JP6582901B2 - 画像形成装置 - Google Patents
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Description
本発明は画像形成装置に関し、特に耐メモリ性を向上させうる技術に関する。
電子写真方式の複写機やプリンターなどの画像形成装置では、使用初期から寿命末期にかけて画像の画質安定性が求められる。
画質安定性を向上させるため、たとえば、特許文献１では、帯電→露光→現像→転写の後に再度帯電および露光（除電）を同時に行うことが提案されている（段落０００５、実施例１、図１、実施例３、図２など参照）。
画質安定性を向上させるため、たとえば、特許文献１では、帯電→露光→現像→転写の後に再度帯電および露光（除電）を同時に行うことが提案されている（段落０００５、実施例１、図１、実施例３、図２など参照）。
しかしながら、特許文献１のような、第２の帯電および露光を重ねた構成の画像形成方法でも、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性が十分に得られないのが実情である。「サイズメモリ」とは、有機感光体の１回転目による画像形成部と非画像形成部との転写履歴の違いが、有機感光体の２回転目による画像（ベタ画像であるかハーフトーン画像であるかは不問である。）上に、濃度差として現れる現象である。「転写メモリ」とは、転写履歴が残りハーフトーン画像上に濃淡差として現れる現象である。
したがって、本発明の主な目的は、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させることができる画像形成装置を提供することにある。
したがって、本発明の主な目的は、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させることができる画像形成装置を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明によれば、
導電性支持体上に、中間層、感光層および保護層が形成された有機感光体であって、前記保護層に電荷輸送物質が含有されている前記有機感光体と、
前記有機感光体を帯電させる帯電装置と、
前記帯電装置により帯電された前記有機感光体に露光する露光装置と、
前記露光装置により露光された前記有機感光体にトナーを供給する現像装置と、
前記有機感光体上に形成されたトナー像を転写する転写装置と、
転写後の前記有機感光体を帯電させる第２の帯電装置と、
前記第２の帯電装置による帯電と同時に、転写後の前記有機感光体に露光する第２の露光装置と、を備え、
前記電荷輸送物質が一般式（１）で表される構造を含み、かつ
前記中間層には、無機処理を施した金属酸化物粒子が含有されていることを特徴とする画像形成装置が提供される。
（一般式（１）中、Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ３ 、Ｒ ４ は各々、水素原子、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数１〜７のアルコキシ基を表し、ｋ、ｌ、ｎは１〜５の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ｋ、ｌ、ｍ、ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＲ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ３ 、Ｒ ４ の基は互いに同一でもよいし異なっていてもよい。）
導電性支持体上に、中間層、感光層および保護層が形成された有機感光体であって、前記保護層に電荷輸送物質が含有されている前記有機感光体と、
前記有機感光体を帯電させる帯電装置と、
前記帯電装置により帯電された前記有機感光体に露光する露光装置と、
前記露光装置により露光された前記有機感光体にトナーを供給する現像装置と、
前記有機感光体上に形成されたトナー像を転写する転写装置と、
転写後の前記有機感光体を帯電させる第２の帯電装置と、
前記第２の帯電装置による帯電と同時に、転写後の前記有機感光体に露光する第２の露光装置と、を備え、
前記電荷輸送物質が一般式（１）で表される構造を含み、かつ
前記中間層には、無機処理を施した金属酸化物粒子が含有されていることを特徴とする画像形成装置が提供される。
本発明によれば、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させることができる。
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
以下では、数値範囲を示す「〜」の前後に記載される数値は下限値および上限値として含まれる。
以下では、数値範囲を示す「〜」の前後に記載される数値は下限値および上限値として含まれる。
［画像形成装置］
図１に示すとおり、画像形成装置１は、書込みユニット２１、転写ローラー２３、定着装置２４および給紙トレイ２５を備えている。
書込みユニット２１は、ドラム状の有機感光体２ａと、有機感光体２ａの回転方向に沿って配置された帯電装置２ｂ、露光装置２ｃ、現像装置２ｄ、クリーニング装置２ｅ、第２の帯電装置４０および第２の露光装置６０とを、備えている。
図１に示すとおり、画像形成装置１は、書込みユニット２１、転写ローラー２３、定着装置２４および給紙トレイ２５を備えている。
書込みユニット２１は、ドラム状の有機感光体２ａと、有機感光体２ａの回転方向に沿って配置された帯電装置２ｂ、露光装置２ｃ、現像装置２ｄ、クリーニング装置２ｅ、第２の帯電装置４０および第２の露光装置６０とを、備えている。
画像形成装置１では、帯電装置２ｂが有機感光体２ａに一様な電位を付与して帯電させる。その後、露光装置２ｃが有機感光体２ａに露光し、有機感光体２ａ上に静電潜像を形成する。その後、現像装置２ｄが有機感光体２ａにトナーを供給する。有機感光体２ａはトナーの供給により現像された画像を担持する。
その後、有機感光体２ａの回転に伴い、有機感光体２ａ上に担持された画像が転写ローラー２３の位置に至り、そのタイミングに合わせて、給紙トレイ２５から用紙Ｐが給紙される。用紙Ｐは転写ローラー２３と有機感光体２ａとにニップされ、有機感光体２ａ上の画像が用紙Ｐに転写される。転写ローラー２３は有機感光体２ａ上に形成されたトナー像を転写する転写装置の一例である。その後、クリーニング装置２ｅが有機感光体２ａに残留するトナーを除去する。
その後、定着装置２４が、画像が転写された用紙Ｐを加熱および加圧して画像を用紙Ｐに定着させる。用紙Ｐの両面に画像を形成する場合は、用紙Ｐが搬送経路２６に搬送され用紙面が反転された後、転写ローラー２３の位置に再度用紙Ｐが給紙される。
上記のとおり、有機感光体２ａの回転方向のクリーニング装置２ｅより下流側には、第２の帯電装置４０および第２の露光装置６０が設置されている。
図２（ａ）に示すとおり、第２の帯電装置４０はコロトロン方式の帯電器４２で構成されている。帯電器４２はシールド４４に放電ワイヤ４６が配置された構成を有している。第２の露光装置６０はライン状のランプ６２で構成され、汎用の露光装置または除電装置が用いられる。たとえば、第２の露光装置６０はレーザー、ＬＥＤランプ、ハロゲンランプ、冷陰極管、蛍光燈などから構成され、好ましくは赤色ＬＥＤランプから構成される。第２の露光装置６０は複数の点状ＬＥＤを直線状に配置したものであってもよい。
