JP6671986B2 - 電流センサおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
に関するものである。
前記非導電領域の幅となる前記第1の導体部と前記第2の導体部との間の距離である非導電領域幅xと、
前記非導電領域幅xの方向と前記第1の導体部および前記第2の導体部の電流方向との双方に直交する方向の高さtとの下記式(1)
[数1]
R=t/x …(1)
で示される比率Rが、下記式(2)
[数2]
1/4≦R≦1 …(2)
を満たし、
前記第1の磁気センサは前記第2の磁気センサに比べて前記第1の導体部側に設けられ、
前記第2の磁気センサは前記第1の磁気センサに比べて前記第2の導体部側に設けられ、
前記第1の導体部と前記第2の導体部とは、前記高さの方向および電流の通流方向の双方に沿った仮想面に対して面対称であり、
前記第1の導体部と前記第1の磁気センサの距離と、前記第2の導体部と前記第2の磁気センサの距離とが等しく、
前記比率Rは、前記式(2)の範囲において、前記非導電領域内の前記非導電領域幅xの方向における中心の磁束密度勾配が最大となるように規定されている。
非導電領域の高さ方向を長くすることにより、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサが位置する非導体領域内の磁束密度勾配を大きくできるので、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサに生じる第1の導電部および第2の導電部を流れる電流の誘導磁界の差を大きくすることができ、高い測定精度を得ることができる。
また、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサが位置する非導体領域内の磁束密度勾配を大きくできるので、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサを近づけることができ、両磁気センサに生じる外来磁場の影響を高精度に除去でき、高い測定精度を実現できる。
そのため、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサの検出結果の差から、前記第1の導体部および前記第2の導体部を流れる電流値を算出できる。
また、この構成によれば、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサが位置する非導電領域内の磁束密度勾配を大きくできるので、第1の磁気センサおよび第2の磁気センサに生じる第1の導体部および第2の導体部を流れる電流の誘導磁界の差を大きくすることができ、高い測定精度を得ることができる。
この構成によれば、前記第1の導体部および前記第2の導体部が平板状であるため、簡単な加工により、非導電領域の高さ方向を長くできる。
この構成によれば、前記第2の導体部に屈曲部を持たせることで、前記非導電領域における前記第1の導体部と前記第2の導体部との間の距離を長くすることができる。
この構成によれば、前記第1の導体部および前記第2の導体部の双方に前記屈曲部を持たせることで、前記第1の導体部および前記第2の導体部の間の距離を簡単な構成で長くすることができる。
この構成によれば、前記第1の導体部と前記第2の導体部とで、前記電流流入部および前記電流流出部をそれぞれ直接接続するため、前記第1の導体部と前記第2の導体部とを接続するための導電部を別途設ける必要がなく、構成を簡単且つ安価にできる。
この構成によれば、非導電領域内において、前記第1の導体部および前記第2の導体部の双方から発生する誘導磁界の強さの広がりパターンが同一となるので、非導電領域の中央付近の磁束密度勾配が直線に近づき、測定精度を高める設計が容易である。
[数3]
0. 4≦R≦0.6 …(3)
この構成によれば、前記第1の磁気センサと前記第2の磁気センサとの検出結果の差を求めることで、外来磁場の影響を除去できる。
図1は、本発明の実施形態に係る電流センサの構成を説明するための斜視図、図2は図1に示す断面線A−Aにおける断面図、図3は図2における導電部を流れる電流によって生じる磁界の分布を説明するための図、図4は図2における各部の長さの比率を説明するための図である。
非導電領域13のX1方向側には第1の導体部11bが位置し、X2方向側には第2の導体部11cが位置している。
第1の導体部11bおよび第2の導体部11cの通流方向と直交する断面は長方形であり、例えば同一の大きさである。
第1の導体部11bおよび第2の導体部11cの各々には、図1および図2に示すように、第3の導電部11aおよび第4の導電部11dに流れる電流Iの1/2となる電流Ibおよび電流Icが流れる。
