JP6730803B2 - 反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は、反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルムに関する。

ノートＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、タブレット型ＰＣ、スマートフォン、携帯電話などの電子機器の多くには、画像を表示するディスプレイが設けられた面側（ディスプレイ面側）とは反対側の面に撮像素子（第１の撮像素子）が設けられている。このような電子機器によれば、利用者は、風景などの撮影を行う際に、第１の撮像素子による撮影画像をディスプレイ上で確認しながら撮影を行うことができる。

また、近年、ディスプレイ面側にも撮像素子（第２の撮像素子）が設けられた電子機器が一般的となっている。このような電子機器によれば、利用者は、例えば、利用者自身を撮影する場合、第２の撮像素子による撮影画像をディスプレイ上で確認しながら撮影を行うことができ、利便性が向上する。

上述したような、ディスプレイ面側に撮像素子が設けられた電子機器においては、ディスプレイパネルの一部に透過エリアが設けられ、その透過エリアの直下に撮像素子（第２の撮像素子）が設けられる。この場合、撮像素子のレンズで反射した光がディスプレイパネルで反射して、再度撮像素子のレンズに入射することに起因するゴーストの発生の抑制、透過率の向上などのために、撮像素子（第２の撮像素子）に対応するディスプレイパネル上の領域には、微細構造体（反射防止光学体）を形成して光の反射を防止する反射防止処理が施される。

反射防止処理の手法としては、真空チャンバー内に被着体（ディスプレイパネルなど）を投入し、ディップコーティングなどのウェットコーティングにより、反射防止膜（ＡＲ（Ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）膜）として誘電体膜を被着体上に形成する手法（第１の手法）がある。

また、別の手法として、ロールｔｏロール法を用いて、微細構造を有するフィルムと粘着体とを貼り合わせ、そのフィルムを粘着体により被着体に貼り合わせる手法（第２の手法）がある。

また、別の手法として、特許文献１および特許文献２には、凹凸を有する離型性のフィルムの上に転写層として透明樹脂層を形成した反射防止転写フィルムを作製し、反射防止転写フィルム上の転写層を基板に転写する手法（第３の手法）が開示されている。なお、特許文献１においては、離型性のフィルムの上に流動状態の樹脂を塗布し、その樹脂を硬化させた後、離型性のフィルムを剥離することで、硬化した樹脂からなる基板上に微細構造体を形成している。また、特許文献２においては、反射防止転写フィルムの透明樹脂層と基板とをローラ転写法、射出成型同時転写法などを用いて接着した後、離型性のフィルムを剥離することで、基板上に微細構造体を形成している。

特開２００３−９０９０２号公報 特開２００３−９８３０４号公報

電子機器用途を考慮した場合、反射防止処理に対しては、薄型化（１０μｍ以下レベル）が図れること、また、被着体（ディスプレイパネル）の全面に対してではなく、部分的な処理が可能であることが求められる。

第１の手法においては、被着体の一部分に対してのみ反射防止処理を行うためにも、大面積の被着体を真空チャンバー内に投入する必要が生じてしまい、第１の手法を被着体の一部分への反射防止処理のために用いることは現実的ではない。

また、第２の手法においては、ロールｔｏロール方式を用いて微細構造を有するフィルムと粘着体とを貼り合わせるため、取扱いの容易性、強度などを考慮した場合、フィルムと粘着体とを合わせた厚さを５０μｍ以上とする必要がある。そのため、第２の手法においては、薄型化を図ることが困難である。

また、第３の手法に関しては、特許文献１，２ともに、被着体上の一部分にのみ微細構造を有する反射防止光学体を形成する具体的な方法については何ら考慮されていない。

上記のような問題点に鑑みてなされた本発明の目的は、薄型化を図るとともに、被着体の一部にのみ反射防止光学体を形成することができる反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルムを提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法は、前記被着体の一面に光硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、一方の面側に微細構造体を備える基材フィルムを、光を透過するライトガイドにより、前記一方の面に対向する他方の面側から前記光硬化性樹脂に押圧する押圧工程と、前記ライトガイドにより前記基材フィルムを押圧した状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記光硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と、前記基材フィルムの押圧を解除し、前記硬化した光硬化性樹脂により前記被着体に固着した微細構造体を、前記光硬化性樹脂による固着箇所以外の前記基材フィルム上の微細構造体から分離しながら、前記基材フィルムから剥離させることで、前記被着体に固着した微細構造体を反射防止光学体として前記被着体に形成する剥離分離工程と、を含む。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法は、一方の面側に微細構造体を備え、該微細構造体の上に半硬化した光硬化性樹脂層が形成された基材フィルムを、光を透過するライトガイドにより、前記一方の面に対向する他方の面側から前記被着体に押圧する押圧工程と、前記ライトガイドにより前記基材フィルムを押圧した状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記光硬化性樹脂層を硬化させる硬化工程と、前記基材フィルムの押圧を解除し、前記硬化した光硬化性樹脂層により前記被着体に固着した微細構造体を、前記光硬化性樹脂層による固着箇所以外の前記基材フィルム上の微細構造体から分離しながら、前記基材フィルムから剥離させることで、前記被着体に固着した微細構造体を反射防止光学体として前記被着体に形成する剥離分離工程と、を含む。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法において、前記微細構造体は、前記基材フィルム側の一方の面および前記一方の面と対向する他方の面に微細構造が形成されていることが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法において、前記基材フィルム上に凹凸パターンを有する微細凹凸層が形成され、前記微細凹凸層上に無機膜が形成され、前記無機膜上に前記微細構造体が形成されていることが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法において、前記微細構造体は、厚さが１０μｍ以下であり、可視光波長以下のピッチの凹凸パターンを有することが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法において、前記被着体に前記基材フィルムを押圧する圧力は、０．５ＭＰａ以上であることが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る反射防止光学体の形成方法において、前記反射防止光学体は、紫外線透過性を備えることが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係るディスプレイパネルは、上述したいずれかの反射防止光学体の形成方法により、一部分にのみ前記微細構造体が形成されている。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る光学フィルムは、光硬化性樹脂を塗布した被着体の一面に、光を透過するライトガイドにより押圧され、前記ライトガイドにより押圧された状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記光硬化性樹脂を硬化させることで前記被着体上に微細構造体を形成するための光学フィルムであって、基材フィルム上に形成され、凹凸パターンを有する微細凹凸層と、前記微細凹凸層上に形成された微細構造体と、を備える。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る光学フィルムは、被着体の一面に、光を透過するライトガイドにより押圧され、前記ライトガイドにより押圧された状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記被着体の一面に微細構造体を形成するための光学フィルムであって、基材フィルム上に形成され、凹凸パターンを有する微細凹凸層と、前記微細凹凸層上に形成された微細構造体と、前記微細構造体上に形成された、半硬化した光硬化性樹脂からなる光硬化性樹脂層と、を備える。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る光学フィルムにおいて、前記微細凹凸層と前記微細構造体との間に形成された無機膜をさらに備えることが望ましい。