図２（ａ）に示すとおり、第２の帯電装置４０はコロトロン方式の帯電器４２で構成されている。帯電器４２はシールド４４に放電ワイヤ４６が配置された構成を有している。第２の露光装置６０はライン状のランプ６２で構成され、汎用の露光装置または除電装置が用いられる。たとえば、第２の露光装置６０はレーザー、ＬＥＤランプ、ハロゲンランプ、冷陰極管、蛍光燈などから構成され、好ましくは赤色ＬＥＤランプから構成される。第２の露光装置６０は複数の点状ＬＥＤを直線状に配置したものであってもよい。
帯電器４２の帯電幅Ｗ１とランプ６２の露光幅Ｗ２とが互いに重複するようになっており、転写後の有機感光体２ａに対して、帯電器４２による帯電とランプ６２による露光とが同時に実行されるようになっている。
「同時に」とは、重複幅Ｗ３が形成されるという意味であり、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
「帯電幅Ｗ１」とは、帯電器４２で有機感光体２ａを帯電しうる幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿うシールド４４の幅である。
「露光幅Ｗ２」とは、有機感光体２ａに対し露光しうる幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿う露光幅である。
「重複幅Ｗ３」は帯電幅Ｗ１と露光幅Ｗ２とが重複する幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿う幅である。
なお、図２（ａ）では、帯電器４２とランプ６２とを有機感光体２ａに沿って並べて配置した例を示しているが、帯電器４２のバックプレート（シールド４４）の上方に配置してもよい。バックプレートは帯電器４２の有機感光体２ａとは反対側に配置された金属板（シールド４４の天板部）であってその裏側が開口された部材である。かかる構成でも、ランプ６２の光をその開口部から露光しうるため、帯電器４２による帯電とランプ６２による露光とを同時に実行しうる。
「同時に」とは、重複幅Ｗ３が形成されるという意味であり、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
「帯電幅Ｗ１」とは、帯電器４２で有機感光体２ａを帯電しうる幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿うシールド４４の幅である。
「露光幅Ｗ２」とは、有機感光体２ａに対し露光しうる幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿う露光幅である。
「重複幅Ｗ３」は帯電幅Ｗ１と露光幅Ｗ２とが重複する幅であって、有機感光体２ａの回転方向に沿う幅である。
なお、図２（ａ）では、帯電器４２とランプ６２とを有機感光体２ａに沿って並べて配置した例を示しているが、帯電器４２のバックプレート（シールド４４）の上方に配置してもよい。バックプレートは帯電器４２の有機感光体２ａとは反対側に配置された金属板（シールド４４の天板部）であってその裏側が開口された部材である。かかる構成でも、ランプ６２の光をその開口部から露光しうるため、帯電器４２による帯電とランプ６２による露光とを同時に実行しうる。
図２（ｂ）に示すとおり、第２の帯電装置４０はスコロトロン方式の帯電器４８で構成されてもよい。帯電器４８はシールド４４に放電ワイヤ４６が配置され、シールド４４の開放部にグリッド電極５０が形成された構成を有している。かかる構成でも、「帯電幅Ｗ１」は帯電器４８で有機感光体２ａを帯電しうる幅であって有機感光体２ａの回転方向に沿うシールド４４の幅である。
図２（ｃ）に示すとおり、第２の帯電装置４０は帯電ローラー５２で構成されてもよい。かかる構成では、「帯電幅Ｗ１」は帯電ローラー５２の直径である。
図２（ｂ）、図２（ｃ）の構成でも、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
その他、第２の帯電装置４０はブラシまたはブレードで構成されてもよい。かかる構成では、「帯電幅Ｗ１」は有機感光体２ａの回転方向に沿う、有機感光体２ａと接触するブラシまたはブレードの先端部分の幅である。
ブラシまたはブレードの構成でも、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
第２の帯電装置４０は帯電装置２ｂと同極性を有する直流式帯電器であるか、または帯電装置２ｂと同極性を有する直流成分を含む交流式帯電器であるのが望ましい。
図２（ｃ）に示すとおり、第２の帯電装置４０は帯電ローラー５２で構成されてもよい。かかる構成では、「帯電幅Ｗ１」は帯電ローラー５２の直径である。
図２（ｂ）、図２（ｃ）の構成でも、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
その他、第２の帯電装置４０はブラシまたはブレードで構成されてもよい。かかる構成では、「帯電幅Ｗ１」は有機感光体２ａの回転方向に沿う、有機感光体２ａと接触するブラシまたはブレードの先端部分の幅である。
ブラシまたはブレードの構成でも、重複幅Ｗ３は好ましくは露光幅Ｗ２の１０％以上を占めている。
第２の帯電装置４０は帯電装置２ｂと同極性を有する直流式帯電器であるか、または帯電装置２ｂと同極性を有する直流成分を含む交流式帯電器であるのが望ましい。
［有機感光体］
図３に示すとおり、有機感光体２ａはドラム状の導電性支持体３１、中間層３２、感光層３３および保護層３４から構成され、導電性支持体３１上に中間層３２、感光層３３および保護層３４がこの順に形成されている。
図３に示すとおり、有機感光体２ａはドラム状の導電性支持体３１、中間層３２、感光層３３および保護層３４から構成され、導電性支持体３１上に中間層３２、感光層３３および保護層３４がこの順に形成されている。
［導電性支持体］
導電性支持体３１として、たとえば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛、ステンレスなどの金属を成形したドラムが使用される。
有機感光体２ａがベルト、プレートなどの形状を呈する場合は、導電性支持体３１としては、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性物質や、アルミニウム、銅などの金属膜を形成した樹脂フィルム、紙などを用いたベルト、プレートなどが使用されてもよい。
導電性支持体３１として、たとえば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛、ステンレスなどの金属を成形したドラムが使用される。
有機感光体２ａがベルト、プレートなどの形状を呈する場合は、導電性支持体３１としては、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性物質や、アルミニウム、銅などの金属膜を形成した樹脂フィルム、紙などを用いたベルト、プレートなどが使用されてもよい。
［中間層］
中間層３２は、ガスバリアー性および密着性を高める観点から、導電性支持体３１と感光層３３との間に設けられている。
中間層３２は、ガスバリアー性および密着性を高める観点から、導電性支持体３１と感光層３３との間に設けられている。
中間層３２は、バインダー樹脂を公知の溶媒に溶解させ、浸漬塗布するなどして塗布膜を形成し、その後に乾燥させることにより、形成される。