具体的には、第1の磁気センサ15は、第2の導体部11cに比べて第1の導体部11b側に設けられている。第2の磁気センサ17は第1の導体部11bに比べて第2の導体部11c側に設けられている。第1の導体部11bおよび第2の導体部11cは、これらの長方形の断面の長辺の方向および通流方向の双方に沿った仮想面31に対して面対称であり、断面方向(X−Z面方向)において、第1の導体部11bと第1の磁気センサ15との間の距離と、第2の導体部11cと第2の磁気センサ17との間の距離とが等しい。
第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17は、図示しない基板上等に固定されている。
図3に示すように、第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17は、第1の導体部11bおよび第2の導体部11cを流れる電流によって生じる第1の誘導磁界Bbおよび第2の誘導磁界Bcを検出する。
また、Z1−Z2方向の非導電領域13の高さをtとする。
図5では、t=2.2mm、x=5mmとし、第1の導体部11bおよび第2の導体部11cの幅を1.8mmとし、40Aの電流Iを流す場合でシミュレーションした結果である。この場合に、非導電領域13の中心付近の磁束密度勾配は約1.0mT/mmとなり、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17との間の検出磁界の差が約1mT必要であると、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17とのX1−X2方向の間隔は1.0mm必要となる。
図6のシミュレーションは、図5の場合と同じ条件で行った。
図7のシミュレーションは、x=6mmとし、80Aの電流Iを流す場合で行った。
R=t/x …(1)
1/4≦R≦1 …(2)
0. 4≦R≦0.6 …(3)
具体的には、処理部21は、第1の磁気センサ15の第1の磁気検出結果と第2の磁気センサ17の第2の磁気検出結果との差から、導電体11を流れる電流値を算出する。
導電体11の第3の導電部11aからの電流Iが、第1の導体部11bおよび第2の導体部11cにI/2ずつ分流される。具体的には、第1の導体部11bの電流流入部11b1から電流流出部11b2に向けてI/2の電流Ibが流れる。第2の導体部11cの電流流入部11c1から電流流出部11c2に向けてI/2の電流Icが流れる。
ここで、上述したように電流Ibと電流Icとは共にI/2である。そのため、非導電領域13内において、第1の誘導磁界Bbと第2の誘導磁界Bcとは向きが逆で、大きさ同じである。
この場合に、図5および図6に示すように、非導電領域幅x方向における非導電領域13内の磁束密度勾配は最大付近になる。
そのため、非導電領域13内において、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17とのX1−X2方向の距離を「0.6〜3.0mm」のように近距離にしても、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17との間に誘導磁界の差を大きくできる。
処理部21は、下記式(4)に示すように、第1の磁界検出結果をVbと第2の磁界検出結果をVcとの差である。
V=Vb−Vc …(4)
図8は、電流センサ1の隣接導体からの外来磁場の影響を説明するための図である。図9は、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17との間の距離と、処理部21で算出した差との関係を説明するための図である。
図9は、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17の中心と隣接導体83の中心との距離(横軸)と、隣接導体83からの外乱磁場による算出電流値への影響(縦軸)との関係を、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17の複数の距離について示した図である。
また、第2の磁気センサ17に生じる磁界は、第2の磁界Bcと外来磁界Bnの第2の合成磁界(Bc+Bnc)になる。
ここで、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17とは近接しているため、外来磁界BnbとBncの大きさは略同じになる。
処理部21は、下記式(5)に示すように、第1の磁界検出結果(Vb+Vnb)と第2の磁界検出結果(Vc+Vnc)との差を算出する。このとき、外来磁界Bnb,Bncの成分である(Vnb―Vnc)は非常に小さく無視できる。
V=(Vb+Vnb)−(Vc+Vnc)
=(Vb−Vc)+(Vnb―Vnc) …(5)