また、上記課題を解決するため、本発明に係る光学フィルムにおいて、前記微細構造体は、前記基材フィルム側の一方の面および前記一方の面と対向する他方の面に微細構造が形成されているが望ましい。

本発明に係る反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルムによれば、薄型化を図るとともに、被着体の一部にのみ反射防止光学体を形成することができる。

本発明の第１の実施形態に係る反射防止光学体の形成方法を示す図である。 図１に示す光学フィルムの構成例を示す図である。 図２に示す光学フィルムの製造方法を示す図である。 図１に示す光学フィルムの他の構成例を示す図である。 図４に示す光学フィルムの製造方法を示す図である。 本発明の第１の実施形態に係る形成方法による被着体への反射防止光学体の形成状態の一例を示す図である。 本発明の第１の実施形態に係る形成方法による被着体への反射防止光学体の形成状態の他の一例を示す図である。 本発明の第２の実施形態に係る反射防止光学体の形成方法を示す図である。 図８に示す光学フィルムの構成例を示す図である。 図９に示す光学フィルムの製造方法を示す図である。 本発明の第２の実施形態に係る形成方法による被着体への反射防止光学体の形成状態の一例を示す図である。 実施例１に係る反射防止光学体の表面性の測定結果を表わすグラフである。 比較例１に係る反射防止光学体の表面性の測定結果を表わすグラフである。 実施例１に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 実施例２に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 実施例３に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 実施例４に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 比較例１に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 比較例２に係る反射防止光学体の上面からの撮影図である。 実施例１から実施例４に係る反射防止光学体の反射スペクトルを示す図である。

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることはもちろんである。以下では、各図面において、同一の構成については同じ符号を付し、説明を省略する。

（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る反射防止光学体の形成方法を示す図である。本実施形態に係る反射防止光学体の形成方法は、塗布工程と、押圧工程と、硬化工程と、剥離分離工程とを含む。

図１（ａ）に示す塗布工程では、被着体１１上に光硬化性樹脂としてのＵＶ硬化性樹脂１２を塗布する。また、光（ＵＶ硬化性樹脂１２を硬化させる光）を透過可能なライトガイド１３により光学フィルム１４を保持する。光学フィルム１４は、基材フィルム１５の一方の面側に、紫外線（ＵＶ光）透過性を有する微細構造体１６（薄膜光学体層）が形成されており、微細構造体１６が形成された一方の面側が被着体１１に向くようにして保持される。なお、波長域３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける平均反射率を基材フィルム１５上に微細構造体１６が形成された状態で分光光度計により測定した値が、２％である場合には、後述するＵＶ硬化性樹脂１２の硬化が不十分であり、７％である場合には、十分なＵＶ硬化性樹脂１２の硬化と密着とが得られた。したがって、微細構造体１６が紫外線透過性を有するとは、波長域３５０ｎｍ〜４５０ｎｍにおける平均反射率が７％以上であることを意味する。

図１に示す光学フィルム１４の構成について、図２を参照してより詳細に説明する。

図２に示すように、光学フィルム１４は、基材フィルム１５と、微細凹凸層２１と、無機膜２２と、微細構造体１６（薄膜光学体層）とを備える。なお、図１においては、図の簡略化のために、微細凹凸層２１および無機膜２２については記載を省略している。

基材フィルム１５は、微細構造体１６などの保護およびハンドリング性の向上のために設けられている。基材フィルム１５の種類は特に制限されないが、透明かつ破断しにくいフィルムであることが好ましく、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムなどを用いることができる。基材フィルム１５の厚さは、光学フィルム１４に求められるハンドリング性によって適宜調整すればよく、例えば、５０μｍ〜１２５μｍである。

微細凹凸層２１は、基材フィルム１５の一方の面上に形成されている。微細凹凸層２１の表面には、凹凸パターン（光学フィルム１４の膜厚方向に凸である凸部および光学フィルム１４の膜厚方向に凹である凹部）が形成されている。凸部および凹部は、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置してもよい。また、凸部および凹部の形状は特に制限は無く、砲弾型、錐体状、柱状、針状などであってもよい。なお、凹部の形状は、凹部の内壁によって形成される形状を意味する。

微細凹凸層２１の表面の凹凸パターンの平均周期（ピッチ）は、可視光波長以下（例えば、８３０ｎｍ以下）であり、好ましくは、１００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは、１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。したがって、微細凹凸層２１の表面は、いわゆるモスアイ構造となっている。微細凹凸層２１の表面の凹凸パターンのピッチを可視光波長以下とすることで、反射防止特性の向上を図ることができる。

微細凹凸層２１の凹凸パターンの平均周期は、隣り合う凸部間および凹部間の距離の算術平均値である。なお、微細凹凸層２１の凹凸パターンは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、あるいは断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）などによって観察可能である。また、平均周期の算出方法としては、例えば、隣り合う凸部の組み合わせ、および、隣り合う凹部の組み合わせをそれぞれ複数個ピックアップし、各組み合わせを構成する凸部間の距離および凹部間の距離を測定し、測定値を平均する方法がある。

また、微細凹凸層２１の凸部の高さ（凹部の深さ）は特に制限は無く、好ましくは１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、より好ましくは１９０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは、１９０ｎｍ以上２３０ｎｍ以下である。

無機膜２２は、酸化タングステン、酸化ケイ素、ケイ素、ＩＴＯなどの無機物からなり、微細凹凸層２１の表面上に約２０ｎｍの膜厚で形成されている。無機膜２２は、微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離しやすくするための離型層として設けられている。

薄膜光学体層である微細構造体１６は、無機膜２２上に形成され、微細構造体１６の無機膜２２側の面には、微細凹凸層２１の凹凸パターンを反転させた凹凸パターンが形成されている。微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面は平坦である。なお、微細構造体１６の厚さは、１０μｍ以下であることが望ましい。微細構造体１６の厚さが１０μｍを超えると、詳細は後述するが、被着体１１に固着した微細構造体１６を、固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６から分離することが困難となる。

図２に示す光学フィルム１４の製造方法について、図３を参照して説明する。

基材フィルム１５を用意し、図３（ａ）に示すように、基材フィルム１５の一方の面上に未硬化のＵＶ硬化性樹脂（例えば、ＵＶ硬化性アクリル樹脂）からなるＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを形成する。

