JP6705207B2 - 電磁接触器 - Google Patents
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Description
本発明は、電流路の開閉を行う電磁接触器に関する。
電流路の開閉を行う電磁接触器では、高電流の通電及び遮断を行う主接点機構と、主接点機構の動作と連動する補助接点機構とを設ける場合がある。この主接点機構と補助接点機構とを備えた電磁接触器として、従来、例えば、特許文献１に示すものが知られている。
特許文献１に示す電磁接触器は、一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構と、主接点側可動接触子と連動する補助接点機構と、主接点機構の主接点側可動接触子を駆動する電磁石ユニットとを備えている。そして、電磁石ユニットは、主接点側可動接触子に連結軸で連結された可動プランジャと、励磁することにより電磁石ユニットで励磁力を発生させて可動プランジャを駆動する励磁コイルとを備えている。
そして、可動部となる主接点機構、補助接点機構及び電磁石ユニットの可動プランジャ及び連結軸は、収容室によって密封される。収容室内には、アーク消弧用のガスが封入され、これにより、アークを効率的に消弧するようにしている。
特許文献１に示す電磁接触器は、一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構と、主接点側可動接触子と連動する補助接点機構と、主接点機構の主接点側可動接触子を駆動する電磁石ユニットとを備えている。そして、電磁石ユニットは、主接点側可動接触子に連結軸で連結された可動プランジャと、励磁することにより電磁石ユニットで励磁力を発生させて可動プランジャを駆動する励磁コイルとを備えている。
そして、可動部となる主接点機構、補助接点機構及び電磁石ユニットの可動プランジャ及び連結軸は、収容室によって密封される。収容室内には、アーク消弧用のガスが封入され、これにより、アークを効率的に消弧するようにしている。
ところで、特許文献１に記載されたような主接点機構及び補助接点機構を備えた電磁接触器においては、密封された収容室内において主接点機構と補助接点機構との間に隔壁を設けて、主接点で発生したアークを遮断することがある。
しかしながら、主接点機構と補助接点機構との間の隔壁には、前述した連結軸などを貫通させるための貫通孔などがあり、主接点機構収容室と補助接点機構収容室とを完全に仕切ることはできない。このため、主接点機構収容室内の異物が隔壁の貫通孔を通過して補助接点機構収容室へ侵入したり、あるいはその逆に補助接点機構収容室内の異物が隔壁の貫通孔を通過して主接点機構収容室へ侵入したりするのを適切に防止することはできなかった。
しかしながら、主接点機構と補助接点機構との間の隔壁には、前述した連結軸などを貫通させるための貫通孔などがあり、主接点機構収容室と補助接点機構収容室とを完全に仕切ることはできない。このため、主接点機構収容室内の異物が隔壁の貫通孔を通過して補助接点機構収容室へ侵入したり、あるいはその逆に補助接点機構収容室内の異物が隔壁の貫通孔を通過して主接点機構収容室へ侵入したりするのを適切に防止することはできなかった。
特に、主接点機構で発生した異物（摺動による削れカス等）が補助接点機構収容室内に侵入し、かかる異物が補助接点部に付着して導通不良となってしまう問題があった。
従って、本発明は上述の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、主接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての補助接点機構収容室への異物の侵入及び補助接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての主接点機構収容室への異物の侵入を適切に防止することができる電磁接触器を提供することにある。
従って、本発明は上述の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、主接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての補助接点機構収容室への異物の侵入及び補助接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての主接点機構収容室への異物の侵入を適切に防止することができる電磁接触器を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る電磁接触器は、一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構を収容する主接点機構収容室と、複数対の補助接点側固定接触子及びこれら複数対の補助接点側固定接触子に接離可能な複数の補助接点側可動接触子と、前記補助接点側可動接触子を支持する補助可動接触子支持部材とを有する補助接点機構を収容する補助接点機構収容室と、前記主接点側可動接触子及び前記補助可動接触子支持部材に連結軸を介して連結された可動プランジャと、前記可動プランジャを収容する磁気ヨークとを有する電磁石ユニットとを備え、前記主接点機構収容室と前記補助接点機構収容室は、前記連結軸を挿通する貫通孔が形成された隔壁によって仕切られ、前記貫通孔の周囲に異物侵入防止機構を備えたことを要旨とする。
本発明に係る電磁接触器によれば、主接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての補助接点機構収容室への異物の侵入及び補助接点機構収容室から隔壁の貫通孔を介しての主接点機構収容室への異物の侵入を適切に防止することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態に係る電磁接触器は、図１乃至図３（ａ），（ｂ）に示されている。図１に示す電磁接触器１は、電流路の開閉を行うものであり、主接点機構２と、主接点機構２の後述する主接点側可動接触子２３を駆動する電磁石ユニット３と、主接点側可動接触子２３と連動する補助接点機構４と、収容室５とを備えている。
主接点機構２は、収容室５を構成するセラミックス製の角筒体６内に配置されている。角筒体６は、頂板部によって上側が閉塞されるとともに、下側は開放されている。角筒体６の下端部は収容室５を構成する金属製の接合部材７に気密状態で接合され、その接合部材７の下端部が後述する上部磁気ヨーク８の上面にシール接合されている。そして、主接点機構２と補助接点機構４のとの間であって角筒体６の下端面には絶縁性の隔壁１０が設けられ、隔壁１０によって仕切られた上側に主接点機構収容室Ａが形成されると共に下側に補助接点機構収容室Ｂが形成される。隔壁１０は、主接点機構２で発生するアークを遮断することを主目的として設置される。
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態に係る電磁接触器は、図１乃至図３（ａ），（ｂ）に示されている。図１に示す電磁接触器１は、電流路の開閉を行うものであり、主接点機構２と、主接点機構２の後述する主接点側可動接触子２３を駆動する電磁石ユニット３と、主接点側可動接触子２３と連動する補助接点機構４と、収容室５とを備えている。
主接点機構２は、収容室５を構成するセラミックス製の角筒体６内に配置されている。角筒体６は、頂板部によって上側が閉塞されるとともに、下側は開放されている。角筒体６の下端部は収容室５を構成する金属製の接合部材７に気密状態で接合され、その接合部材７の下端部が後述する上部磁気ヨーク８の上面にシール接合されている。そして、主接点機構２と補助接点機構４のとの間であって角筒体６の下端面には絶縁性の隔壁１０が設けられ、隔壁１０によって仕切られた上側に主接点機構収容室Ａが形成されると共に下側に補助接点機構収容室Ｂが形成される。隔壁１０は、主接点機構２で発生するアークを遮断することを主目的として設置される。
そして、主接点機構２は、主接点機構収容室Ａ内に収容され、角筒体６の頂板部に固定された一対の主接点側固定接触子２１，２２と、これら一対の主接点側固定接触子２１，２２に対して接離可能に配置されている主接点側可動接触子２３とを備えている。各主接点側固定接触子２１，２２は、導電性金属材料で形成されて角筒体６の頂板部に図１の左右方向に所定間隔を離して固定される。
また、主接点側可動接触子２３は、導電性金属を材料とした図１の左右方向に長尺な導電板であり、電磁石ユニット３の後述する可動プランジャ３３に固定された連結軸３４に上下移動可能に支持される。連結軸３４の主接点側可動接触子２３よりも下側であって主接点機構収容室Ａ内に位置する部分には、フランジ部３４ａが外方に突出するように形成されている。そして、フランジ部３４ａと主接点側可動接触子２３との間には、主接点側可動接触子２３を上方へ付勢する接触スプリング２４が設けられている。
また、主接点側可動接触子２３は、導電性金属を材料とした図１の左右方向に長尺な導電板であり、電磁石ユニット３の後述する可動プランジャ３３に固定された連結軸３４に上下移動可能に支持される。連結軸３４の主接点側可動接触子２３よりも下側であって主接点機構収容室Ａ内に位置する部分には、フランジ部３４ａが外方に突出するように形成されている。そして、フランジ部３４ａと主接点側可動接触子２３との間には、主接点側可動接触子２３を上方へ付勢する接触スプリング２４が設けられている。
連結軸３４は、隔壁１０の中央部に形成された貫通孔１０ａを挿通し、上下方向略中央部で後述する補助可動接触子支持部材４５が固定されるとともに、下端部で可動プランジャ３３に連結されている。
主接点側可動接触子２３は、釈放状態で、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部のそれぞれと下方に所定間隔を保って離間した状態となる。また、主接点側可動接触子２３は、投入状態になると、上方に移動し、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部のそれぞれに、接触スプリング２４による所定の接触力で接触する。
また、補助接点機構４は、補助接点機構収容室Ｂ内に収容され、複数対（本実施形態にあっては２対）の補助接点側固定接触子４１，４２及びこれら複数対の補助接点側固定接触子４１，４２に接離可能な複数（本実施形態にあっては２つ）の補助接点側可動接触子４３を有する。この補助接点機構４は、主接点機構２の開閉状態の検知や主接点機構２における主接点側可動接触子２３の主接点側固定接触子２１，２２に対する溶着状態の検知等に用いられる。
主接点側可動接触子２３は、釈放状態で、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部のそれぞれと下方に所定間隔を保って離間した状態となる。また、主接点側可動接触子２３は、投入状態になると、上方に移動し、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部のそれぞれに、接触スプリング２４による所定の接触力で接触する。
また、補助接点機構４は、補助接点機構収容室Ｂ内に収容され、複数対（本実施形態にあっては２対）の補助接点側固定接触子４１，４２及びこれら複数対の補助接点側固定接触子４１，４２に接離可能な複数（本実施形態にあっては２つ）の補助接点側可動接触子４３を有する。この補助接点機構４は、主接点機構２の開閉状態の検知や主接点機構２における主接点側可動接触子２３の主接点側固定接触子２１，２２に対する溶着状態の検知等に用いられる。