バインダー樹脂としては、たとえば、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチンなどが使用され、好ましくはアルコール可溶性のポリアミド樹脂が使用される。
バインダー樹脂の濃度は、中間層３２の層厚や生産速度に合わせて適宜選択することができる。
バインダー樹脂としては、たとえば、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチンなどが使用され、好ましくはアルコール可溶性のポリアミド樹脂が使用される。
バインダー樹脂の濃度は、中間層３２の層厚や生産速度に合わせて適宜選択することができる。
中間層３２には、無機処理を施した金属酸化物粒子が含有される。
かかる金属酸化物粒子によれば、素管からのホール注入が防止されるとともに、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光によって電荷発生層３３ａで発生した電荷を、有効に感光層３３へ流すことができ、帯電同時露光の耐メモリ性が良好になる。
金属酸化物粒子としては、たとえば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマスなどの金属酸化物粒子、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化ジルコニウムなどの導電性の金属酸化物粒子が使用される。
これら金属酸化物粒子は１種単独で使用されてもよいし、または２種以上が混合され使用されてもよい。２種以上が混合される場合は固溶体または融着した状態で使用されてもよい
かかる金属酸化物粒子によれば、素管からのホール注入が防止されるとともに、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光によって電荷発生層３３ａで発生した電荷を、有効に感光層３３へ流すことができ、帯電同時露光の耐メモリ性が良好になる。
金属酸化物粒子としては、たとえば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマスなどの金属酸化物粒子、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化ジルコニウムなどの導電性の金属酸化物粒子が使用される。
これら金属酸化物粒子は１種単独で使用されてもよいし、または２種以上が混合され使用されてもよい。２種以上が混合される場合は固溶体または融着した状態で使用されてもよい
「無機処理」には表面処理剤としての無機酸化物を使用するのがよい。
表面処理剤となる無機酸化物としては、たとえば、アルミナ、シリカ、ジルコニアやそれらの水和物などの無機酸化物が挙げられる。これらのなかでも、特にアルミナ、シリカ、アルミナおよびシリカの組み合わせが好ましい。これらは単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
表面処理剤となる無機酸化物としては、たとえば、アルミナ、シリカ、ジルコニアやそれらの水和物などの無機酸化物が挙げられる。これらのなかでも、特にアルミナ、シリカ、アルミナおよびシリカの組み合わせが好ましい。これらは単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
具体的に無機処理をするには、以下のような方法を用いることができる。
ここでは金属酸化物粒子として酸化チタン粒子を無機処理する例を示す。
すなわち、酸化チタン粒子を水などの溶媒に分散させ、撹拌および懸濁させる。分散液の濃度は、粒子表面全体が表面処理できれば特に制限はないが、酸化チタン粒子の濃度を０．１〜２０質量％とすることが好ましい。この懸濁液に、水酸化ナトリウムなどを添加してｐＨを好ましくは８．０以上とする。
次いで、シリカ処理の場合はケイ酸塩溶液など、アルミナ処理の場合はアルミン酸溶液などの前駆体溶液を分散液に添加し、好ましくは６０〜１００℃に昇温する。無機表面処理剤の添加量としては、酸化チタン粒子に対して無機酸化物が１〜２０質量％が好ましい。
その後、ｐＨが酸性となるように酸を０．５〜５時間かけて滴下して中和し、得られた表面処理済み酸化チタン粒子を濾過し、洗浄し、乾燥して完成させることができる。なお、かかる処理方法は一例であり、必ずしもこれらの条件を充足しなくてもよい。
無機酸化物による表面処理（無機処理）を施した酸化チタン粒子としては、シリカ、アルミナ処理を施した酸化チタン粒子などの市販品を使用してもよい。
市販品としては、例えば、Ｔ−８０５（日本アエロジル社製）、ＳＴＴ−３０Ａ、ＳＴＴ−６５Ｓ−Ｓ（チタン工業社製）、ＴＡＦ−５００Ｔ、ＴＡＦ−１５００Ｔ（富士チタン工業社製）、ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１００ＳＡ、ＭＴ−５００ＳＡ、ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製）、ＩＴ−Ｓ（石原産業社製）などが挙げられる。
ここでは金属酸化物粒子として酸化チタン粒子を無機処理する例を示す。
すなわち、酸化チタン粒子を水などの溶媒に分散させ、撹拌および懸濁させる。分散液の濃度は、粒子表面全体が表面処理できれば特に制限はないが、酸化チタン粒子の濃度を０．１〜２０質量％とすることが好ましい。この懸濁液に、水酸化ナトリウムなどを添加してｐＨを好ましくは８．０以上とする。
次いで、シリカ処理の場合はケイ酸塩溶液など、アルミナ処理の場合はアルミン酸溶液などの前駆体溶液を分散液に添加し、好ましくは６０〜１００℃に昇温する。無機表面処理剤の添加量としては、酸化チタン粒子に対して無機酸化物が１〜２０質量％が好ましい。
その後、ｐＨが酸性となるように酸を０．５〜５時間かけて滴下して中和し、得られた表面処理済み酸化チタン粒子を濾過し、洗浄し、乾燥して完成させることができる。なお、かかる処理方法は一例であり、必ずしもこれらの条件を充足しなくてもよい。
無機酸化物による表面処理（無機処理）を施した酸化チタン粒子としては、シリカ、アルミナ処理を施した酸化チタン粒子などの市販品を使用してもよい。
市販品としては、例えば、Ｔ−８０５（日本アエロジル社製）、ＳＴＴ−３０Ａ、ＳＴＴ−６５Ｓ−Ｓ（チタン工業社製）、ＴＡＦ−５００Ｔ、ＴＡＦ−１５００Ｔ（富士チタン工業社製）、ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１００ＳＡ、ＭＴ−５００ＳＡ、ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製）、ＩＴ−Ｓ（石原産業社製）などが挙げられる。
中間層３２中の金属酸化物粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して２０〜４００質量部の範囲内にあることが好ましく、５０〜２００質量部の範囲内にあることがより好ましい。
金属酸化物粒子の数一次平均粒径は、好ましくは０．３μｍ以下であり、より好ましくは０．１μｍ以下である。数一次平均粒径は保護層３４に含有される金属酸化物粒子の数一次平均粒径と同様に算出しうる（後述参照）。
金属酸化物粒子の数一次平均粒径は、好ましくは０．３μｍ以下であり、より好ましくは０．１μｍ以下である。数一次平均粒径は保護層３４に含有される金属酸化物粒子の数一次平均粒径と同様に算出しうる（後述参照）。
中間層３２の層厚は、０．１〜１５μｍが好ましく、０．３〜１０μｍがより好ましい。
［感光層］
感光層３３は電荷発生層３３ａと電荷輸送層３３ｂとを備えている。