なお、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐの形成に用いる樹脂は、ＵＶ硬化性アクリル樹脂に限られるものではない。

ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐは、硬化物が透明性を有する硬化性樹脂により形成することが望ましい。硬化性樹脂は、例えば、重合性化合物と硬化開始剤とを含む。重合性化合物は、硬化開始剤によって硬化する樹脂である。重合性化合物としては、例えば、エポキシ重合性化合物およびアクリル重合性化合物等が挙げられる。

エポキシ重合性化合物は、分子内に１つまたは２つ以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。エポキシ重合性化合物としては、各種ビスフェノール型エポキシ樹脂（ビスフェノールＡ型、Ｆ型等）、ノボラック型エポキシ樹脂、ゴムおよびウレタンなどの各種変性エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、およびこれらのプレポリマーなどが挙げられる。

アクリル重合性化合物は、分子内に１つまたは２つ以上のアクリル基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。ここで、モノマーは、さらに分子内にアクリル基を１つ有する単官能モノマー、分子内にアクリル基を２つ有する二官能モノマー、分子内にアクリル基を３つ以上有する多官能モノマーに分類される。

「単官能モノマー」としては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル又は脂環類のモノマー（イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル−アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル−アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルアクリレート）、２，４，６−トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノールメタクリレート、２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２−エチルヘキシルアクリレートなどが挙げられる。

「二官能モノマー」としては、例えば、トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート、トリメチロールプロパン−ジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。

「多官能モノマー」としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどが挙げられる。

上記で列挙したアクリル重合性化合物以外の例としては、アクリルモルフォリン、グリセロールアクリレート、ポリエーテル系アクリレート、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルカプロラクトン、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、脂肪族ウレタンオリゴマー、ポリエステルオリゴマー等が挙げられる。重合性化合物は、透明性、微細構造体１６との剥離性の観点からは、アクリル重合性化合物が好ましい。

硬化開始剤は、硬化性樹脂を硬化させる材料である。硬化開始剤の例としては、例えば、熱硬化開始剤、光硬化開始剤等が挙げられる。硬化開始剤は、熱、光以外の何らかのエネルギー線（例えば電子線）等によって硬化するものであってもよい。硬化開始剤が熱硬化開始剤となる場合、硬化性樹脂は熱硬化性樹脂となり、硬化開始剤が光硬化開始剤となる場合、硬化性樹脂は光硬化性樹脂となる。

ここで、透明性、微細構造体１６との剥離性の観点からは、硬化開始剤は、紫外線硬化開始剤であることが好ましい。したがって、硬化性樹脂は、紫外線硬化性アクリル樹脂であることが好ましい。紫外線硬化開始剤は、光硬化開始剤の一種である。紫外線硬化開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる

ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐには、光学フィルム１４の用途に応じた添加剤を添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、無機フィラー、有機フィラー、レベリング剤、表面調整剤、消泡剤などが挙げられる。なお、無機フィラーの種類としては、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などの金属酸化物微粒子が挙げられる。さらに、微細凹凸層２１には、微細構造体１６を光学フィルム１４から容易に剥離可能とするために、離型剤などを添加してもよい。

ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを形成しつつ、図３（ａ）に示すように、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐにロール２３を密着させる。

ロール２３は、例えば、円筒形状あるいは円柱状であり、表面には、微細凹凸層２１に形成する凹凸パターンに対応する凹凸パターンが形成されている。ロール２３は、平板状であってもよい。なお、上述したような構成のロール２３の作製方法は、当業者によく知られており、また、本発明と直接関係しないため、説明を省略する。

上述したロール２３を未硬化のＵＶ硬化性樹脂からなるＵＶ硬化性樹脂層２１ｐに密着させることで、ロール２３の表面に形成された凹凸パターンがＵＶ硬化性樹脂層２１ｐの表面に転写される。上述したように、ロール２３は、平板状であってもよいが、円筒形あるいは円柱状とすることで、ロールｔｏロール方式によりロール２３の凹凸パターンをＵＶ硬化性樹脂層２１ｐに転写することができるため、転写の高効率化を図ることができる。

ロール２３の凹凸パターンのＵＶ硬化性樹脂層２１ｐへの転写とともに、図３（ａ）に示すように、基材フィルム１５の他方の面側からＵＶ光を照射し、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを硬化する。こうすることで、基材フィルム１５の上に微細凹凸層２１を形成することができる。なお、ロール２３の表面には、微細凹凸層２１をロール２３から剥離しやすくするためにフッ素材などを用いて離型処理を行ってもよい。

微細凹凸層２１を形成した後、図３（ｂ）に示すように、例えば、酸化タングステンからなるスパッタターゲット２４を用いたスパッタ法により、微細凹凸層２１の表面に離型層としての無機膜２２を５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍの膜厚で形成する。上述した範囲よりも無機膜２２の厚さが小さい場合、および、上述した範囲よりも無機膜２２の厚さが大きい場合、無機膜２２からの微細構造体１６の剥離の硬化が低くなる。なお、無機膜２２を構成する材料としては、酸化ケイ素、ケイ素、ＩＴＯなどを用いることができる。

無機膜２２を形成した後、図３（ｃ）に示すように、無機膜２２上に、未硬化のＵＶ硬化性樹脂（例えば、ＵＶ硬化アクリル樹脂）からなるＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを約２μｍの厚さで形成する。ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐは未硬化のＵＶ硬化性樹脂からなるため、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐの無機膜２２側の面においては、無機膜２２の凹凸パターンの凹部にもＵＶ硬化性樹脂が浸透し、凹凸構造が形成される。すなわち、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐの無機膜２２側の面には、微細凹凸層２１の表面の凹凸パターンを反転させた凹凸パターンが形成される。

次に、図３（ｃ）に示すように、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにロール２５を密着させる。ここで、ロール２５の表面は平坦である。そのため、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐの無機膜２２と反対側の面は平坦面となる。ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐへのロール２５の密着とともに、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにＵＶ光を照射することで、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを硬化させ、微細構造体１６（薄膜光学体層）を形成することができる。

なお、図２，３においては、光学フィルム１４の微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面が平坦面である例を用いて説明したが、光学フィルム１４は、図４に示すように、微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面にも凹凸パターンを形成されていてもよい。すなわち、微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成されていてもよい。