ここで、複数対の補助接点側固定接触子４１，４２は、絶縁性の補助固定接触子支持部材４４に固定されている。この補助固定接触子支持部材４４は、図１及び図２に示すように、一方側の複数の補助接点側固定接触子４１を前後方向（図１における紙面に対して直交する方向）に所定間隔離して固定する一方側固定部４４ａと、一方側固定部４４ａに対して右方向に所定間隔を置いて配置された、他方側の複数の補助接点側固定接触子４２を前後方向に所定間隔離して固定する他方側固定部４４ｂとを備えている。これら一方側固定部４４ａの下端部と他方側固定部４４ｂの下端部とは、連結板部４４ｃとによって連結されている。補助固定接触子支持部材４４は、絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。そして、一方側固定部４４ａの下面、他方側固定部４４ｂの下面、及び連結板部４４ｃの下面は面一に形成されている。補助固定接触子支持部材４４は、一方側固定部４４ａの下面、他方側固定部４４ｂの下面、及び連結板部４４ｃの下面が上部磁気ヨーク８の上面に沿うように、上部磁気ヨーク８上に載置される。連結板部４４ｃの中央部には、連結軸３４が挿通する貫通孔４４ｄが形成されている。連結板部４４ｃは、電磁石ユニット側隔壁を構成する。
また、複数の補助接点側可動接触子４３は、図１及び図２に示すように、主接点側可動接触子２３と可動プランジャ３３との間の連結軸３４に固定された補助可動接触子支持部材４５に上下移動可能に支持されている。補助可動接触子支持部材４５は、図２に示すように、前後方向（紙面に対して直交する方向）に延びる略方形状に形成された補助可動接触子支持部４６を備え、各補助接点側可動接触子４３は、付勢スプリング５０によって常時上方に付勢された状態で補助可動接触子支持部４６に支持されている。
ここで、各対の補助接点側固定接触子４１，４２及び各補助接点側可動接触子４３は、ａ接点（ノーマリーオープンタイプの接点）を構成しており、補助接点側可動接触子４３は、主接点側可動接触子２３が釈放状態で、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の補助接点側固定接触子４１，４２の接点部のそれぞれと下方に所定間隔を保って離間した状態となる。また、補助接点側可動接触子４３は、主接点側可動接触子２３が投入状態となると、上方に移動し、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の補助接点側固定接触子４１，４２の接点部のそれぞれに、付勢スプリング５０による所定の接触力で接触する。
なお、各対の補助接点側固定接触子４１，４２及び各補助接点側可動接触子４３は、ｂ接点（ノーマリークローズタイプの接点）としてもよい。また、一方側の補助接点側固定接触子４１，４２及び補助接点側可動接触子４３をａ接点とし、他方側の補助接点側固定接触子４１，４２及び補助接点側可動接触子４３をｂ接点としてもよい。
ここで、各対の補助接点側固定接触子４１，４２及び各補助接点側可動接触子４３は、ａ接点（ノーマリーオープンタイプの接点）を構成しており、補助接点側可動接触子４３は、主接点側可動接触子２３が釈放状態で、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の補助接点側固定接触子４１，４２の接点部のそれぞれと下方に所定間隔を保って離間した状態となる。また、補助接点側可動接触子４３は、主接点側可動接触子２３が投入状態となると、上方に移動し、両端に形成された接点部のそれぞれが一対の補助接点側固定接触子４１，４２の接点部のそれぞれに、付勢スプリング５０による所定の接触力で接触する。
なお、各対の補助接点側固定接触子４１，４２及び各補助接点側可動接触子４３は、ｂ接点（ノーマリークローズタイプの接点）としてもよい。また、一方側の補助接点側固定接触子４１，４２及び補助接点側可動接触子４３をａ接点とし、他方側の補助接点側固定接触子４１，４２及び補助接点側可動接触子４３をｂ接点としてもよい。
次に、電磁石ユニット３は、連結軸３４の下端に固定され、励磁されることにより主接点側可動接触子２３及び補助接点側可動接触子４３を上方させる可動プランジャ３３と、可動プランジャ３３を駆動する励磁コイル３２とを備えている。
電磁石ユニット３は、図１及び図２に示すように、側面から見てＵ字形状の下部磁気ヨーク３１を備えている。下部磁気ヨーク３１の開放端となる上端には、板状の上部磁気ヨーク８が固定され、この上部磁気ヨーク８の上面に前述の接合部材７の下端部がシール接合される。そして、上部磁気ヨーク８の中央部に貫通孔８ａが形成される。下部磁気ヨーク３１及び上部磁気ヨーク８により可動プランジャ３３を収容する磁気ヨークを構成する。
電磁石ユニット３は、図１及び図２に示すように、側面から見てＵ字形状の下部磁気ヨーク３１を備えている。下部磁気ヨーク３１の開放端となる上端には、板状の上部磁気ヨーク８が固定され、この上部磁気ヨーク８の上面に前述の接合部材７の下端部がシール接合される。そして、上部磁気ヨーク８の中央部に貫通孔８ａが形成される。下部磁気ヨーク３１及び上部磁気ヨーク８により可動プランジャ３３を収容する磁気ヨークを構成する。
また、上部磁気ヨーク８の下面の中央部には、貫通孔８ａを囲むように有底筒状のキャップ９がシール接合される。キャップ９は、板状の上部磁気ヨーク８によって補助接点機構収容室Ｂと仕切られた可動プランジャ収容室Ｃを形成し、この可動プランジャ収容室Ｃ内に、連結軸３４が貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを挿通した状態で可動プランジャ３３が収容される。従って、角筒体６、接合部材７、上部磁気ヨーク８及びキャップ９により主接点機構２、補助接点機構４、連結軸３４及び可動プランジャ３３を密封する収容室５を構成する。収容室５内には、アーク消弧用のガスが封入されている。
また、可動プランジャ３３には、その上端面から下方に凹む復帰スプリング収容凹部３３ａが形成されている。復帰スプリング収容凹部３３ａには、上部磁気ヨーク８の下面との間で可動プランジャ３３を下方に付勢する復帰スプリング３５が配設されている。
また、励磁コイル３２は、下部磁気ヨーク３１の底板上であってキャップ９の周囲に配置されている。
このように構成された電磁接触器１において、主接点機構２における主接点側可動接触子２３の開く動作や閉じる動作に伴って、主接点機構２において異物が発生することがある。例えば、アーク発生によって金属粉が発生したり、主接点側可動接触子２３が連結軸３４に対して摺動した際に削れカスが発生したりする。この異物は、主接点機構収容室Ａ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうことがある。また、その逆に、異物が補助接点機構収容室Ｂ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って主接点機構収容室Ａ内に侵入してしまうこともある。異物が絶縁物の場合には、その異物が補助接点機構４の接点部や主接点機構２の接点部に付着すると、導通不良の原因となる。
また、励磁コイル３２は、下部磁気ヨーク３１の底板上であってキャップ９の周囲に配置されている。
このように構成された電磁接触器１において、主接点機構２における主接点側可動接触子２３の開く動作や閉じる動作に伴って、主接点機構２において異物が発生することがある。例えば、アーク発生によって金属粉が発生したり、主接点側可動接触子２３が連結軸３４に対して摺動した際に削れカスが発生したりする。この異物は、主接点機構収容室Ａ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうことがある。また、その逆に、異物が補助接点機構収容室Ｂ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って主接点機構収容室Ａ内に侵入してしまうこともある。異物が絶縁物の場合には、その異物が補助接点機構４の接点部や主接点機構２の接点部に付着すると、導通不良の原因となる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内の異物は、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入してしまうこともある。また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうこともある。異物が金属材の場合において可動プランジャ３３の接極面に付着すると、動作不良の原因となる。
このため、隔壁１０の貫通孔１０ａの周囲には、異物侵入防止機構６０が設けられている。
また、連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄの周囲には、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０が設けられている。
このため、隔壁１０の貫通孔１０ａの周囲には、異物侵入防止機構６０が設けられている。
また、連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄの周囲には、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０が設けられている。
ここで、異物侵入防止機構６０は、図１及び図２に示すように、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の上面に設けられ、隔壁１０の貫通孔１０ａ内に入り込む円筒状の挿入部６１を備えている。また、異物侵入防止機構６０は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の鍔部６２を備えている。鍔部６２の上下方向の位置は、図３（ａ）に示すように、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じるとともに補助接点側固定接触子４１，４２よりも上方の位置である。また、鍔部６２の上下方向の位置は、図３（ｂ）に示すように、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間（図３（ｂ）においては鍔部６２と隔壁１０とは隙間がないように見えるが実際はわずかな隙間がある）が生じるとともに補助接点側固定接触子４１，４２よりも上方の位置である。また、鍔部６２の大きさを特定する半径は、外周縁が一方側固定部４４ａ及び他方側固定部４４ｂに接触しない程度の最大の大きさである。