また、隣接導体83からの外乱磁場による算出電流値への影響が同じであれば、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17との距離が短い方が、第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17の中心と隣接導体の中心との距離(横軸)を短くできる。
隣接導体83からの外乱磁場による算出電流値への影響を抑えるためには差動処理する第1の磁気センサ15と第2の磁気センサ17との距離を短くする必要がある。
そのため、第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17の検出結果の差を算出することで、外来磁界の影響を抑制して、導電体11を流れる電流値を高精度に算出できる。
図10は、本発明の第2実施形態に係る本実施形態の電流センサ201を説明するための図である。
電流センサ201は、第1の導体部211b、第2の導体部211c、第3の導体部211a、第4の導体部211dを各々別体として有する。
第1の導体部211bおよび第2の導体部211cは、平板状であり、その通流方向(Y1−Y2方向)と直交する断面は長方形である。ここで、当該長方形の短辺はX1−X2方向に平行であり、長辺はZ1−Z2方向に平行である。
すなわち、第1の導体部211bおよび第2の導体部211cは、長辺を形成し通流方向(Y1−Y2方向)に沿った面同士が向かい合っている。
第1の導体部211bおよび第2の導体部211cの断面の面積は同じであり、第3の導電部211aに流れる電流Iの1/2となる電流Ibおよび電流Icが各々に流れる。
非導電領域213内には、第1の導体部11bおよび第2の導体部11cとの間のX−X2方向の距離が相互に異なる位置に、第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17が設けられている。
第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17は、第1の導体部211bおよび第2の導体部211cを流れる電流によって生じる誘導磁界を検出する。
そして、電流センサ201においても、第1実施形態と同様に、非導電領域213の非導電領域幅xと高さtとの比率Rが、非導電領域213内のX1−X2方向における磁束密度勾配の最大値から所定の範囲内になるように規定されている。
好適には、比率Rが、第1実施形態の式(1)〜(3)を満たすように規定される。
図11は、図10に示す電流センサ201の製造工程を説明するためのフローチャートである。
ステップST1:
断面が長方形の平形状の第1の導体部211bおよび第2の導体部211cを用意する。
また、断面が長方形の平形状の第3の導体部211aおよび第4の導体部211dを用意する。
第1の導体部211bの長方形の断面の短辺および長辺が、第2の導体部211cの長方形の断面の短辺および長辺と、それぞれ平行になる姿勢にする。具体的には、第1の導体部211bと第2の導体部211cとが対向する姿勢にする。
第1の導体部211bの電流流入部211b1と、第2の導体部211cの電流流入部211c1とで第3の導体部211aの端部を挟み込む。
また、第1の導体部211bの電流流出部211b2と、第2の導体部211cの電流流出部211c2とで第4の導体部211dの端部を挟み込む。
これにより、第1の導体部211bの電流流入部211b1と、第2の導体部211cの電流流入部211c1とが電気接続される。また、第1の導体部211bの電流流出部211b2と、第2の導体部211cの電流流出部211c2とが電気接続される。
第1の導体部211b、第2の導体部211c、第3の導体部211aおよび第4の導体部211dによって囲まれた非導電領域213内における、第1の導体部11bおよび第2の導体部11cとの間のX−X2方向の距離が相互に異なる位置に、第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17を配設する。
図12は、本発明の第3実施形態に係る本実施形態の電流センサ301を説明するための図である。
電流センサ301は、第1の導体部311bおよび第2の導体部311cを各々別体として有する。
第1の導体部311bと第2の導体部311cとの間には、非導電領域313が形成されている。
第1の導体部311bと第2の導体部311cとは、非導電領域313のY1−Y2方向の両端で電気的に直接接合している。
第2の導体部311cは、平板状である。
第1の平板部351と第4の平板部354、第3の平板部353と第4の平板部354、第2の平板部352と第5の平板部355、第3の平板部353と第5の平板部355とが、屈曲部を形成している。
非導電領域313内には、第1の導体部311bの第3の平板部353と第2の導体部311cとの間のX−X2方向の距離が相互に異なる位置に、第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17が設けられている。