図４に示す光学フィルム１４の製造方法について、図５を参照して説明する。図５において、図３と同様の構成については同じ符号を付し、説明を省略する。

図５（ａ）および図５（ｂ）に示す工程は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示す工程と同様である。すなわち、図５（ａ）に示す工程では、基材フィルム１５の一方の面上にＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを形成し、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐにロール２３を密着させることで、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐの表面に凹凸パターンを形成する。そして、ＵＶ光をＵＶ硬化性樹脂層２１ｐに照射することで、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを硬化させ、微細凹凸層２１を形成する。また、図５（ｂ）に示す工程では、微細凹凸層２１の上に無機膜２２を形成する。

図５（ｃ）に示す工程では、図３（ｃ）に示す工程と同様に、無機膜２２上にＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを形成する。次に、図５（ｃ）に示すように、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにロール２６を密着させる。ここで、ロール２６の表面には、凹凸パターンが形成されている。そのため、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐの無機膜２２と反対側の面にも凹凸パターンが形成される。ロール２６としては、ロール２３と同じものを用いることができる。ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐへのロール２６の密着とともに、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにＵＶ光を照射することで、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを硬化させ、両面に凹凸パターンが形成された微細構造体１６（薄膜光学体層）を形成することができる。

図１を再び参照すると、図１（ａ）に示す塗布工程の後、図１（ｂ）に示す押圧工程では、ライトガイド１３をクランプ治具１８により固定し、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により、図２または図４に示す光学フィルム１４を、微細構造体１６が形成された一方の面とは反対側の面から、被着体１１に塗布されたＵＶ硬化性樹脂１２に押圧する。光学フィルム１４により押圧されることで、ＵＶ硬化性樹脂１２は、被着体１１と光学フィルム１４との間で押し拡げられる。なお、クランプ治具１８は、ライトガイド１３を伝播する光を遮ることがないように、ライトガイド１３を固定する。

図１（ｃ）に示す硬化工程では、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４を押圧した状態で、ライトガイド１３にＵＶ光を伝播させてＵＶ硬化性樹脂１２を硬化させる。

図１（ｄ）に示す剥離分離工程では、光学フィルム１４の押圧を解除して、被着体１１から光学フィルム１４をリリースすることで、微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離（無機膜２２との界面を境に剥離）させる。硬化工程により、光学フィルム１４に形成された微細構造体１６（薄膜光学体層）のうち、ＵＶ硬化性樹脂１２が存在し、かつ、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域では、微細構造体１６と被着体１１とが、硬化したＵＶ硬化性樹脂１２により固着される。そして、光学フィルム１４をリリースすることで、硬化したＵＶ硬化性樹脂１２により固着された微細構造体１６が、ＵＶ硬化性樹脂１２による固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６と分離（分断）されながら、無機膜２２との界面を境に光学フィルム１４（基材フィルム１５）から剥離され、反射防止光学体１６ａとして被着体１１に形成される。

図６，７は、本実施形態に係る形成方法による被着体１１への反射防止光学体１６ａの形成状態の一例を示す図である。図６においては、図２に示す光学フィルム１４（微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面が平坦な光学フィルム１４）を用いた例を示している。また、図７においては、図４に示す光学フィルム１４（微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成された光学フィルム１４）を用いた例を示している。

図６，７に示すように、本実施形態によれば、被着体１１の一部にのみ、硬化したＵＶ硬化性樹脂１２を介して、反射防止光学体１６ａが形成された部材１０を形成することができる。部材１０は、例えば、ディスプレイパネルなどに用いられる。部材１０を携帯電話、スマートフォンなど電子機器のディスプレイパネルとして用いる場合、反射防止光学体１６ａは、例えば、ディスプレイパネル全面のうち、電子機器のディスプレイ面側に設けられた撮像素子のレンズの周辺の領域（例えば、数ｍｍ×数ｍｍ程度の領域）に形成される。

なお、図７に示すように、微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成された光学フィルム１４を用いた場合、微細構造体１６の被着体１１側の面の凹部にもＵＶ硬化性樹脂１２が入り込んで硬化している。そのため、微細構造体１６と被着体１１との接着力を向上させることができる。

このように、本実施形態においては、ライトガイド１３を介してＵＶ光をＵＶ硬化性樹脂１２に照射するため、ＵＶ硬化性樹脂１２が存在し、かつ、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域についてのみ、ＵＶ硬化性樹脂１２が硬化し、光学フィルム１４に形成された微細構造体１６と被着体１１とが固着する。そして、被着体１１と固着した微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離することで反射防止光学体１６ａが被着体１１に形成される。そのため、ＵＶ硬化性樹脂１２を塗布する領域およびライトガイド１３の形状を調整することで、被着体１１上の一部の領域だけに容易に反射防止光学体１６ａを形成することができる。

（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態に係る反射防止光学体１６ａの形成方法について説明する。

図８は、本実施形態に係る反射防止光学体１６ａの形成方法を示す図である。本実施形態に係る反射防止光学体の形成方法は、押圧工程と、硬化工程と、剥離分離工程とを含む。

第１の実施形態においては、被着体１１にＵＶ硬化性樹脂１２を塗布し、その後、光学フィルム１４を被着体１１に圧着し、ＵＶ硬化性樹脂１２を硬化させることで、被着体１１の一部の領域だけに反射防止光学体１６ａを形成する。一方、本実施形態においては、図９に示すように、微細構造体１６の上に半硬化した光硬化性樹脂（ＵＶ硬化性樹脂）からなる接着層１７（光硬化性樹脂層）が形成された光学フィルム１４ａを用いる。なお、光学フィルム１４ａにおいては、微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面は平坦面である。

図９に示す光学フィルム１４ａの製造方法について、図１０を参照して説明する。

図１０（ａ）から図１０（ｃ）に示す工程は、図３（ａ）から図３（ｃ）に示す工程と同様である。すなわち、図１０（ａ）に示す工程では、基材フィルム１５の一方の面上にＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを形成し、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐにロール２３を密着させることで、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐの表面に凹凸パターンを形成する。そして、ＵＶ光をＵＶ硬化性樹脂層２１ｐに照射することで、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを硬化させ、微細凹凸層２１を形成する。また、図１０（ｂ）に示す工程では、微細凹凸層２１の上に無機膜２２を形成する。また、図１０（ｃ）に示す工程では、無機膜２２上に、未硬化のＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを形成し、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにロール２５を密着させる。そして、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐへのロール２５の密着とともに、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにＵＶ光を照射することで、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを硬化させ、微細構造体１６を形成する。なお、図４に示すように、微細構造体１６（薄膜光学体層）の両面に凹凸パターン（微細構造）を形成してもよい。

図１０（ｄ）に示す工程では、微細構造体１６の上に、ＵＶ硬化性樹脂をポッティングし、その上から剥離フィルム２７を介してロール２８により加圧することでＵＶ硬化性樹脂層１７ｐを形成する。そして、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐにＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐを半硬化させることで、接着層１７を形成する。