また、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、図１及び図２に示すように、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、図３（ａ）に示すように、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、図３（ｂ）に示すように、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の大きさを特定する半径は、外周縁が一方側固定部４４ａ及び他方側固定部４４ｂに接触しない程度の最大の大きさである。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、図３（ａ）に示すように、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、図３（ｂ）に示すように、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の大きさを特定する半径は、外周縁が一方側固定部４４ａ及び他方側固定部４４ｂに接触しない程度の最大の大きさである。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
次に、第１実施形態の電磁接触器１の動作を説明する。
今、一方の主接点側固定接触子２１が例えば大電流を供給する電力供給源に接続され、他方の主接点側固定接触子２２が負荷装置に接続されているものとする。
この状態で、図３（ａ）に示すように、電磁石ユニット３における励磁コイル３２が非励磁状態にあって、電磁石ユニット３で可動プランジャ３３を上昇させる励磁力を発生していない釈放状態にあるものとする。
この釈放状態では、可動プランジャ３３が復帰スプリング３５によって、上部磁気ヨーク８から離れる下方向に付勢される。このため、可動プランジャ３３に連結軸３４を介して連結されている主接点機構２の主接点側可動接触子２３が、一対の主接点側固定接触子２１，２２に対して下方に所定距離だけ離間している。このため、一対の主接点側固定接触子２１，２２の間の電流路が遮断状態にあり、主接点機構２が開いた状態となっている。
今、一方の主接点側固定接触子２１が例えば大電流を供給する電力供給源に接続され、他方の主接点側固定接触子２２が負荷装置に接続されているものとする。
この状態で、図３（ａ）に示すように、電磁石ユニット３における励磁コイル３２が非励磁状態にあって、電磁石ユニット３で可動プランジャ３３を上昇させる励磁力を発生していない釈放状態にあるものとする。
この釈放状態では、可動プランジャ３３が復帰スプリング３５によって、上部磁気ヨーク８から離れる下方向に付勢される。このため、可動プランジャ３３に連結軸３４を介して連結されている主接点機構２の主接点側可動接触子２３が、一対の主接点側固定接触子２１，２２に対して下方に所定距離だけ離間している。このため、一対の主接点側固定接触子２１，２２の間の電流路が遮断状態にあり、主接点機構２が開いた状態となっている。
この釈放状態から、電磁石ユニット３の励磁コイル３２に通電すると、この電磁石ユニット３で励磁力が発生し、図３（ｂ）に示すように、可動プランジャ３３を復帰スプリング３５の付勢力に抗して上方に押し上げる。
このように、可動プランジャ３３が上昇することにより、可動プランジャ３３に連結軸３４を介して連結されている主接点側可動接触子２３も上昇し、主接点機構２の主接点側可動接触子２３が、一対の主接点側固定接触子２１，２２に対して接触スプリング２４の接触圧で接触する。
このため、電力供給源の大電流が、一方の主接点側固定接触子２１、主接点側可動接触子２３、他方の主接点側固定接触子２２を通じて負荷装置に供給され、主接点機構２が閉じた状態となる。
このように、可動プランジャ３３が上昇することにより、可動プランジャ３３に連結軸３４を介して連結されている主接点側可動接触子２３も上昇し、主接点機構２の主接点側可動接触子２３が、一対の主接点側固定接触子２１，２２に対して接触スプリング２４の接触圧で接触する。
このため、電力供給源の大電流が、一方の主接点側固定接触子２１、主接点側可動接触子２３、他方の主接点側固定接触子２２を通じて負荷装置に供給され、主接点機構２が閉じた状態となる。
また、主接点機構２が開いた状態から閉じた状態になると、補助接点機構４の各補助接点側可動接触子４３は、各対の補助接点側固定接触子４１，４２に接触し、各対の主接点側固定接触子２１，２２の間に電流が流れることに流れることになる。
そして、主接点機構２が閉じた状態から、負荷装置への電流供給を遮断する場合には、電磁石ユニット３の励磁コイル３２への通電を停止する。
励磁コイル３２への通電を停止すると、電磁石ユニット３で可動プランジャ３３を上方に移動させる励磁力がなくなることにより、可動プランジャ３３が復帰スプリング３５の付勢力によって下降する。
そして、主接点機構２が閉じた状態から、負荷装置への電流供給を遮断する場合には、電磁石ユニット３の励磁コイル３２への通電を停止する。
励磁コイル３２への通電を停止すると、電磁石ユニット３で可動プランジャ３３を上方に移動させる励磁力がなくなることにより、可動プランジャ３３が復帰スプリング３５の付勢力によって下降する。
この可動プランジャ３３が下降することにより、連結軸３４を介して連結された主接点側可動接触子２３が下降する。これに応じて接触スプリング２４で接触圧を与えているときには、主接点側可動接触子２３が、一対の主接点側固定接触子２１，２２に接触している。その後、接触スプリング２４の接触圧がなくなった時点で、主接点側可動接触子２３が一対の主接点側固定接触子２１，２２から下方に離間する開極開始状態となる。
このような開極開始状態となると、主接点側可動接触子２３の両接点部と、一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部との間にアークが発生し、アークによって電流の通電状態が継続されることになる。このアークは、図示しない消弧装置によって消弧される。
そして、可動プランジャ３３の釈放動作が終了すると、開極終了となる。
このような開極開始状態となると、主接点側可動接触子２３の両接点部と、一対の主接点側固定接触子２１，２２の接点部との間にアークが発生し、アークによって電流の通電状態が継続されることになる。このアークは、図示しない消弧装置によって消弧される。
そして、可動プランジャ３３の釈放動作が終了すると、開極終了となる。
ここで、主接点機構２における主接点側可動接触子２３の開く動作や閉じる動作に伴って、主接点機構２において異物が発生することがある。例えば、アーク発生によって金属粉が発生したり、主接点側可動接触子２３が連結軸３４に対して摺動した際に削れカスが発生したりする。この異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとすると、異物侵入防止機構６０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので（挿入部６１は図３（ａ），（ｂ）に示すように主接点機構２が開いた状態及び閉じた状態のいずれでも貫通孔１０ａ内に入り込んでいる）、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので（挿入部６１は図３（ａ），（ｂ）に示すように主接点機構２が開いた状態及び閉じた状態のいずれでも貫通孔１０ａ内に入り込んでいる）、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
それにもかかわらず、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物もある。この異物は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方に突出する鍔部６２上に乗り、鍔部６２によって捕獲される。このため、鍔部６２よりも下側に位置する補助可動接触子支持部４６に支持された補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのを効果的に阻止することができる。
従って、異物が補助接点機構４の接点部に付着して導通不良の原因となることはない。
従って、異物が補助接点機構４の接点部に付着して導通不良の原因となることはない。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物も鍔部６２によって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのを効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側鍔部７１によってその進行が阻止される。これにより、かかる異物が可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。このため、異物が可動プランジャ３３の接極面に付着することが阻止でき、動作不良の原因となることを回避することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側鍔部７１によってその進行が阻止される。これにより、かかる異物が可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。このため、異物が可動プランジャ３３の接極面に付着することが阻止でき、動作不良の原因となることを回避することができる。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物も電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその進行が防止される。具体的には、かかる異物は電磁石ユニット側鍔部７１によって捕獲される。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１は、主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃの順に上側から下側に向けて垂直方向に配置されているが、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１は、主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃの順に上側から下側に向けて垂直方向に配置されているが、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る電磁接触器を図４及び図５を参照して説明する。図４及び図５において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第２実施形態に係る電磁接触器は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
次に、本発明の第２実施形態に係る電磁接触器を図４及び図５を参照して説明する。図４及び図５において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第２実施形態に係る電磁接触器は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
即ち、第２実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の上面に設けられ、隔壁１０の貫通孔１０ａ内に入り込む円筒状の挿入部６１を備えている。また、異物侵入防止機構６０は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の鍔部６２を備えている。