露光装置２ｃにより照射された光が感光層３３に到達すると、照射された光量に応じた電荷が電荷発生層３３ａで発生し、この電荷が電荷輸送層３３ｂ中を移動して有機感光体２ａの表面に到達し、静電潜像が形成される。
図３に示す感光層３３は多層構造であるが、電荷発生物質と電荷輸送物質との両方を含有する単層構造であってもよい。
感光層３３は電荷発生層３３ａと電荷輸送層３３ｂとを備えている。
露光装置２ｃにより照射された光が感光層３３に到達すると、照射された光量に応じた電荷が電荷発生層３３ａで発生し、この電荷が電荷輸送層３３ｂ中を移動して有機感光体２ａの表面に到達し、静電潜像が形成される。
図３に示す感光層３３は多層構造であるが、電荷発生物質と電荷輸送物質との両方を含有する単層構造であってもよい。
［電荷発生層］
電荷発生層３３ａは、バインダー樹脂と、光エネルギーを吸収すると電荷を発生する電荷発生物質とを、含有している。
電荷発生層３３ａは、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させ、これを塗布して形成した塗布膜を乾燥させることにより、形成される。
電荷発生層３３ａは、バインダー樹脂と、光エネルギーを吸収すると電荷を発生する電荷発生物質とを、含有している。
電荷発生層３３ａは、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させ、これを塗布して形成した塗布膜を乾燥させることにより、形成される。
電荷発生物質として、たとえば、スーダンレッド、ダイアンブルーなどのアゾ原料、ピレンキノン、アントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料、ピランスロン、ジフタロイルピレンなどの多環キノン顔料、フタロシアニン顔料などが使用される。
電荷発生層３３ａ中の電荷発生物質については、露光光に対する感度が高いほうが、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光で速やかに電荷が発生し、耐メモリ性が良好になるため、当該電荷発生物質としては、好ましくはフタロシアニン顔料が使用され、より好ましくは、チタニルフタロシアニンに、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールまたは（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ブタンジオールの少なくとも一方の付加体を含む顔料が使用される。
これら電荷発生物質は単独で使用されてもよいし、または公知の樹脂中に分散された状態で使用されてもよい。
電荷発生物質の分散手段としては、たとえば、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ホモミキサーなどが使用される。
電荷発生層３３ａ中の電荷発生物質については、露光光に対する感度が高いほうが、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光で速やかに電荷が発生し、耐メモリ性が良好になるため、当該電荷発生物質としては、好ましくはフタロシアニン顔料が使用され、より好ましくは、チタニルフタロシアニンに、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールまたは（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ブタンジオールの少なくとも一方の付加体を含む顔料が使用される。
これら電荷発生物質は単独で使用されてもよいし、または公知の樹脂中に分散された状態で使用されてもよい。
電荷発生物質の分散手段としては、たとえば、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ホモミキサーなどが使用される。
バインダー樹脂として公知の樹脂を用いることができる。
バインダー樹脂としては、たとえば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、これらの樹脂のうち２つ以上を含む共重合体樹脂（たとえば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂など）、ポリ−ビニルカルバゾール樹脂などが使用される。
バインダー樹脂としては、たとえば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、これらの樹脂のうち２つ以上を含む共重合体樹脂（たとえば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂など）、ポリ−ビニルカルバゾール樹脂などが使用される。
電荷発生層３３ａ中の電荷発生物質の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１〜６００質量部の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは５０〜５００質量部の範囲である。
電荷発生層３３ａの層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性、含有量などにより異なるが、好ましくは０．０１〜５μｍの範囲内であり、より好ましくは０．０５〜３μｍの範囲である。
電荷発生層３３ａの層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性、含有量などにより異なるが、好ましくは０．０１〜５μｍの範囲内であり、より好ましくは０．０５〜３μｍの範囲である。
［電荷輸送層］
電荷輸送層３３ｂはバインダー樹脂と電荷輸送物質とを含有している。
電荷輸送層３３ｂは、バインダー樹脂溶液中に電荷輸送物質を溶解させ、これを塗布して塗布膜を形成し、その後に乾燥させることにより、形成される。
電荷輸送層３３ｂはバインダー樹脂と電荷輸送物質とを含有している。
電荷輸送層３３ｂは、バインダー樹脂溶液中に電荷輸送物質を溶解させ、これを塗布して塗布膜を形成し、その後に乾燥させることにより、形成される。
電荷輸送物質としては、たとえば、トリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン誘導体、ブタジエン化合物などが使用される。
これら電荷輸送物質は単独で使用されてもよいし、または２種以上が混合され使用されてもよい。
これら電荷輸送物質は単独で使用されてもよいし、または２種以上が混合され使用されてもよい。
バインダー樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂などが使用される。
これらバインダー樹脂のなかでも、ポリカーボネート樹脂が好ましく、耐クラック、耐磨耗性および帯電特性を高める観点からは、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）型、ビスフェノールＺ（ＢＰＺ）型、ジメチルＢＰＡ型、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体型のポリカーボネート樹脂などが好ましい。
これらバインダー樹脂のなかでも、ポリカーボネート樹脂が好ましく、耐クラック、耐磨耗性および帯電特性を高める観点からは、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）型、ビスフェノールＺ（ＢＰＺ）型、ジメチルＢＰＡ型、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体型のポリカーボネート樹脂などが好ましい。