なお、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐへのＵＶ光の照射量が２ｋＪ／ｍ²の場合には、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐは硬化せず、液体状であった。また、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐへのＵＶ光の照射量が４ｋＪ／ｍ²の場合には、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐは完全に硬化してしまった。一方、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐへのＵＶ光の照射量が３ｋＪ／ｍ²の場合には、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐが半硬化し、後述する被着体１１と微細構造体１６との固着を図ることができた。

図８を再び参照すると、図８（ａ）に示すように、ライトガイド１３により光学フィルム１４ａを保持する。ここで、光学フィルム１４ａは、微細構造体１６および接着層１７が形成された一方の面が被着体１１に向くようにして保持される。なお、図８においては、図の簡略化のため、微細凹凸層２１や無機膜２２については記載を省略している。

図８（ｂ）に示す押圧工程では、ライトガイド１３をクランプ治具１８により固定し、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４ａを、微細構造体１６および接着層１７が形成された一方の面とは反対側の面から、被着体１１に押圧する。

図８（ｃ）に示す硬化工程では、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４ａを押圧した状態で、ライトガイド１３にＵＶ光を伝播させて接着層１７を硬化させる。

図８（ｄ）に示す剥離分離工程では、光学フィルム１４ａの押圧を解除して、被着体１１から光学フィルム１４ａをリリースすることで、微細構造体１６を光学フィルム１４ａから剥離させる。硬化工程により、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域では、光学フィルム１４ａに形成された微細構造体１６と被着体１１とが、硬化した接着層１７により固着される。そして、光学フィルム１４ａをリリースすることで、硬化した接着層１７により固着された微細構造体１６が、接着層１７による固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６と分離（分断）されながら、無機膜２２との界面を境に光学フィルム１４ａ（基材フィルム１５）から剥離され、反射防止光学体１６ａとして被着体１１に形成される。

図１１は、本実施形態に係る形成方法による被着体１１への反射防止光学体１６ａの形成状態の一例を示す図である。

図１１に示すように、本実施形態によれば、被着体１１の一部にのみ、硬化した接着層１７を介して、反射防止光学体１６ａが形成された部材１０を形成することができる。

このように、本実施形態においては、ライトガイド１３を介してＵＶ光を接着層１７に照射するため、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域についてのみ、接着層１７が硬化することで、光学フィルム１４ａに形成された微細構造体１６と被着体１１とが固着する。そして、被着体１１と固着した微細構造体１６を光学フィルム１４ａから剥離することで反射防止光学体１６ａが被着体１１に形成される。そのため、ライトガイド１３の圧着面の形状を調整することで、被着体１１上の一部の領域だけに容易に反射防止光学体１６ａを形成することができる。

次に、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。

以下の実施例では、被着体１１として、松波硝子工業（株）製、製品名「Ｓ９１１２」の白板ガラスを使用した。また、ライトガイド１３として、寸法が１０ｍｍ×１０ｍｍ×２０ｍｍ（光学フィルム１４，１４ａとの接触面の寸法が１０ｍｍ×１０ｍｍ）の石英材を使用した。ライトガイド１３の光学フィルム１４，１４ａとの接触面は平坦面である。

（実施例１）
本実施例では、図２に示す光学フィルム１４を用いた。まず、光学フィルム１４の製造条件について説明する。

基材フィルム１５としては、厚さ１２５μｍの帝人社製のＰＥＴフィルムを用いた。基材フィルム１５の上にＵＶ硬化性樹脂からなるＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを形成し、ロール２３を密着させるとともに、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂層２１ｐを硬化させ、微細凹凸層２１を形成した。本実施例では、微細凹凸層２１には、凹凸ピッチが１５０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、凹部の深さが約２５０ｎｍである凹凸パターンを形成した。そして、微細凹凸層２１の表面に、酸化タングステンからなるスパッタターゲットを用いたスパッタ法により、離型層としての無機膜２２を２０ｎｍの膜厚で形成した。なお、上述したように、無機膜２２の膜厚保は、無機膜２２を５ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは、１５ｎｍ〜３５ｎｍであることが望ましい。上述した範囲よりも無機膜２２の厚さが小さい場合、および、上述した範囲よりも無機膜２２の厚さが大きい場合、無機膜２２からの微細構造体１６の剥離の硬化が低くなる。したがって、本実施例においては、無機膜２２の厚さを２０ｎｍとした。

無機膜２２の上に、未硬化のＵＶ硬化性アクリル樹脂からなるＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを約２μｍの厚さで形成した。そして、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐにロール２５を密着させるとともに、１０ｋＪ／ｍ²の照射量でＵＶ光をＵＶ硬化性樹脂層１６ｐに照射して、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを硬化させ、微細構造体１６を形成した。微細構造体１６の無機膜２２側の面には、微細凹凸層２１に形成された凹凸パターンに対応して、凹凸ピッチが１５０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、凹部の深さが約２５０ｎｍである凹凸パターンを形成された。なお、上述したように、微細構造体１６の厚さは、１０μｍ以下であることが望ましい。微細構造体１６の厚さが１０μｍを超えると、詳細は後述するが、被着体１１に固着した微細構造体１６を、固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６から分離することが困難となる。したがって、本実施例においては、微細構造体１６の厚さを約２μｍとした。

そして、図１（ａ）に示すように、被着体１１の一面上にＵＶ硬化性樹脂１２（スリーボンド社製、製品名「ＴＢ３０４２」）を、マイクロピペットを用いて０．３μＬ滴下した。

次に、図１（ｂ）に示すように、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４を、微細構造体１６が形成された一方の面とは反対側の面から、被着体１１に塗布されたＵＶ硬化性樹脂１２に約０．５ＭＰａの圧力で押圧した。

次に、図１（ｃ）に示すように、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４を押圧した状態で、ライトガイド１３にＵＶ光を伝播させてＵＶ硬化性樹脂１２を硬化させた。本実施例では、ハロゲンランプにより、１５ｋＪ／ｍ²の照射量でライトガイド１３を介してＵＶ光を照射した。

次に、図１（ｄ）に示すように、光学フィルム１４の押圧を解除して、被着体１１から光学フィルム１４をリリースすることで、ＵＶ硬化性樹脂１２により被着体１１に固着された微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離させた。