但し、異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の鍔部６２の外周縁から隔壁１０に向けて連結軸３４が延びる方向（上方向）に突出する環状の外縁部６３を備え、外縁部６３と挿入部６１との間に環状の凹部６３ａを形成している。
但し、異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の鍔部６２の外周縁から隔壁１０に向けて連結軸３４が延びる方向（上方向）に突出する環状の外縁部６３を備え、外縁部６３と挿入部６１との間に環状の凹部６３ａを形成している。
ここで、鍔部６２の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の半径よりも小さくなっている。また、鍔部６２の上下方向の位置は、第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の上下方向の位置よりもやや下方側にずれている。
また、外縁部６３の高さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、外縁部６３と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる高さである。また、外縁部６３の高さは、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、外縁部６３と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる高さである。
また、外縁部６３の高さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、外縁部６３と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる高さである。また、外縁部６３の高さは、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、外縁部６３と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる高さである。
また、第２実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
但し、第２実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第２実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の電磁石ユニット側鍔部の７１の外周縁から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃに向けて連結軸３４が延びる方向（下方向）に突出する環状の電磁石ユニット側外縁部７２を備えている。これにより、電磁石ユニット側外縁部７２の内側であって連結軸３４の外側には環状の凹部７２ａが形成されている。
但し、第２実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第２実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の電磁石ユニット側鍔部の７１の外周縁から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃに向けて連結軸３４が延びる方向（下方向）に突出する環状の電磁石ユニット側外縁部７２を備えている。これにより、電磁石ユニット側外縁部７２の内側であって連結軸３４の外側には環状の凹部７２ａが形成されている。
ここで、電磁石ユニット側鍔部の７１の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の半径よりも小さくなっている。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置よりもやや上方側にずれている。
また、電磁石ユニット側外縁部７２の高さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側外縁部７２と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる高さである。また、電磁石ユニット側外縁部７２の高さは、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側外縁部７２と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる高さである。
また、電磁石ユニット側外縁部７２の高さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側外縁部７２と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる高さである。また、電磁石ユニット側外縁部７２の高さは、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側外縁部７２と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる高さである。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２、外縁部６３、電磁石ユニット側鍔部７１及び電磁石ユニット側外縁部７２を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
このように構成された第２実施形態に係る電磁接触器１の作用につき、図１１を参照して説明する。
第２実施形態に係る電磁接触器１において、図１１に示すように、主接点側可動接触子２３の開く動作や閉じる動作に伴って、異物Ｆが発生することがある。例えば、アークＤの発生によって金属粉が発生したり、主接点側可動接触子２３が連結軸３４に対して摺動した際に図１１における符号Ｅの部分で削れカスが発生したりする。この異物Ｆは、主接点機構収容室Ａ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうことがある。また、その逆に、異物Ｆが補助接点機構収容室Ｂ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って主接点機構収容室Ａ内に侵入してしまうこともある。
このように構成された第２実施形態に係る電磁接触器１の作用につき、図１１を参照して説明する。
第２実施形態に係る電磁接触器１において、図１１に示すように、主接点側可動接触子２３の開く動作や閉じる動作に伴って、異物Ｆが発生することがある。例えば、アークＤの発生によって金属粉が発生したり、主接点側可動接触子２３が連結軸３４に対して摺動した際に図１１における符号Ｅの部分で削れカスが発生したりする。この異物Ｆは、主接点機構収容室Ａ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうことがある。また、その逆に、異物Ｆが補助接点機構収容室Ｂ内から隔壁１０の貫通孔１０ａを通って主接点機構収容室Ａ内に侵入してしまうこともある。
また、補助接点機構収容室Ｂ内の異物Ｆは、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入してしまうこともある。また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入してしまうこともある。
ここで、異物Ｆが主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとすると、異物侵入防止機構６０によってその侵入が防止される。
ここで、異物Ｆが主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとすると、異物侵入防止機構６０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物Ｆが貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
それにもかかわらず、図１１に示すように、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物Ｆもある。この異物Ｆは、外縁部６３と挿入部６１との間に形成された環状の凹部６３ａによって捕獲される。このため、凹部６３ａよりも下側に位置する補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
それにもかかわらず、図１１に示すように、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物Ｆもある。この異物Ｆは、外縁部６３と挿入部６１との間に形成された環状の凹部６３ａによって捕獲される。このため、凹部６３ａよりも下側に位置する補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１においては、平板状の鍔部６２で異物を捕獲しているのに対し、第１実施形態に係る電磁接触器１においては、凹部６３ａで異物を捕獲できるため、異物の捕獲能力を向上することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物Ｆも凹部６３ａによって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物Ｆは、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物Ｆも凹部６３ａによって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部（電磁石ユニット側隔壁）４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物Ｆは、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物Ｆは、電磁石ユニット側外縁部７２により貫通孔４４ｄの手前でその進行が阻止される。また、異物Ｆが進行しても凹部７２ａ内に捕獲される。これにより、かかる異物Ｆが可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物Ｆは電磁石ユニット側外縁部７２と連結軸３４との間に形成される凹部７２ａに捕獲される。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物Ｆは電磁石ユニット側外縁部７２と連結軸３４との間に形成される凹部７２ａに捕獲される。
なお、第２実施形態に係る電磁接触器１も、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る電磁接触器を図６を参照して説明する。図６において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第３実施形態に係る電磁接触器は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