第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17は、第1の導体部311bおよび第2の導体部311cを流れる電流によって生じる誘導磁界を検出する。
そして、電流センサ301においても、第1実施形態と同様に、非導電領域313の非導電領域幅xと高さtとの比率Rが、非導電領域213内のX1−X2方向における磁束密度勾配の最大値から所定の範囲内になるように規定されている。
好適には、比率Rが、第1実施形態の式(1)〜(3)を満たすように規定される。
また、電流センサ301によれば、第1の導体部311bと第2の導体部311cとで、電流流入部および電流流出部をそれぞれ直接接続するため第1の導体部311bと第2の導体部311cとを接続するための導電部を別途設ける必要がなく、構成を簡単且つ安価にできる。
図13は、本発明の第4実施形態に係る本実施形態の電流センサ401を説明するための図である。
電流センサ401は、第1の導体部311cおよび第2の導体部411cを各々別体として有する。
第1の導体部311cと第2の導体部411cとの間には、非導電領域413が形成されている。
第1の導体部311bは、第3実施形態で説明した第1の導体部311bと同じである。
電流センサ401は、第1の導体部311bと第2の導体部411cとで囲まれた非導電領域413を有する。
第1の磁気センサ15および第2の磁気センサ17は、第1の導体部311bおよび第2の導体部411cを流れる電流によって生じる誘導磁界を検出する。
そして、電流センサ401においても、第1実施形態と同様に、非導電領域413の非導電領域幅xと高さtとの比率Rが、非導電領域213内のX1−X2方向における磁束密度勾配の最大値から所定の範囲内になるように規定されている。
好適には、比率Rが、第1実施形態の式(1)〜(3)を満たすように規定される。
また、電流センサ401によれば、第1の導体部311bと第2の導体部311cとで、電流流入部および電流流出部をそれぞれ直接接続するため、第1の導体部311bと第2の導体部411cとを接続するための導電部を別途設ける必要がなく、構成を簡単且つ安価にできる。
すなわち、当業者は、本発明の技術的範囲またはその均等の範囲内において、上述した実施形態の構成要素に関し、様々な変更、コンビネーション、サブコンビネーション、並びに代替を行ってもよい。
また、上述した実施形態では、第1の導体部11b,211b.311bと第2の導体部11c,211c,311c,411cとの断面積が同じ場合を例示したが、断面積は異なっていてもよい。
13,231,313,413…非導電領域
11b,211b.311b…第1の導体部
11c,211c,311c,411c…第2の導体部
15…第1の磁気センサ
17…第2の磁気センサ
21…処理部
31,431…仮想面
Claims (8)
- 通流方向と直交する断面が長方形の第1の導体部と、
通流方向と直交する断面が長方形であり、当該長方形の短辺および長辺が前記第1の導体部の長方形の短辺および長辺と、通流方向に延在する少なくとも一部分において平行するように設けられ、電流流入部および電流流出部がそれぞれ前記第1の導体部の電流流入部および電流流出部と電気的に接続された第2の導体部と、
前記第1の導体部と前記第2の導体部とが平行する部分における前記第1の導体部と前記第2の導体部との間の非導電領域内において、前記短辺に沿った方向の異なる位置に設けられ、前記第1の導体部および前記第2の導体部を流れる電流によって生じる誘導磁界を検出する第1の磁気センサおよび第2の磁気センサと、
を有し、
前記第1の導体部と前記第2の導体部とは別体であり、電流流入部同士および電流流出部同士が、直接あるいは間接的に電気接続されており、
前記第1の導体部の前記長辺を形成し前記通流方向に沿った面と、前記第2の導体部の前記長辺を形成し前記通流方向に沿った面とが向かい合っており、
前記非導電領域の幅となる前記第1の導体部と前記第2の導体部との間の距離である非導電領域幅xと、
前記非導電領域幅xの方向と前記第1の導体部および前記第2の導体部の電流方向との双方に直交する方向の高さtとの下記式(1)
[数1]
R=t/x …(1)
で示される比率Rが、下記式(2)
[数2]
1/4≦R≦1 …(2)
を満たし、
前記第1の磁気センサは前記第2の磁気センサに比べて前記第1の導体部側に設けられ、
前記第2の磁気センサは前記第1の磁気センサに比べて前記第2の導体部側に設けられ、
前記第1の導体部と前記第2の導体部とは、前記高さの方向および電流の通流方向の双方に沿った仮想面に対して面対称であり、
前記第1の導体部と前記第1の磁気センサの距離と、前記第2の導体部と前記第2の磁気センサの距離とが等しく、