電荷輸送層３３ｂ中の電荷輸送物質の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１０〜５００質量部の範囲が好ましく、より好ましくは２０〜２５０質量部の範囲である。
電荷輸送層３３ｂの層厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性、含有量などにより異なるが、５〜４０μｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜３０μｍの範囲内にあることがより好ましい。
電荷輸送層３３ｂには、さらに酸化防止剤、電子導電剤、安定剤、シリコーンオイルなどが含有されてもよい。
酸化防止剤としては、特開２０００−３０５２９１号公報、電子導電剤としては特開昭５０−１３７５４３号公報、同５８−７６４８３号公報などに記載された材料を用いることができる。
酸化防止剤としては、特開２０００−３０５２９１号公報、電子導電剤としては特開昭５０−１３７５４３号公報、同５８−７６４８３号公報などに記載された材料を用いることができる。
［保護層］
保護層３４は、有機感光体２ａを外力から保護する観点から有機感光体２ａの最表面に設けられている。
保護層３４はバインダー樹脂と金属酸化物粒子と電荷輸送物質とを含有している。
保護層３４は、有機感光体２ａを外力から保護する観点から有機感光体２ａの最表面に設けられている。
保護層３４はバインダー樹脂と金属酸化物粒子と電荷輸送物質とを含有している。
バインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂などが使用される。
これらバインダー樹脂のなかでも、有機感光体２ａの耐摩耗性および耐久性を高める観点から、紫外線や電子線などの活性線の照射により重合性化合物を重合および硬化させて得られる硬化樹脂が好ましい。
硬化樹脂と非硬化樹脂を併用することもできる。
これらバインダー樹脂のなかでも、有機感光体２ａの耐摩耗性および耐久性を高める観点から、紫外線や電子線などの活性線の照射により重合性化合物を重合および硬化させて得られる硬化樹脂が好ましい。
硬化樹脂と非硬化樹脂を併用することもできる。
（１）硬化樹脂
硬化樹脂に使用できる重合性化合物としては、重合性官能基を２個以上有するモノマー（多官能重合性化合物）を使用することができ、重合性官能基を１個有するモノマー（単官能重合性化合物）を併用することもできる。
重合性化合物としては、重合性官能基を３個以上有するモノマーを用いることができる。２種以上の重合性化合物を併用する場合、重合性官能基を３個以上有するモノマーを５０質量％以上の割合で用いることが好ましい。
硬化樹脂に使用できる重合性化合物としては、重合性官能基を２個以上有するモノマー（多官能重合性化合物）を使用することができ、重合性官能基を１個有するモノマー（単官能重合性化合物）を併用することもできる。
重合性化合物としては、重合性官能基を３個以上有するモノマーを用いることができる。２種以上の重合性化合物を併用する場合、重合性官能基を３個以上有するモノマーを５０質量％以上の割合で用いることが好ましい。
重合性化合物としては、たとえば、スチレン系モノマー、アクリル系モノマー、メタクリル系モノマー、ビニルトルエン系モノマー、酢酸ビニル系モノマー、Ｎ−ビニルピロリドン系モノマーなどが使用される。
これら重合性化合物は１種単独で使用されてもよいし、複数種が併用されてもよい。
これら重合性化合物のなかでも、少ない光量または短時間での硬化が可能であることから、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）またはメタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３ＣＯ−）を２個以上有するアクリル系モノマーか、これらのオリゴマーであることが好ましい。
これら重合性化合物は１種単独で使用されてもよいし、複数種が併用されてもよい。
これら重合性化合物のなかでも、少ない光量または短時間での硬化が可能であることから、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）またはメタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３ＣＯ−）を２個以上有するアクリル系モノマーか、これらのオリゴマーであることが好ましい。
重合性化合物としては、下記例示化合物Ｍ１〜Ｍ１５が挙げられるが、重合性可能物はこれらに限定されるものではない。
なお、下記例示化合物Ｍ１〜Ｍ１５において、Ｒはアクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）を表し、Ｒ′はメタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３ＣＯ−）を表す。
なお、下記例示化合物Ｍ１〜Ｍ１５において、Ｒはアクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）を表し、Ｒ′はメタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３ＣＯ−）を表す。
（２）重合開始剤
重合性化合物を重合反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法などが挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、光重合開始剤および熱重合開始剤のいずれも使用することができ、複数種の併用も可能である。
重合性化合物を重合反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法などが挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、光重合開始剤および熱重合開始剤のいずれも使用することができ、複数種の併用も可能である。
光重合開始剤としては、アルキルフェノン系化合物、ホスフィンオキサイド系化合物などを使用することができ、α−ヒドロキシアセトフェノン構造またはアシルホスフィンオキサイド構造を有する化合物が好ましい。
光重合開始剤の市販品としては、たとえば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（イルガキュア８１９：ＢＡＳＦジャパン社製）などが挙げられる。
光重合開始剤の市販品としては、たとえば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（イルガキュア８１９：ＢＡＳＦジャパン社製）などが挙げられる。
熱重合開始剤としては、ケトンパーオキサイド系化合物、パーオキシケタール系化合物、ハイドロパーオキサイド系化合物、ジアルキルパオキサイド系化合物、ジアシルパーオキサイド系化合物、パーオキシジカーボネート系化合物、パーオキシエステル系化合物などを使用できる。
重合開始剤の含有量は、好ましくは重合性化合物１００質量部に対し０．１〜４０質量部であり、より好ましくは０．５〜２０質量部である。この範囲内であれば、重合性化合物の重合が十分に進行し、有機感光体２ａの表面のユニバーサル硬さを２２０〜３００Ｎ／ｍｍ２の範囲内に調整することができる。