次に、本発明の第３実施形態に係る電磁接触器を図６を参照して説明する。図６において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第３実施形態に係る電磁接触器は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
即ち、第３実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の上面に設けられ、隔壁１０の貫通孔１０ａ内に入り込む円筒状の挿入部６１を備えている。また、異物侵入防止機構６０は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の鍔部６２を備えている。
但し、第３実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の鍔部６２の隔壁１０側の面（上面）に設けられた複数（本実施形態にあっては３つ）の凹部６４を備えている。各凹部６４は、鍔部６２の中心を中心とした円環状であって、鍔部６２の径方向が大きくなるにつれて所定ピッチで半径が大きくなる円環状に形成されている。
但し、第３実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の鍔部６２の隔壁１０側の面（上面）に設けられた複数（本実施形態にあっては３つ）の凹部６４を備えている。各凹部６４は、鍔部６２の中心を中心とした円環状であって、鍔部６２の径方向が大きくなるにつれて所定ピッチで半径が大きくなる円環状に形成されている。
ここで、鍔部６２の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の半径よりも小さくなっている。
また、鍔部６２の厚さは第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の厚さよりも厚くなっている。鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、鍔部６２の厚さは第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の厚さよりも厚くなっている。鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、第３実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
但し、第３実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の電磁石ユニット側鍔部７１の連結板部４４ｃ側の面（下面）に設けられた複数の電磁石ユニット側凹部７３を備えている。各電磁石ユニット側凹部７３は、電磁石ユニット側鍔部７１の中心を中心とした円環状であって、電磁石ユニット側鍔部７１の径方向が大きくなるにつれて所定ピッチで半径が大きくなる円環状に形成されている。
但し、第３実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、円板状の電磁石ユニット側鍔部７１の連結板部４４ｃ側の面（下面）に設けられた複数の電磁石ユニット側凹部７３を備えている。各電磁石ユニット側凹部７３は、電磁石ユニット側鍔部７１の中心を中心とした円環状であって、電磁石ユニット側鍔部７１の径方向が大きくなるにつれて所定ピッチで半径が大きくなる円環状に形成されている。
ここで、電磁石ユニット側鍔部７１の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の半径よりも小さくなっている。
また、電磁石ユニット側鍔部７１の厚さは、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の厚さよりも厚くなっている。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。
また、電磁石ユニット側鍔部７１の厚さは、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の厚さよりも厚くなっている。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、複数の凹部６４を形成した鍔部６２及び複数の電磁石ユニット側凹部７３を形成した電磁石ユニット側鍔部７１を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
このように構成された第３実施形態に係る電磁接触器１によれば、第１及び第２実施形態に係る電磁接触器１と同様に、主接点機構収容室Ａ内の異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとしたときに、異物侵入防止機構６０によってその侵入を防止することができる。
このように構成された第３実施形態に係る電磁接触器１によれば、第１及び第２実施形態に係る電磁接触器１と同様に、主接点機構収容室Ａ内の異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとしたときに、異物侵入防止機構６０によってその侵入を防止することができる。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
それにもかかわらず、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物は、鍔部６２の隔壁１０側の面（上面）に設けられた複数（本実施形態にあっては３つ）の凹部６４によって捕獲される。このため、凹部６４よりも下側に位置する補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
それにもかかわらず、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物は、鍔部６２の隔壁１０側の面（上面）に設けられた複数（本実施形態にあっては３つ）の凹部６４によって捕獲される。このため、凹部６４よりも下側に位置する補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１においては、平板状の鍔部６２で異物を捕獲しているのに対し、第３実施形態に係る電磁接触器１においては、複数の凹部６４で異物を捕獲できるため、異物の捕獲能力を向上することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物も複数の凹部６４によって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物も複数の凹部６４によって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側鍔部７１の厚みによってその進行が阻止される。また、仮に異物が進行しても、複数の電磁石ユニット側凹部７３によって捕獲される。これにより、かかる異物Ｆが可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側鍔部７１の厚みによってその進行が阻止される。また、仮に異物が進行しても、複数の電磁石ユニット側凹部７３によって捕獲される。これにより、かかる異物Ｆが可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物Ｆは複数の電磁石ユニット側凹部７３に捕獲される。
なお、第３実施形態に係る電磁接触器１においても、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
なお、第３実施形態に係る電磁接触器１においても、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る電磁接触器を図７を参照して説明する。図７において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第４実施形態に係る電磁接触器１は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
次に、本発明の第４実施形態に係る電磁接触器を図７を参照して説明する。図７において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第４実施形態に係る電磁接触器１は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
即ち、第４実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の上面に設けられ、隔壁１０の貫通孔１０ａ内に入り込む円筒状の挿入部６１を備えている。また、異物侵入防止機構６０は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の鍔部６２を備えている。
但し、第４実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、隔壁１０の補助接点機構収容室Ｂ側の面（下面）から連結軸３４の延長方向（下方向）に延長した円筒状の突出部６６と、突出部６６の先端から貫通孔１０ａに向けて隔壁１０と平行に延長した板部６７とで鍔部６２の外側を覆うように形成された異物侵入防止補助部６５を備えている。
但し、第４実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、隔壁１０の補助接点機構収容室Ｂ側の面（下面）から連結軸３４の延長方向（下方向）に延長した円筒状の突出部６６と、突出部６６の先端から貫通孔１０ａに向けて隔壁１０と平行に延長した板部６７とで鍔部６２の外側を覆うように形成された異物侵入防止補助部６５を備えている。
ここで、鍔部６２の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の半径よりも小さくなっている。
また、異物侵入防止補助部６５の板部６７は、鍔部６２の下側を覆うように形成されているが、板部６７の中央部に補助可動接触子支持部材４５が挿通可能な貫通孔６７ａが形成されている。
そして、鍔部６２の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じるとともに鍔部６２と板部６７との間にわずかな隙間が生じる位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、異物侵入防止補助部６５の板部６７は、鍔部６２の下側を覆うように形成されているが、板部６７の中央部に補助可動接触子支持部材４５が挿通可能な貫通孔６７ａが形成されている。
そして、鍔部６２の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じるとともに鍔部６２と板部６７との間にわずかな隙間が生じる位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、第４実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