ここで、ＵＶ硬化性樹脂１２による被着体１１と微細構造体１６との間の接着力が、微細構造体１６と微細凹凸層２１との間の接着力よりも強くなるようにすることで、微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離し、反射防止光学体１６ａとして被着体１１に固着させることができる。さらに、微細構造体１６は厚みが２μｍ程度と薄膜化されているため、固着箇所以外の微細構造体１６と容易に分離することができる。なお、微細構造体１６と微細凹凸層２１との間には離型層としての無機膜２２が形成されているため、微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離しやすくすることができる。

（実施例２）
本実施例では、図４に示す微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成された光学フィルム１４を用いた。本実施例において用いた光学フィルム１４の製造方法は、実施例１と概ね同じである。ただし、本実施例では、無機膜２２上にＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを形成した後、表面が平坦なロール２５ではなく、表面に凹凸パターンが形成されたロール２６を密着させ、ＵＶ硬化性樹脂層１６ｐを硬化させた。微細構造体１６の無機膜２２と反対側の面に形成された凹凸パターンは、無機膜２２側の面に形成された凹凸パターンと同様であり、凹凸ピッチが１５０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、凹部の深さが約２５０ｎｍである。また、本実施例においても微細構造体１６の厚さは約２μｍとした。これは、上述したように、微細構造体１６の厚さが１０μｍを超えると、被着体１１に固着した微細構造体１６を、固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６から分離することが困難となるためである。

本実施例では、このようにして作製した光学フィルム１４（微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成された光学フィルム）を用いて、図１に示す形成方法により、実施例１と同様の条件にて、反射防止光学体１６ａを被着体１１に形成した。

（実施例３）
本実施例では、実施例２と同様の条件により作製した光学フィルム１４（微細構造体１６の両面に凹凸パターンが形成された光学フィルム１４）を用いた。そして、この光学フィルム１４を用いて、図１に示す形成方法により、反射防止光学体１６ａを被着体１１に形成した。ただし、本実施例では、図１（ｂ），（ｃ）に示す工程において、ライトガイド１３により光学フィルム１４を被着体１１に押圧する押圧圧力を、実施例２よりも大きくした。すなわち、実施例２においては、ライトガイド１３により光学フィルム１４を被着体１１に押圧する押圧圧力は０．５ＭＰａであったが、本実施例では、ライトガイド１３により光学フィルム１４を被着体１１に押圧する押圧圧力を３．０ＭＰａに変更した。その他の条件は、実施例２と同様である。

（実施例４）
本実施例では、図９に示す微細構造体１６の上に接着層１７が形成された光学フィルム１４ａを用いた。まず、光学フィルム１４ａの製造条件について説明する。

微細構造体１６を形成するまでは、実施例１と同様であるため、説明を省略する。微細構造体１６の形成後、微細構造体１６の上にＵＶ硬化性樹脂をポッティングし、その上から剥離フィルム２７を介してロール２８により加圧することでＵＶ硬化性樹脂層１７ｐを形成した。そして、ＵＶ硬化性樹脂層１７ｐに３ｋＪ／ｍ²の照射量でＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を半硬化させることで、接着層１７を約３μｍの膜厚で形成した。

このようにして作製した光学フィルム１４ａ（微細構造体１６の上に接着層１７が形成された光学フィルム）を用いて、図８に示す形成方法により、反射防止光学体１６ａを被着体１１に形成した。

すなわち、図８（ａ）に示すように、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４ａを、微細構造体１６および接着層１７が形成された一方の面とは反対側の面から保持した。そして、図８（ｂ）に示すように、被着体１１に約０．５ＭＰａの圧力で押圧した。

次に、図８（ｃ）に示すように、クランプ治具１８を介して、ライトガイド１３により光学フィルム１４ａを押圧した状態で、ライトガイド１３にＵＶ光を伝播させて接着層１７を硬化させた。本実施例では、ハロゲンランプにより、１５ｋＪ／ｍ²の照射量でライトガイド１３を介してＵＶ光を照射した。

次に、図８（ｄ）に示すように、光学フィルム１４ａの押圧を解除して、被着体１１から光学フィルム１４ａをリリースすることで、微細構造体１６を光学フィルム１４ａからから剥離させた。

ここで、接着層１７による被着体１１と微細構造体１６との間の接着力が、微細構造体１６と微細凹凸層２１との間の接着力よりも強くなるようにすることで、微細構造体１６を光学フィルム１４から剥離し、反射防止光学体１６ａとして被着体１１に固着させることができる。なお、微細構造体１６と微細凹凸層２１との間には離型層としての無機膜２２が形成されているため、微細構造体１６を光学フィルム１４ａから剥離しやすくすることができる。

（比較例１）
次に、比較例１に係る被着体への反射防止光学体の形成方法について説明する。

基材フィルムとして、厚さ５０μｍの環状オレフィン系フィルム（ＣＯＣフィルム）を用いた。ＣＯＣフィルムの一面上にＵＶ硬化性樹脂を塗布し、表面に凹凸パターンが形成されたロールを用いて、ロールｔｏロール方式により、ＵＶ硬化性樹脂に凹凸パターンを形成し、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させることで、一面に微細構造体を備える光学フィルムを作製した。この微細構造体の凹凸パターンは、実施例１〜４と同様に、凹凸ピッチが１５０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、凹部の深さが約２５０ｎｍである。そして、粘着材（厚さ２５μｍのアクリル系粘着材である粘着テープ（パナック社製、製品名「ＰＤＳ１」））を用いて、微細構造体を形成した光学フィルムの一面とは反対側の面と被着体とをロールにより貼り合わせて、被着体に反射防止光学体を形成した。

（比較例２）
次に、比較例２に係る被着体への反射防止光学体の形成方法について説明する。

まず、基材フィルムとして、厚さ１２５μｍの帝人社製のＰＥＴフィルムを用いた。ＰＥＴフィルムの一面上にＵＶ硬化性樹脂を塗布し、表面に凹凸パターンが形成されたロールを用いて、ロールｔｏロール方式により、ＵＶ硬化性樹脂に凹凸パターンを形成した。そして、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させ、硬化させたＵＶ硬化性樹脂上を、スパッタ法により厚さ２０ｎｍの酸化タングステン膜でコーティングし、その後、離型材（３Ｍ社製、商品名「Ｎｏｖｅｃ１７２０」）によりフッ素樹脂をコーティングすることで、一面に微細構造体が形成された光学フィルムを作製した。

そして、被着体上にＵＶ硬化性樹脂を塗布後、ロールにより、微細構造体を形成した光学フィルムの一面とは反対側の面と被着体とを圧着した。その後、ロールによる加圧を開放し、ＵＶ光を照射してＵＶ硬化性樹脂を硬化させることで、被着体に反射防止光学体を形成した。