（３）ラジカル捕捉剤
重合度を調整するため、重合反応時にラジカル捕捉剤を使用することもできる。
ラジカル捕捉剤の市販品としては、たとえば、スミライザーＧＳ（住友化学工業社製）などが挙げられる。
重合度を調整するため、重合反応時にラジカル捕捉剤を使用することもできる。
ラジカル捕捉剤の市販品としては、たとえば、スミライザーＧＳ（住友化学工業社製）などが挙げられる。
（４）金属酸化物粒子
金属酸化物粒子としては、たとえば、シリカ（酸化ケイ素）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、アルミナ（酸化アルミニウム）、酸化ジルコニウム、酸化スズ、チタニア（酸化チタン）、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウムなどの金属酸化物粒子が使用される。
これら金属酸化物粒子のなかでも、酸化スズ、酸化チタンまたは酸化亜鉛が好ましく、電気特性に優れることから、酸化スズがより好ましい。
金属酸化物粒子の製造方法は特に限定されず、たとえばＪＩＳ Ｋ１４１０に記載された間接法（フランス法）、直接法（アメリカ法）、プラズマ法などを使用することができる。
金属酸化物粒子としては、たとえば、シリカ（酸化ケイ素）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、アルミナ（酸化アルミニウム）、酸化ジルコニウム、酸化スズ、チタニア（酸化チタン）、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウムなどの金属酸化物粒子が使用される。
これら金属酸化物粒子のなかでも、酸化スズ、酸化チタンまたは酸化亜鉛が好ましく、電気特性に優れることから、酸化スズがより好ましい。
金属酸化物粒子の製造方法は特に限定されず、たとえばＪＩＳ Ｋ１４１０に記載された間接法（フランス法）、直接法（アメリカ法）、プラズマ法などを使用することができる。
金属酸化物粒子の数平均一次粒径は１〜３００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より好ましくは３〜１００ｎｍの範囲である。
数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡（日本電子製）で１００００倍の拡大写真を撮影し、ランダムに３００個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像（凝集粒子は除いた）を、自動画像処理解析装置ＬＵＺＥＸ ＡＰ（ニレコ社製、ソフトウエアバージョン Ｖｅｒ．１．３２）で解析し算出することができる。
数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡（日本電子製）で１００００倍の拡大写真を撮影し、ランダムに３００個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像（凝集粒子は除いた）を、自動画像処理解析装置ＬＵＺＥＸ ＡＰ（ニレコ社製、ソフトウエアバージョン Ｖｅｒ．１．３２）で解析し算出することができる。
金属酸化物粒子としては、反応性有機基を有する表面処理剤により金属酸化物粒子を表面処理することにより、粒子表面に反応性有機基が導入されたものを使用することができる。
表面処理剤としては、金属酸化物粒子の表面に存在するヒドロキシ基などと反応するものが好ましく、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。
表面処理剤としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有する表面処理剤を用いることも好ましい。
このようなラジカル重合性反応基は、バインダー樹脂を構成する重合性化合物とも反応して強固な保護層３４を形成することができる。ラジカル重合性反応基を有する表面処理剤としては、ラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤、シラン化合物などが好ましい。
表面処理剤としては、金属酸化物粒子の表面に存在するヒドロキシ基などと反応するものが好ましく、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。
表面処理剤としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有する表面処理剤を用いることも好ましい。
このようなラジカル重合性反応基は、バインダー樹脂を構成する重合性化合物とも反応して強固な保護層３４を形成することができる。ラジカル重合性反応基を有する表面処理剤としては、ラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤、シラン化合物などが好ましい。
以下、表面処理剤の例示化合物Ｓ−１〜Ｓ−３０を示す。
Ｓ−１ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−３ ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ−４ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−５ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−６ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−７ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−８ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−９ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１０ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１１ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−１２ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１３ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１４ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１５ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１６ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１７ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１８ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１９ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−２０ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２１ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２２ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２３ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２４ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２５ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−２６ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２７ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２８ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２９ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３０ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−１ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−３ ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ−４ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−５ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−６ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−７ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−８ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−９ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１０ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１１ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−１２ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１３ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１４ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１５ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１６ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１７ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１８ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１９ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−２０ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２１ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２２ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２３ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２４ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２５ ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−２６ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２７ ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２８ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２９ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３０ ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
表面処理剤は１種単独で使用されてもよいし、または２種以上が併用されてもよい。
表面処理剤の使用量は、金属酸化物粒子１００質量部に対して０．１〜２００質量部の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは７〜７０質量部の範囲内である。
表面処理剤の使用量は、金属酸化物粒子１００質量部に対して０．１〜２００質量部の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは７〜７０質量部の範囲内である。
表面処理の方法としては、たとえば、金属酸化物粒子と表面処理剤と溶媒を含むスラリー（固体粒子の懸濁液）を湿式解砕した後、溶媒を除去して紛体化する方法が挙げられる。この方法によれば、金属酸化物粒子の再凝集を防止しつつ、金属酸化物粒子の表面処理を進行させることができる。
表面処理装置としては、たとえば、サンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどを使用することができる。
表面処理装置としては、たとえば、サンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどを使用することができる。
（５）電荷輸送物質
画像形成装置１では、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光による耐メモリ性の改善のために、保護層３４には電荷輸送物質が含有されている。当該電荷輸送物質にはホール輸送性が求められ、当該電荷輸送物質は一般式（１）で表される構造を含む化合物であるのがよい。
画像形成装置１では、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０との帯電同時露光による耐メモリ性の改善のために、保護層３４には電荷輸送物質が含有されている。当該電荷輸送物質にはホール輸送性が求められ、当該電荷輸送物質は一般式（１）で表される構造を含む化合物であるのがよい。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は各々、水素原子、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数１〜７のアルコキシ基を表し、ｋ、ｌ、ｎは１〜５の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ｋ、ｌ、ｍ、ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の基は互いに同一でもよいし異なっていてもよい。