但し、第４実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、連結板部４４ｃ（電磁石ユニット側隔壁）の補助接点機構収容室Ｂ側の面（上面）から連結軸３４の延長方向（上方向）に延長した円筒状の電磁石ユニット側突出部７５と、電磁石ユニット側突出部７５の先端から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄに向けて連結板部４４ｃと平行に延長した電磁石ユニット側板部７６とで電磁石ユニット側鍔部７１の外側を覆うように形成された電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４を備えている。
但し、第４実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、連結板部４４ｃ（電磁石ユニット側隔壁）の補助接点機構収容室Ｂ側の面（上面）から連結軸３４の延長方向（上方向）に延長した円筒状の電磁石ユニット側突出部７５と、電磁石ユニット側突出部７５の先端から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄに向けて連結板部４４ｃと平行に延長した電磁石ユニット側板部７６とで電磁石ユニット側鍔部７１の外側を覆うように形成された電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４を備えている。
ここで、電磁石ユニット側鍔部７１の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の半径よりも小さくなっている。
また、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４の電磁石ユニット側板部７６は、電磁石ユニット側鍔部７１の上側を覆うように形成されているが、電磁石ユニット側板部７６の中央部に補助可動接触子支持部材４５が挿通可能な貫通孔７６ａが形成されている。
そして、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じるとともに電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側板部７６との間に十分な隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じるとともに電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側板部７６との間にわずかな隙間が生じる位置である。
また、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４の電磁石ユニット側板部７６は、電磁石ユニット側鍔部７１の上側を覆うように形成されているが、電磁石ユニット側板部７６の中央部に補助可動接触子支持部材４５が挿通可能な貫通孔７６ａが形成されている。
そして、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間にわずかな隙間が生じるとともに電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側板部７６との間に十分な隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と連結板部４４ｃとの間に十分な隙間が生じるとともに電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側板部７６との間にわずかな隙間が生じる位置である。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
また、隔壁１０は、異物侵入防止補助部６５を含めて絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体に形成されている。
更に、補助固定接触子支持部材４４は、一方側固定部４４ａ、他方側固定部４４ｂ、及び連結板部４４ｃとともに、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４を含めて一体に形成されている。
また、隔壁１０は、異物侵入防止補助部６５を含めて絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体に形成されている。
更に、補助固定接触子支持部材４４は、一方側固定部４４ａ、他方側固定部４４ｂ、及び連結板部４４ｃとともに、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４を含めて一体に形成されている。
このように構成された第４実施形態に係る電磁接触器１によれば、第１乃至第３実施形態に係る電磁接触器１と同様に、主接点機構収容室Ａ内の異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとしたときに、異物侵入防止機構６０によってその侵入を防止することができる。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
それにもかかわらず、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物は、鍔部６２の上面で捕獲される。また、鍔部６２の上面から落ちた異物は異物侵入防止補助部６５により捕獲される。このため、補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより一層効果的に阻止することができる。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１においては、平板状の鍔部６２で異物を捕獲しているのに対し、第４実施形態に係る電磁接触器１においては、異物侵入防止補助部６５により鍔部６２の上面から落ちた異物を捕獲するようにしているので、異物の捕獲能力をより向上することができる。
なお、第１実施形態に係る電磁接触器１においては、平板状の鍔部６２で異物を捕獲しているのに対し、第４実施形態に係る電磁接触器１においては、異物侵入防止補助部６５により鍔部６２の上面から落ちた異物を捕獲するようにしているので、異物の捕獲能力をより向上することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物も鍔部６２及び異物侵入防止補助部６５によって捕獲されるので、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより一層効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、先ず、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４によってその進行が阻止される。また、仮に異物が進行しても、電磁石ユニット側鍔部７１によって捕獲される。これにより、かかる異物が可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入するのを阻止できる。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物は電磁石ユニット側鍔部７１及び電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４に捕獲される。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物は電磁石ユニット側鍔部７１及び電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４に捕獲される。
なお、第４実施形態に係る電磁接触器１においても、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。
（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態に係る電磁接触器を図８乃至図１０を参照して説明する。図８乃至図１０において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第５実施形態に係る電磁接触器１は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
次に、本発明の第５実施形態に係る電磁接触器を図８乃至図１０を参照して説明する。図８乃至図１０において、図１乃至図３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略することがある。
本発明の第５実施形態に係る電磁接触器１は、その基本構造は図１乃至図３に示す第１実施形態に係る電磁接触器１と同様であるが、異物侵入防止機構６０及び電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０の構成が相違している。
即ち、第５実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の上面に設けられ、隔壁１０の貫通孔１０ａ内に入り込む円筒状の挿入部６１を備えている。また、異物侵入防止機構６０は、補助接点機構収容室Ｂ内において挿入部６１から連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の鍔部６２を備えている。
但し、第５実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、隔壁１０の貫通孔１０ａの周囲に凹部６８ａを形成した隔壁１０の凹部形成部６８と、鍔部６２の外周縁から隔壁１０の凹部６８ａ内に向けて連結軸３４の延長方向（上方向）に延長した円筒状の縁部６９とを備えている。凹部形成部６８は、貫通孔１０ａの周囲に凹部６８ａを形成するように隔壁１０を凹ませてなる。
但し、第５実施形態に係る電磁接触器１における異物侵入防止機構６０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、隔壁１０の貫通孔１０ａの周囲に凹部６８ａを形成した隔壁１０の凹部形成部６８と、鍔部６２の外周縁から隔壁１０の凹部６８ａ内に向けて連結軸３４の延長方向（上方向）に延長した円筒状の縁部６９とを備えている。凹部形成部６８は、貫通孔１０ａの周囲に凹部６８ａを形成するように隔壁１０を凹ませてなる。
ここで、鍔部６２の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における鍔部６２の半径よりも小さくなっている。
また、鍔部６２の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、鍔部６２の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に十分な隙間が生じる位置である。また、鍔部６２の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、鍔部６２と隔壁１０との間に僅かな隙間が生じる上下方向位置である。
また、縁部６９の長さ及び隔壁１０の凹部６８ａの深さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態及び主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、縁部６９と凹部６８ａとが互いに重複する領域がある長さ及び深さである。