上述した実施例１〜４および比較例１，２により被着体１１に形成された反射防止光学体の評価結果について説明する。

まず、実施例１〜４および比較例１，２それぞれにより被着体１１に形成された反射防止光学体の膜厚についての評価結果を表１に示す。

なお、膜厚の測定は、膜厚計（ミツトヨ社製ＬＩＴＥＭＡＴＩＣ ＶＬ−５０Ｓ）を用い、反射防止光学体の形成面に沿って、Ｘ方向およびＸ方向に直交するＹ方向それぞれについて、反射防止光学体の端部２箇所および中央部の１箇所、すなわち、合計９箇所の膜厚を測定した。そして、９箇所の膜厚の測定結果から、平均膜厚（形成体平均膜厚）、厚みの標準偏差値（形成体厚みの標準偏差値ばらつき）および最大膜厚と最小膜厚との差（形成体厚みＭａｘ−Ｍｉｎ）を求めた。

表１に示すように、比較例１では、形成体厚みの標準偏差値は、実施例１〜３と略同程度であるが、実施例１〜４と比べて膜厚が大きくなってしまう。上述したように、電子機器用途を考慮した場合、反射防止光学体の厚さは、１０μｍ以下のレベルが求められる。したがって、比較例１では、膜厚が大きくなりすぎ、上述したような用途には適さない。

また、比較例２では、膜厚は、実施例１〜４と略同程度のレベルまで小さくすることができるが、厚みのばらつきが大きく、面の歪が問題となる。

一方、実施例１〜４では、膜厚は１０μｍ以下であり、薄型化が図られている。また、実施例１〜３では、厚みばらつきも小さく、低歪化が図られている。なお、実施例２と実施例３とを比較すると、形成された反射防止光学体の厚さには大きな違いがある。比較例２と比較例３とでは、光学フィルム１４の被着体１１への押圧圧力が異なっている。したがって、光学フィルム１４の被着体１１への押圧圧力を調整することで、形成される反射防止光学体の厚さを調整することができることが分かる。

形成された反射防止光学体の表面性の測定結果を図１２Ａ，１２Ｂに示す。なお、代表的な例として、実施例１において形成された反射防止光学体の表面性の測定結果を図１２Ａに示し、比較例１において形成された反射防止光学体の表面性を図１２Ｂに示す。なお、図１２Ａ，１２Ｂはそれぞれ、三次元表面粗計（（株）菱化システム製の「ＶｅｒｔＳｃａｎ」）を用いた計測結果を示している。図１２Ａ，１２Ｂにおいて、横軸は、形成された反射防止光学体上での一方向に沿った距離を示し、縦軸は、ある位置での厚さを基準とした各位置での膜厚の差を示している。

図１２Ａ，１２Ｂに示すように、実施例１において形成された反射防止光学体は、比較例１において形成された反射防止光学体と比較して、膜厚のばらつきが小さく、低歪性が図られていることが分かる。

図１３Ａ〜図１３Ｆはそれぞれ、実施例１〜４および比較例１，２において被着体１１に形成された反射防止光学体を上面からの撮影した像を示す図である。図１３Ａ〜図１３Ｆにおいては、矩形（長方形）状の領域を目標エリアとして、微細構造体を形成したものとする。なお、写真撮影の際には、被着体の背面（微細構造体を形成した一方の面と反対側の面）に黒色のテープを貼り付け、観察を容易にした。

図１３Ａ〜図１３Ｄに示すように、実施例１〜４においては、目標エリアである矩形状の領域に合わせて微細構造体が形成されており、被着体の一部の領域にのみ、微細構造体が高精度に形成されていることが分かる。

比較例１においても、図１３Ｅに示すように、目標エリアである矩形状の領域に概ね合わせて微細構造体が形成されている。ただし、比較例１では、目標エリアに合わせて粘着材および光学フィルムを配置し、ロールにて貼り合わせるため、目標エリアが小さいと、貼り付けが困難となる。また、上述したように、比較例１では、微細構造体の膜厚が大きくなり、実施例１に係る方法を、電子機器用途での反射防止光学体の形成に適用することは困難である。

また、比較例２では、図１３Ｆに示すように、目標エリアである矩形状の領域に合わせて微細構造体を形成することができなかった、したがって、比較例２に係る方法を用いて、所望の領域にのみ高精度に反射防止光学体を形成するのは困難である。

次に、実施例１〜４における被着体１１への微細構造体の反射防止特性の評価結果について説明する。

実施例１〜４において形成された反射防止光学体による視感反射率（ＸＹＺ表色系のＹ値の反射率であり、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に準じて測定される反射率）を表２に示す。なお、一般に、反射防止部材として用いる場合には、視感反射率が１％以下、好ましくは０．６％以下であることが望ましい。また、図１４に、実施例１〜４において形成された反射防止光学体の反射スペクトルを示す。なお、図１４において、横軸は、入射光の波長を示し、縦軸は、入射光の反射率を示す。

表２に示すように、実施例１〜４のいずれにおいても、視感反射率は０．６％以下である。また、図１４に示すように、実施例１〜４のいずれにおいても、各波長に対する反射率が０．８％以下であり、良好な反射特性を示している。

なお、図１４に示すように、実施例１の反射スペクトルには、全波長帯域に亘るリップルが発生している。一方、光学フィルム１４（微細構造体１６）の構造以外は同条件で反射防止光学体を形成した実施例２では、このようなリップルは発生していない。このことから、実施例１におけるリップルの発生は、微細構造体１６の構成によるものと考えられる。

実施例１においては、被着体１１とＵＶ硬化性樹脂１２との界面、および、ＵＶ硬化性樹脂１２と微細構造体１６との界面がそれぞれ、概ね平坦である。そのため、実施例１の反射スペクトルにおいて発生するリップルは、被着体１１とＵＶ硬化性樹脂１２との界面における光の屈折率と、ＵＶ硬化性樹脂１２と微細構造体１６との界面における光の屈折率との違いに起因するものと考えられる。すなわち、被着体１１とＵＶ硬化性樹脂１２との界面で反射した光と、ＵＶ硬化性樹脂１２と微細構造体１６との界面で反射した光とが干渉することで、反射スペクトルにリップルが発生したと考えられる。

一方、実施例２においては、被着体１１とＵＶ硬化性樹脂１２との界面は平坦であるが、ＵＶ硬化性樹脂１２と微細構造体１６との界面は凹凸構造を有する。そのため、２つの界面で反射した光の干渉が生じず、リップルの発生が抑制されたものと考えられる。したがって、実施例２，３のように、微細構造体１６の両面に凹凸パターンを設けることで、反射スペクトルにおけるリップルの発生を抑制し、より良好な反射特性を得ることができる。

