JP6752061B2 - 基板搬送装置および基板搬送方法 - Google Patents
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Description
次に、本実施形態に係る基板搬送装置13(「第1搬送装置」の一例に相当)の構成について図3Aおよび図3Bを参照して説明する。図3Aは、基板搬送装置13の構成を示す斜視図である。図3Bは、基板搬送装置13の動作例を示す平面模式図である。
次に、本実施形態に係る保持部132の構成、および、保持部132によるウェハWの保持方法について、図3C〜図3Gを参照してより詳細に説明する。図3Cは、保持部132の構成を示す平面図である。また、図3Dは、図3Cに示すA−A’線略断面図である。
ところで、昇降パッド132cbは、制御部18により制御される昇降機構150の動作に基づいて昇降される点については既に述べたが、処理前後で確実にウェハWを支持部132cの異なる部位によって保持するためには、実際の昇降パッド132cbが制御部18の制御に基づく所望の昇降状態にあるか否かを検出することが好ましい。
次に、制御部18が基板搬送装置13や基板検出機構80等を制御して、ウェハWをキャリアCと受渡部14との間で搬送する搬送処理の処理手順について図5を参照して説明する。図5は、キャリアC〜受渡部14間のウェハWの搬送処理の処理手順を示すフローチャートである。なお、ここでは、ウェハWを搬送するごとに昇降パッド132cbの昇降状態が検出されるものとする。
ところで、これまでは、3つの昇降パッド132cbが、基準位置RPの中心位置CPから仮想的に描かれる同心円CCの円周上の等間隔位置に、言い換えれば、同心円CCの円周上の120°等分配された位置に設けられている場合を例に挙げた(図3C参照)。
次に、本実施形態に係る基板搬送装置17(「第2搬送装置」の一例に相当)の構成について図7Aを参照して説明する。図7Aは、基板搬送装置17の構成を示す平面図である。
ところで、一般に装置には、構成要素となる各機械部品に経年劣化等による不具合が生じる場合がある。基板処理システム1を例に取っても、例えば基板搬送装置13や基板搬送装置17、処理ユニット16の基板保持機構30等、ウェハWを処理する各種機能を実現するために様々な形で駆動機構が設けられた構成要素が存在する。
次に、制御部18が基板搬送装置13や基板搬送装置17等を制御して、ウェハWを受渡部14を介して搬送する搬送処理の処理手順について図8を参照して説明する。図8は、受渡部14を介した基板搬送装置13〜基板搬送装置17間のウェハWの搬送処理の処理手順を示すフローチャートである。
その他の実施形態について図9を参照して説明する。図9は、その他の実施形態に係る基板搬送装置13の構成を示す斜視図である。図9に示すように、その他の実施形態として基板搬送装置13は、例えば基台131に設けられるカメラ135を備えることができる。
CC 同心円
CP 中心位置
RP 基準位置
W ウェハ
1 基板処理システム
2 搬入出ステーション
3 処理ステーション
4 制御装置
11 キャリア載置部
12 搬送部
13 基板搬送装置
14 受渡部
15 搬送部
16 処理ユニット
17 基板搬送装置
18 制御部
19 記憶部
80 基板検出機構
81 光学センサ
81a 投光部
81b 受光部
82 支持アーム
83 支持アーム
84 支持シャフト
85 回動機構
86 昇降機構
131 基台
132 保持部
132a フォーク
132b 移動機構
132c 支持部
132ca 固定パッド
132cb 昇降パッド
132d ズレ止めピン
133_1〜133_4 検出部
133a 投光部
133b 受光部
134 支持部材
135 カメラ
150 昇降機構
171 基台
172 保持部
172a フォーク
172c 支持部
172d 吸着口
172e 配管
173_1〜173_4 検出部
174 支持部材
Claims (7)
- 基板を保持する保持部の基部と、
前記基部に設けられ、前記基板の下方から該基板を支持する支持部と、
前記基部に対し、前記支持部を昇降させる昇降機構と、
水平方向に沿った光軸を形成可能に設けられて被検出物を光学的に検出する光学センサを有し、前記基板を収容可能なキャリア内における前記基板の収容状態の検出用、および前記支持部の昇降状態の検出用に設けられる検出機構と、
前記光学センサの位置制御を行う制御部と
を備え、
前記保持部は、
前記光軸に対し、前記支持部を進退させる移動機構
を備え、
前記光学センサは、
前記キャリア側および前記保持部側のそれぞれへ向けて回動可能に設けられ、
前記制御部は、
前記検出機構に前記支持部の昇降状態を検出させる場合に、前記光学センサを前記保持部側へ回動させて、前記支持部に対し前記光軸がオーバーラップするように、前記光学センサの位置制御を行うこと
を特徴とする基板搬送装置。 - 前記制御部は、
前記光学センサの位置制御とともに、前記移動機構の制御を含む前記保持部の動作制御を組み合わせることによって、前記支持部に対し前記光軸をオーバーラップさせること
を特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記支持部は、複数個設けられ、
前記制御部は、
前記支持部のそれぞれにつき、個別に前記光軸がオーバーラップするように、前記光学センサの位置制御および前記保持部の動作制御を行うこと
を特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。 - 前記制御部は、
前記支持部の厚み方向につき、前記光軸によりスキャンさせることによって、前記検出機構に前記支持部の昇降状態を検出させること
を特徴とする請求項1、2または3に記載の基板搬送装置。 - 前記検出機構は、
前記キャリアと前記保持部との間に設けられ、
前記光学センサは、
前記キャリア側および前記保持部側へ位置変更可能に設けられていること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の基板搬送装置。 - 前記制御部は、
前記保持部が前記キャリアへアクセスするたびに前記検出機構に前記支持部の昇降状態を検出させること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板搬送装置。 - 基板を保持する保持部の基部と、前記基部に設けられ、前記基板の下方から前記基板を支持する支持部と、前記基部に対し、前記支持部を昇降させる昇降機構と、水平方向に沿った光軸を形成可能に設けられて被検出物を光学的に検出する光学センサを有し、前記基板を収容可能なキャリア内における前記基板の収容状態の検出用、および前記支持部の昇降状態の検出用に設けられる検出機構とを備え、前記保持部は、前記光軸に対し、前記支持部を進退させる移動機構を備え、前記光学センサは、前記キャリア側および前記保持部側のそれぞれへ向けて回動可能に設けられた基板搬送装置における基板搬送方法であって、
前記光学センサの位置制御を行う制御工程
を含み、
前記制御工程は、
前記検出機構に前記支持部の昇降状態を検出させる場合に、前記光学センサを前記保持部側へ回動させて、前記支持部に対し前記光軸がオーバーラップするように、前記光学センサの位置制御を行うこと
を特徴とする基板搬送方法。
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