また、第５実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
また、第５実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と同様に、補助可動接触子支持部材４５の補助可動接触子支持部４６の下端部から補助接点機構収容室Ｂ内で連結軸３４が延びる方向と直交する外方（水平方向）に突出する円板状の電磁石ユニット側鍔部７１を備えている。
但し、第５実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、第１実施形態に係る電磁接触器１と異なり、連結板部４４ｃ（電磁石ユニット側隔壁）の貫通孔４４ｄの周囲に凹部７７ａを形成した連結板部４４ｃの電磁石ユニット側凹部形成部７７と、電磁石ユニット側鍔部７１の外周縁から連結板部４４ｃの凹部７７ａに向けて連結軸３４の延長方向（下方向）に延長した電磁石ユニット側縁部７８とを備えている。電磁石ユニット側凹部形成部７７は、連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄの周囲に凹部７７ａを形成するように連結板部４４ｃの上面に形成される。
ここで、電磁石ユニット側鍔部７１の半径は、第１実施形態に係る電磁接触器１における電磁石ユニット側鍔部７１の半径よりも小さくなっている。
また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側凹部形成部７７との間にわずかに隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側凹部形成部７７との間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。
また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向の位置は、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側凹部形成部７７との間にわずかに隙間が生じる位置である。また、電磁石ユニット側鍔部７１の上下方向位置は、主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側鍔部７１と電磁石ユニット側凹部形成部７７との間に十分な隙間が生じる上下方向位置である。
また、電磁石ユニット側縁部７８の長さ及び凹部７７ａの深さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態及び主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側縁部７８と凹部７７ａとが互いに重複する領域がある長さ及び深さである。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２、縁部６９、電磁石ユニット側鍔部７１及び電磁石ユニット側縁部７８を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
なお、補助可動接触子支持部材４５は、補助可動接触子支持部４６とともに、挿入部６１、鍔部６２、縁部６９、電磁石ユニット側鍔部７１及び電磁石ユニット側縁部７８を絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体的に形成される。
また、隔壁１０は、凹部形成部６８を含めて絶縁性の合成樹脂を成形することにより一体に形成されている。
更に、補助固定接触子支持部材４４は、一方側固定部４４ａ、他方側固定部４４ｂ、及び連結板部４４ｃとともに、電磁石ユニット側凹部形成部７７を含めて一体に形成されている。
このように構成された第５実施形態に係る電磁接触器１によれば、第１乃至第４実施形態に係る電磁接触器１と同様に、主接点機構収容室Ａ内の異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとしたときに、異物侵入防止機構６０によってその侵入を防止することができる。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
更に、補助固定接触子支持部材４４は、一方側固定部４４ａ、他方側固定部４４ｂ、及び連結板部４４ｃとともに、電磁石ユニット側凹部形成部７７を含めて一体に形成されている。
このように構成された第５実施形態に係る電磁接触器１によれば、第１乃至第４実施形態に係る電磁接触器１と同様に、主接点機構収容室Ａ内の異物が主接点機構収容室Ａから隔壁１０の貫通孔１０ａを介して補助接点機構収容室Ｂへ侵入しようとしたときに、異物侵入防止機構６０によってその侵入を防止することができる。
具体的に述べると、異物侵入防止機構６０の挿入部６１が隔壁の貫通孔１０ａ内に入り込んでいるので、異物が貫通孔１０ａを通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入することは挿入部６１によって先ず阻止される。
それにもかかわらず、挿入部６１と貫通孔１０ａとの間の隙間を通過して補助接点機構収容室Ｂへ侵入する異物は、鍔部６２の上面で捕獲される。また、鍔部６２の外周縁から連結軸３４が延びる方向（上方向）に延びる円筒状の縁部６９があるので、異物が縁部６９を乗り越えて外側の補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する可能性を低くすることができる。さらに、縁部６９が隔壁１０に形成された凹部６８ａ内に至るまで延びているので、縁部６９と凹部６８ａとが重複した領域があり、異物が縁部６９を乗り越えても凹部６８ａで捕獲される。また、縁部６９の長さ及び凹部６８ａの深さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態及び主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、縁部６９と凹部６８ａとが互いに重複する領域がある長さ及び深さに設定される。このため、主接点機構２が開いた状態及び閉じた状態のいずれでも、縁部６９と凹部６８ａとが互いに重複する領域が存在し、主接点機構２の開閉状態を問わず異物が補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する可能性を低くすることができる。このため、補助接点側可動接触子４３及び補助接点側固定接触子４１，４２に異物が付着するのをより一層効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から貫通孔１０ａを介して主接点機構収容室Ａ内に侵入するような異物も凹部６８ａ及び鍔部６２で捕獲でき、主接点側可動接触子２３及び主接点側固定接触子２１，２２に異物が付着するのをより一層効果的に阻止することができる。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
また、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が防止される。
具体的に述べると、補助接点機構収容室Ｂ内から連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを通って可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する異物は、先ず、電磁石ユニット側凹部形成部７７によってその進行が阻止される。また、仮に異物が進行しても、その異物は凹部７７ａによって捕獲される。また、電磁石ユニット側縁部７８の長さ及び凹部７７ａの深さは、主接点側可動接触子２３が釈放状態となって主接点機構２が開いた状態及び主接点側可動接触子２３が投入状態となって主接点機構２が閉じた状態で、電磁石ユニット側縁部７８と凹部７７ａとが互いに重複する領域がある長さ及び深さに設定される。このため、主接点機構２が開いた状態及び閉じた状態のいずれでも、電磁石ユニット側縁部７８と凹部７７ａとが互いに重複する領域が存在し、主接点機構２の開閉状態を問わず異物が可動プランジャ収容室Ｃ内に侵入する可能性を低くすることができる。
また、その逆に可動プランジャ収容室Ｃ内から上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを通って補助接点機構収容室Ｂ内に侵入する異物Ｆも電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０によってその侵入が阻止される。具体的には、かかる異物は電磁石ユニット側鍔部７１、電磁石ユニット側縁部７８、電磁石ユニット側凹部形成部７７及び凹部７７ａとによって進行が阻止される。
なお、第５実施形態に係る電磁接触器１においても、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
なお、第５実施形態に係る電磁接触器１においても、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置してもよい。
この場合であっても、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止することができる。特に、縁部６９と凹部６８ａとが互いに重複する領域が存在するため、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置した場合に異物侵入阻止効果が大きい。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。特に、電磁石ユニット側縁部７８と凹部７７ａとが互いに重複する領域が存在するため、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置した場合に異物侵入阻止効果が大きい。
また、この場合であっても、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止することができる。特に、電磁石ユニット側縁部７８と凹部７７ａとが互いに重複する領域が存在するため、電磁接触器１を横にして主接点機構収容室Ａ、補助接点機構収容室Ｂ及び可動プランジャ収容室Ｃを水平方向に向くように設置した場合に異物侵入阻止効果が大きい。
以上、本発明の第１乃至第５実施形態について説明してきたが、本発明はこれに限定されずに種々の変更、改良を行うことができる。
例えば、第１乃至第５実施形態に係る電磁接触器１において、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は必ずしも設けなくてもよい。
また、第１乃至第５実施形態に係る電磁接触器１において、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止するものであればよく、例示した構成に限られない。
例えば、第１乃至第５実施形態に係る電磁接触器１において、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は必ずしも設けなくてもよい。
