、RZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶相成分を0.06質量%〜2.48質量%含むフェライト粒子が得られることが確認された。一方、比較例1〜比較例7の製造方法では、当該ペロブスカイト型結晶相成分を含むフェライト粒子は得られなかった。また、実施例1〜実施例7のフェライト粒子におけるZrの分散度合いは1.0〜1.2と値が小さいことから、フェライト粒子内にペロブスカイト型結晶相成分が良好に分散していることが確認された。二酸化ジルコニウムに対するアルカリ土類金属元素(R)の配合量が他の実施例と比較すると少ない実施例3及び実施例5のフェライト粒子、或いは、二酸化ジルコニウムに対するアルカリ土類金属元素(R)の配合量が多い実施例4のフェライト粒子はペロブスカイト型結晶相成分の含有量が他の実施例と比較すると少なく、実施例3及び実施例5のフェライト粒子はZrの分散度合いも他の実施例と比較すると高くなった。
比較例1、比較例4〜比較例7では、原料としてアルカリ土類金属元素(R)を含む酸化物と、二酸化ジルコニウムのうちいずれか一方しか用いていない。そのため、比較例1、比較例4〜比較例7では上記ペロブスカイト型結晶相成分を含むフェライト粒子は得られない。一方、比較例2及び比較例3では、原料としてアルカリ土類金属元素(R)を含む酸化物と、二酸化ジルコニウムとを用いている。しかしながら、比較例2及び比較例3では、二酸化ジルコニウムの配合量がモル比で主成分原料:100に対して0.05と微量であり、この場合には上記ペロブスカイト型結晶相成分が生成されないことが確認された。
次に、飽和磁化及び抵抗値について検討する。実施例1のフェライト粒子と、比較例1及び比較例2のフェライト粒子は、ZrOの配合量を除くと、他の原料の配合量は同じである。しかしながら、実施例1のフェライト粒子は、比較例1及び比較例2のフェライト粒子と比較すると磁化が高く、抵抗値L及び抵抗値Hの対数値も高い。このことから略同様の組成を有するフェライト粒子であっても、粒界にRZrOの組成式で表されるペロブスカイト型結晶相成分を生成させることで、未反応原料の含有量が低減し、構造欠陥が生じるのを低減することができ、より高磁化のフェライト粒子が得られるものと考える。また、粒界に上記ペロブスカイト型結晶相成分を生成させることにより、上述した種々の要因からフェライト粒子の高抵抗化を図ることができると考える。
そして、実施例1〜実施例7のフェライト粒子いずれも上記ペロブスカイト型結晶相成分を含むことで、抵抗の環境変動比(logL/logH)が1.06〜1.14の範囲内にあり、抵抗の環境依存性を小さく抑えることができている。そのため、実施例1〜実施例7のフェライト粒子を用いて製造した電子写真現像剤ではキャリア飛散量が2個〜7個と少なく、高温高湿環境下においてもキャリア飛散を良好に抑制することができていることが確認された。一方、当該ペロブスカイト型結晶相成分を含まない比較例1〜比較例7のフェライト粒子を用いて製造した電子写真現像剤は抵抗の環境変動比が算出不能又は1.20〜1.36と大きく、抵抗の環境依存性がみられた。その結果、比較例1〜比較例7のフェライト粒子を用いて製造した電子写真現像剤ではキャリア飛散量が11個〜19個であり、高温高湿環境下においてキャリア飛散が生じやすくなることが確認された。
Figure 0006757872
Figure 0006757872
本件発明に係るフェライト粒子は、高磁化且つ高抵抗であり、抵抗の環境依存性が小さく、当該フェライト粒子をキャリア芯材として用いることにより、高温高湿環境下においてもキャリア飛散の発生を抑制することできる。そのため、従来に比して、長寿命な現像剤を得ることができ、且つ、感光体や定着ローラにキャリアが付着してこれらが損傷するのを抑制することができるため、電子写真現像装置の長寿命化を図ることができる。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2019年2月25日出願の日本特許出願(特願2019−031162)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (11)

  1. RZrOの組成式(但し、Rはアルカリ土類金属元素)で表されるペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を含むフェライト粒子。
  2. 前記RがSr、Ca及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素である請求項1に記載のフェライト粒子。
  3. X線回折パターンのリートベルト解析により当該フェライト粒子を構成する結晶相の相組成分析を行ったときに、前記ペロブスカイト型結晶からなる結晶相成分を0.05質量%以上2.50質量%以下含む請求項1又は請求項2に記載のフェライト粒子。
  4. 電極間距離2mm及び印加電圧500Vで測定したときの、低温低湿環境(10℃相対湿度20%)下での抵抗値Lの対数値(logΩ)と高温高湿環境(30℃相対湿度80%)下での抵抗値Hの対数値(logΩ)との比logL/logHが1.0以上1.15以下である請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
  5. 前記抵抗値Hが1.0×10(Ω)以上1.0×10(Ω)以下であり、且つ、1K・1000/4π・A/mの磁場をかけたときのVSM測定による飽和磁化が55emu/g以上65emu/g以下である請求項4に記載のフェライト粒子。
  6. (MO)a(Fe)b(但し、MはFe,Mg,Mn,Cu,Zn及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属元素、a+b=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
  7. 当該フェライト粒子は、(MnO)x(MgO)y(Fe)z(但し、15≦x≦50、2≦y≦35、45≦z≦60、x+y+z=100(mol%))の組成式で表されるスピネル型結晶からなる結晶相成分を主成分とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載のフェライト粒子。
  8. 請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載のフェライト粒子を含む電子写真現像剤用キャリア芯材。
  9. 請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載のフェライト粒子と、当該フェライト粒子の表面に設けられた樹脂被覆層とを備える電子写真現像剤用キャリア。
  10. 請求項9に記載の電子写真現像剤用キャリアとトナーとを含む電子写真現像剤。
  11. 補給用現像剤として用いられる請求項10に記載の電子写真現像剤。
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