前記比率Rは、前記式(2)の範囲において、前記非導電領域内の前記非導電領域幅xの方向における中心の磁束密度勾配が最大となるように規定されている
電流センサ。 - 前記第1の導体部および前記第2の導体部は平板状である
請求項1に記載の電流センサ。 - 前記第1の導体部は平板状であり、
前記第2の導体部は、前記第1の導体部との間に前記非導電領域を形成するように屈曲部を有する
請求項1に記載の電流センサ。 - 前記第1の導体部と前記第2の導体部とは、前記通流方向における前記非導電領域の両端で電気的に直接接続している
請求項2または請求項3に記載の電流センサ。 - 前記第2の導体部は、前記第1の導体部と面接する第1の平板部と、前記第1の導体部と面接する第2の平板部と、前記第1の導体部と平行に離間して位置する第3の平板部と、前記第1の平板部と前記第3の平板部の一端との間に介在する第4の平板部と、前記第2の平板部と前記第3の平板部の他端との間に介在する第5の平板部とを有し、
前記第1の平板部と前記第4の平板部、前記第3の平板部と前記第4の平板部、前記第2の平板部と前記第5の平板部、前記第3の平板部と前記第5の平板部とが、前記屈曲部を形成している
請求項3に記載の電流センサ。 - 前記第1の導体部と前記第2の導体部とは、前記長辺の方向および前記通流方向の双方に沿った仮想面に対して面対称であり、
前記断面方向において、前記第1の導体部と前記第1の磁気センサの距離と、前記第2の導体部と前記第2の磁気センサの距離とが等しい
請求項1に記載の電流センサ。 - 前記第1の磁気センサと前記第2の磁気センサとの検出結果の差から前記第1の導体部および前記第2の導体部を流れる電流値を算出する処理部
をさらに有する請求項1〜6のいずれかに記載の電流センサ。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の電流センサの製造方法であって、
前記第1の導体部の長方形の断面の短辺および長辺が、前記第2の導体部の長方形の断面の短辺および長辺と、通流方向に延在する少なくとも一部分においてそれぞれ平行になる姿勢にする第1の工程と、
前記第1の工程の姿勢において、前記第1の導体部の電流流入部と前記第2の導体部の電流流入部とで、断面が長方形の平板状の形状を持った第3の導体の端部を挟み込むとともに、前記第1の導体部の電流流出部と前記第2の導体部の電流流出部とで、断面が長方形の平板状の形状を持った第4の導体の端部を挟み込むことにより、前記第1の導体部および前記第2の導体部の電流流入部同士および電流流出部同士を電気接続する第2の工程と、
前記第1の導体部と前記第2の導体部とが平行する部分における前記第1の導体部と前記第2の導体部との間の非導電領域内において、前記短辺に沿った方向の異なる位置に第1の磁気センサおよび第2の磁気センサを配置する第3の工程と
を有する電流センサ製造方法。
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DE19838536A1 (de) * | 1998-08-25 | 2000-03-02 | Lust Antriebstechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bildung eines oder mehrerer Magnetfeldgradienten durch einen geraden Leiter |
JP2002107385A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Stanley Electric Co Ltd | 電流センサ |
JP2005283451A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 電流測定装置および電流測定方法 |
JP2007212307A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Akebono Brake Ind Co Ltd | 電流センサ |
US7583073B2 (en) * | 2007-07-19 | 2009-09-01 | Honeywell International Inc. | Core-less current sensor |
WO2016002501A1 (ja) * | 2014-07-02 | 2016-01-07 | 株式会社村田製作所 | 電流センサ |
WO2017010210A1 (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | 株式会社村田製作所 | 電流センサ |
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