また、第１乃至第５実施形態に係る電磁接触器１において、異物侵入防止機構６０は、主接点機構収容室Ａから貫通孔１０ａを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入及び補助接点機構収容室Ｂから貫通孔１０ａを介しての主接点機構収容室Ａへの異物の侵入を防止するものであればよく、例示した構成に限られない。
また、第１乃至第５実施形態に係る電磁接触器１において、電磁石ユニット側異物侵入防止機構７０は、補助接点機構収容室Ｂから連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄ及び上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａを介しての可動プランジャ収容室Ｃへの異物の侵入及び可動プランジャ収容室Ｃから上部磁気ヨーク８の貫通孔８ａ及び連結板部４４ｃの貫通孔４４ｄを介しての補助接点機構収容室Ｂへの異物の侵入を防止するものであればよく、例示した構成に限られない。
また、第１実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。
また、第１実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。
また、第２実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。この場合、外縁部６３は、円環状に限らず、鍔部６２の外形に合わせた外周が閉じた形状であればよい。また、外縁部６３の外周の一部に閉じていない箇所があってもよい。また、電磁石ユニット側外縁部７２の形状についても外縁部６３の形状と同様である。
更に、第３実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。また、複数の凹部６４の形状は円環状に限られない。また、複数の電磁石ユニット側凹部７３の形状も円環状に限られない。
更に、第３実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。また、複数の凹部６４の形状は円環状に限られない。また、複数の電磁石ユニット側凹部７３の形状も円環状に限られない。
また、第４実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。この場合、異物侵入防止補助部６５の突出部６６の形状は、円環状に限らず、鍔部６２の外形に合わせた外周が閉じた形状であればよい。突出部６６の外周の一部に閉じていない箇所があってもよい。また、板部６７の形状も突出部６６の形状に合わせた形状とする。また、電磁石ユニット側異物侵入防止補助部７４の電磁石ユニット側突出部７５の形状及び電磁石ユニット側板部７６の形状についても同様である。
また、第５実施形態に係る電磁接触器１において、鍔部６２及び電磁石ユニット側鍔部７１はそれぞれ円板状に形成されているが、多角形板状であったり、楕円形板状であったり、他の形状であってもよい。この場合、縁部６９は、円環状に限らず、鍔部６２の外形に合わせた外周が閉じた形状であればよい。また、縁部６９の外周の一部に閉じていない箇所があってもよい。また、凹部６８ａの形状は、縁部６９が入り込む形状であればよい。また、電磁石ユニット側縁部７８の形状についても縁部６９の形状と同様である。また、凹部７７ａの形状についても凹部６８ａの形状と同様である。
１ 電磁接触器
２ 主接点機構
３ 電磁石ユニット
４ 補助接点機構
５ 収容室
８ 上部磁気ヨーク（磁気ヨーク）
８ａ 貫通孔
１０ 隔壁
２１，２２ 主接点側固定接触子
２３ 主接点側可動接触子
３１ 下部磁気ヨーク（磁気ヨーク）
３３ 可動プランジャ
３４ 連結軸
４１，４２ 補助接点側固定接触子
４３ 補助接点側可動接触子
４４ 補助固定接触子支持部材
４４ｃ 連結板部（電磁石ユニット側隔壁）
４４ｄ 貫通孔
４５ 補助可動接触子支持部材
４６ 補助可動接触子支持部
６０ 異物侵入防止機構
６１ 挿入部
６２ 鍔部
６３ 外縁部
６３ａ 凹部
６４ 凹部
６５ 異物侵入防止補助部
６６ 突出部
６７ 板部
６８ 凹部形成部（隔壁）
６８ａ 凹部
６９ 縁部
７０ 電磁石ユニット側異物侵入防止機構
７１ 電磁石ユニット側鍔部
７２ 電磁石ユニット側外縁部
７３ 電磁石ユニット側凹部
７４ 電磁石ユニット側異物侵入防止補助部
７５ 電磁石ユニット側突出部
７６ 電磁石ユニット側板部
７７ 電磁石ユニット側凹部形成部（電磁石ユニット側隔壁）
７８ 電磁石ユニット側縁部
Ａ 主接点機構収容室
Ｂ 補助接点機構収容室
Ｃ 可動プランジャ収容室
２ 主接点機構
３ 電磁石ユニット
４ 補助接点機構
５ 収容室
８ 上部磁気ヨーク（磁気ヨーク）
８ａ 貫通孔
１０ 隔壁
２１，２２ 主接点側固定接触子
２３ 主接点側可動接触子
３１ 下部磁気ヨーク（磁気ヨーク）
３３ 可動プランジャ
３４ 連結軸
４１，４２ 補助接点側固定接触子
４３ 補助接点側可動接触子
４４ 補助固定接触子支持部材
４４ｃ 連結板部（電磁石ユニット側隔壁）
４４ｄ 貫通孔
４５ 補助可動接触子支持部材
４６ 補助可動接触子支持部
６０ 異物侵入防止機構
６１ 挿入部
６２ 鍔部
６３ 外縁部
６３ａ 凹部
６４ 凹部
６５ 異物侵入防止補助部
６６ 突出部
６７ 板部
６８ 凹部形成部（隔壁）
６８ａ 凹部
６９ 縁部
７０ 電磁石ユニット側異物侵入防止機構
７１ 電磁石ユニット側鍔部
７２ 電磁石ユニット側外縁部
７３ 電磁石ユニット側凹部
７４ 電磁石ユニット側異物侵入防止補助部
７５ 電磁石ユニット側突出部
７６ 電磁石ユニット側板部
７７ 電磁石ユニット側凹部形成部（電磁石ユニット側隔壁）
７８ 電磁石ユニット側縁部
Ａ 主接点機構収容室
Ｂ 補助接点機構収容室
Ｃ 可動プランジャ収容室
Claims (12)
- 一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構を収容する主接点機構収容室と、
複数対の補助接点側固定接触子及びこれら複数対の補助接点側固定接触子に接離可能な複数の補助接点側可動接触子と、前記補助接点側可動接触子を支持する補助可動接触子支持部材とを有する補助接点機構を収容する補助接点機構収容室と、
前記主接点側可動接触子及び前記補助可動接触子支持部材に連結軸を介して連結された可動プランジャと、前記可動プランジャを収容する磁気ヨークとを有する電磁石ユニットとを備え、
前記主接点機構収容室と前記補助接点機構収容室は、前記連結軸を挿通する貫通孔が形成された隔壁によって仕切られ、
前記貫通孔の周囲に異物侵入防止機構を備え、
前記異物侵入防止機構は、前記補助可動接触子支持部材に設けられ、前記隔壁の前記貫通孔内に入り込む挿入部と、前記補助接点機構収容室内で前記挿入部から前記連結軸が延びる方向と直交する外方に突出する鍔部とを備えていることを特徴とする電磁接触器。 - 前記異物侵入防止機構は、前記鍔部の外周縁から前記隔壁に向けて前記連結軸が延びる方向に突出する外縁部を備え、該外縁部と前記挿入部との間に凹部を形成したことを特徴とする請求項１に記載の電磁接触器。
- 前記異物侵入防止機構は、前記鍔部の隔壁側の面に設けられた複数の凹部を備えていることを特徴とする請求項１に記載の電磁接触器。
- 前記異物侵入防止機構は、前記隔壁から前記連結軸の延長方向に延長した突出部と、該突出部の先端から前記貫通孔に向けて前記隔壁と平行に延長した板部とで前記鍔部の外側を覆うように形成された異物侵入防止補助部を備えていることを特徴とする請求項１に記載の電磁接触器。
- 前記異物侵入防止機構は、前記貫通孔の周囲に凹部を形成した前記隔壁と、前記鍔部の外周縁から前記隔壁の凹部に向けて前記連結軸の延長方向に延長した縁部とを備えていることを特徴とする請求項１に記載の電磁接触器。
- 一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構を収容する主接点機構収容室と、
複数対の補助接点側固定接触子及びこれら複数対の補助接点側固定接触子に接離可能な複数の補助接点側可動接触子と、前記補助接点側可動接触子を支持する補助可動接触子支持部材とを有する補助接点機構を収容する補助接点機構収容室と、
前記主接点側可動接触子及び前記補助可動接触子支持部材に連結軸を介して連結された可動プランジャと、前記可動プランジャを収容する磁気ヨークとを有する電磁石ユニットとを備え、
前記主接点機構収容室と前記補助接点機構収容室は、前記連結軸を挿通する貫通孔が形成された隔壁によって仕切られ、
前記貫通孔の周囲に異物侵入防止機構を備え、
前記補助接点機構と前記電磁石ユニットとの間に前記連結軸を挿通する貫通孔が形成された電磁石ユニット側隔壁を有し、
前記電磁石ユニット側隔壁の周囲に電磁石ユニット側異物侵入防止機構を備えたことを特徴とする電磁接触器。 - 一対の主接点側固定接触子及びこれら一対の主接点側固定接触子に接離可能な主接点側可動接触子を有する主接点機構を収容する主接点機構収容室と、
複数対の補助接点側固定接触子及びこれら複数対の補助接点側固定接触子に接離可能な複数の補助接点側可動接触子と、前記補助接点側可動接触子を支持する補助可動接触子支持部材とを有する補助接点機構を収容する補助接点機構収容室と、
前記主接点側可動接触子及び前記補助可動接触子支持部材に連結軸を介して連結された可動プランジャと、前記可動プランジャを収容する磁気ヨークとを有する電磁石ユニットとを備え、
前記補助接点機構と前記電磁石ユニットとの間に前記連結軸を挿通する貫通孔が形成された電磁石ユニット側隔壁を有し、
前記電磁石ユニット側隔壁の周囲に電磁石ユニット側異物侵入防止機構を備え、
前記電磁石ユニット側異物侵入防止機構は、前記補助可動接触子支持部材に設けられ、前記補助接点機構収容室で前記連結軸が延びる方向と直交する外方に突出する電磁石ユニット側鍔部を備えていることを特徴とする電磁接触器。 - 前記電磁石ユニット側隔壁は、前記磁気ヨークに載置され、前記補助接点側固定接触子を支持する補助固定接触子支持部材を連結する連結板部で構成されていることを特徴とする請求項７に記載の電磁接触器。
- 前記電磁石ユニット側異物侵入防止機構は、前記電磁石ユニット側鍔部の外周縁から前記電磁石ユニット側隔壁に向けて前記連結軸が延びる方向に突出する電磁石ユニット側外縁部を備えていることを特徴とする請求項７又は８に記載の電磁接触器。
- 前記電磁石ユニット側異物侵入防止機構は、前記電磁石ユニット側鍔部の前記電磁石ユニット側隔壁側の面に設けられた複数の電磁石ユニット側凹部を備えていることを特徴とする請求項７又は８に記載の電磁接触器。
- 前記電磁石ユニット側異物侵入防止機構は、前記電磁石ユニット側隔壁から前記連結軸の延長方向に延長した電磁石ユニット側突出部と、該電磁石ユニット側突出部の先端から前記電磁石ユニット側隔壁の貫通孔に向けて前記電磁石ユニット側隔壁と平行に延長した電磁石ユニット側板部とで前記電磁石ユニット側鍔部の外側を覆うように形成された電磁石ユニット側異物侵入防止補助部を備えていることを特徴とする請求項７又は８に記載の電磁接触器。
- 前記電磁石ユニット側異物侵入防止機構は、前記電磁石ユニット側隔壁の貫通孔の周囲に凹部を形成した前記電磁石ユニット側隔壁と、前記電磁石ユニット側鍔部の外周縁から前記電磁石ユニット側隔壁の凹部に向けて前記連結軸の延長方向に延長した電磁石ユニット側縁部とを備えていることを特徴とする請求項７又は８に記載の電磁接触器。
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