このように、本発明の第１の実施形態に係る反射防止光学体１６ａの被着体１１への形成方法は、被着体１１の表面にＵＶ硬化性樹脂１２（光硬化性樹脂）を塗布する塗布工程と、一方の面側に薄膜化された微細構造体１６が形成された基材フィルム１５を、光を透過するライトガイド１３により、一方の面に対向する他方の面側からＵＶ硬化性樹脂１２に押圧する押圧工程と、ライトガイド１３により基材フィルム１５を押圧した状態でライトガイド１３にＵＶ光を伝播させてＵＶ硬化性樹脂１２を硬化させる硬化工程と、基材フィルム１５の押圧を解除し、硬化したＵＶ硬化性樹脂１２により被着体１１に固着した微細構造体１６を、光硬化性樹脂１２による固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６から分離しながら、基材フィルム１５から剥離させることで、反射防止光学体１６ａを被着体１１に形成する剥離分離工程と、を含む。

また、本発明の第２の実施形態に係る反射防止光学体１６ａの被着体１１への形成方法は、一方の面側に薄膜化された微細構造体１６が形成され、微細構造体１６の上に半硬化した光硬化性樹脂からなる接着層１７（光硬化性樹脂層）が形成された基材フィルム１５を、光を透過するライトガイド１３により、一方の面に対向する他方の面側から被着体１１に押圧する押圧工程と、ライトガイド１３により基材フィルム１５を押圧した状態でライトガイド１３に光を伝播させて接着層１７を硬化させる硬化工程と、基材フィルム１５の押圧を解除し、硬化した接着層１７により被着体１１に固着した微細構造体１６を、接着層１７による固着箇所以外の基材フィルム１５上の微細構造体１６から分離しながら、基材フィルム１５から剥離させることで、反射防止光学体１６ａを被着体１１に形成する剥離分離工程と、を含む。

硬化工程により、ＵＶ硬化性樹脂１２または接着層１７が存在し、かつ、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域では、基材フィルム１５の一面側に形成された微細構造体１６と被着体１１とが硬化したＵＶ硬化性樹脂１２または接着層１７により固着される。そして、基材フィルム１５の押圧を解除し、光学フィルム１４，１４ａをリリースすることで、ＵＶ硬化性樹脂１２または接着層１７が存在し、かつ、ライトガイド１３を伝播した光が照射される領域でのみ、被着体１１と固着された微細構造体１６が、光学フィルム１４，１４ａから剥離され、被着体１１に反射防止光学体１６ａとして形成される。そのため、第１の実施形態では、ＵＶ硬化性樹脂１２を塗布する領域およびライトガイド１３の圧着面の形状を調整することで、また、第２の実施形態では、ライトガイド１３の形状を調整することで、被着体１１上の一部の領域だけに容易に微細構造体１６を形成することができる。また、比較例１のように粘着フィルムを介して被着体１１と微細構造体１６とを固着させる必要が無いので、薄膜化を図ることができる。

本発明を図面および実施形態に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形または修正を行うことが容易であることに注意されたい。したがって、これらの変形または修正は本発明の範囲に含まれることに留意されたい。

１０ 部材
１１ 被着体
１２ ＵＶ硬化性樹脂
１３ ライトガイド
１４，１４ａ 光学フィルム
１５ 基材フィルム
１６ 微細構造体
１６ａ 反射防止光学体
１６ｐ ＵＶ硬化性樹脂層
１７ 接着層
１７ｐ ＵＶ硬化性樹脂層１
１８ クランプ治具
２１ 微細凹凸層
２１ｐ ＵＶ硬化性樹脂層
２２ 無機膜
２３，２５，２６，２８ ロール
２４ スパッタターゲット
２７ 剥離フィルム

Claims (6)

1. 反射防止光学体の被着体への形成方法であって、
   前記被着体の一面に光硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、
   一方の面側に微細構造体を備えた基材フィルムを、光を透過するライトガイドにより、前記一方の面に対向する他方の面側から前記光硬化性樹脂に押圧する押圧工程と、
   前記ライトガイドにより前記基材フィルムを押圧した状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記光硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と、
   前記基材フィルムの押圧を解除し、前記硬化した光硬化性樹脂により前記被着体に固着した微細構造体を、前記光硬化性樹脂による固着箇所以外の前記基材フィルム上の微細構造体から分離しながら、前記基材フィルムから剥離させることで、前記被着体に固着した微細構造体を反射防止光学体として前記被着体に形成する剥離分離工程と、を含み、
   前記微細構造体は、前記基材フィルム側の一方の面および前記一方の面と対向する他方の面に微細構造が形成されていることを特徴とする反射防止光学体の形成方法。
2. 反射防止光学体の被着体への形成方法であって、
   一方の面側に微細構造体を備え、該微細構造体の上に半硬化した光硬化性樹脂層が形成された基材フィルムを、光を透過するライトガイドにより、前記一方の面に対向する他方の面側から前記被着体に押圧する押圧工程と、
   前記ライトガイドにより前記基材フィルムを押圧した状態で前記ライトガイドに光を伝播させて前記光硬化性樹脂層を硬化させる硬化工程と、
   前記基材フィルムの押圧を解除し、前記硬化した光硬化性樹脂層により前記被着体に固着した微細構造体を、前記光硬化性樹脂層による固着箇所以外の前記基材フィルム上の微細構造体から分離しながら、前記基材フィルムから剥離させることで、前記被着体に固着した微細構造体を反射防止光学体として前記被着体に形成する剥離分離工程と、を含み、
   前記微細構造体は、前記基材フィルム側の一方の面および前記一方の面と対向する他方の面に微細構造が形成されていることを特徴とする反射防止光学体の形成方法。
3. 請求項１または２に記載の反射防止光学体の形成方法において、
   前記基材フィルム上に凹凸パターンを有する微細凹凸層が形成され、
   前記微細凹凸層上に無機膜が形成され、
   前記無機膜上に前記微細構造体が形成されていることを特徴とする形成方法。
4. 請求項１から３のいずれか一項に記載の反射防止光学体の形成方法において、
   前記微細構造体は、厚さが１０μｍ以下であり、可視光波長以下のピッチの凹凸パターンを有することを特徴とする形成方法。
5. 請求項１から４のいずれか一項に記載の反射防止光学体の形成方法において、
   前記被着体に前記基材フィルムを押圧する圧力は、０．５ＭＰａ以上であることを特徴とする形成方法。
6. 請求項１から５のいずれか一項に記載の反射防止光学体の形成方法において、
   前記反射防止光学体は、紫外線透過性を備えることを特徴とする形成方法。