炭素数１〜７のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、３−メチルペンタン−２−イル基、３−メチルペンタン−３−イル基、４−メチルペンチル基、４−メチルペンタン−２−イル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブタン−２−イル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、１−（ｎ−プロピル）ブチル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，３，３−トリメチルブチル基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピル基などが挙げられる。このうち、炭素数１〜５のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基がさらに好ましい。
炭素数１〜７のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロポキシ基、ｎ−へキシルオキシ基、３−メチルペンタン−２−イルオキシ基、３−メチルペンタン−３−イルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンタン−２−イルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブタン−２−イルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１−メチルヘキシルオキシ基、３−メチルヘキシルオキシ基、４−メチルヘキシルオキシ基、５−メチルヘキシルオキシ基、１−エチルペンチルオキシ基、１−（ｎ−プロピル）ブチルオキシ基、１，１−ジメチルペンチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、１，１−ジエチルプロピルオキシ基、１，３，３−トリメチルブチルオキシ基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピルオキシ基などが挙げられる。このうち、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
特に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１つに、プロピル基、ブチル基、ペンチル基を有することが好ましい。
また、特に、Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ水素原子またはメチル基であることがより好ましい。また、Ｒ３が水素原子であり、Ｒ４が炭素数１〜５のアルキル基であることがより好ましい。
また、ｋ、ｌ、ｍおよびｎがそれぞれ１であることがより好ましい。
ラジカル重合可能な官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、たとえば、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基およびそれらの誘導体から選択される少なくも１つを含有する基などが挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、アクリロイル基、メタクリロイル基およびそれらの誘導体から選択される少なくとも１つを含有する基であることが好ましい。
炭素数１〜７のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロポキシ基、ｎ−へキシルオキシ基、３−メチルペンタン−２−イルオキシ基、３−メチルペンタン−３−イルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンタン−２−イルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブタン−２−イルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１−メチルヘキシルオキシ基、３−メチルヘキシルオキシ基、４−メチルヘキシルオキシ基、５−メチルヘキシルオキシ基、１−エチルペンチルオキシ基、１−（ｎ−プロピル）ブチルオキシ基、１，１−ジメチルペンチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、１，１−ジエチルプロピルオキシ基、１，３，３−トリメチルブチルオキシ基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピルオキシ基などが挙げられる。このうち、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
特に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１つに、プロピル基、ブチル基、ペンチル基を有することが好ましい。
また、特に、Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ水素原子またはメチル基であることがより好ましい。また、Ｒ３が水素原子であり、Ｒ４が炭素数１〜５のアルキル基であることがより好ましい。
また、ｋ、ｌ、ｍおよびｎがそれぞれ１であることがより好ましい。
ラジカル重合可能な官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、たとえば、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基およびそれらの誘導体から選択される少なくも１つを含有する基などが挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、アクリロイル基、メタクリロイル基およびそれらの誘導体から選択される少なくとも１つを含有する基であることが好ましい。
電荷輸送物質としては、下記例示化合物ＣＴＭ−１〜ＣＴＭ−２１が挙げられるが、電荷輸送物質はこれらに限定されるものではない。ただし、ＣＴＭ−２１は参考例とする。
上記電荷輸送物質に関し、保護層３４の強度を損なうことなくホール輸送性を高めうることから、好ましくは非反応性の電荷輸送物質が使用される。
上記例示化合物では、たとえば、例示化合物ＣＴＭ−１は非反応性の電荷輸送物質であり、例示化合物ＣＴＭ−２１は反応性の電荷輸送物質であり、ここでは好ましくは例示化合物ＣＴＭ−１を使用するのがよい。
上記例示化合物では、たとえば、例示化合物ＣＴＭ−１は非反応性の電荷輸送物質であり、例示化合物ＣＴＭ−２１は反応性の電荷輸送物質であり、ここでは好ましくは例示化合物ＣＴＭ−１を使用するのがよい。
なお、反応性の例示化合物ＣＴＭ−２１は、まず前駆体であるＣＴＭ−Ｐ１が合成され、メタクリロイルクロライドまたはアクリロイルクロライドと反応され、合成される。
前駆体であるＣＴＭ−Ｐ１の合成経路を一例として以下に示す。
前駆体ＣＴＭ−Ｐ１ １０．０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、トリエチルアミン ５．０１ｇ（０．０５０ｍｏｌ)をＴＨＦ１５０ｍｌに溶解させた。メタクリル酸クロライド５．２３ｇ（０．０５０ｍｏｌ）を窒素気流中３℃で加え、室温で７時間攪拌した。その後トリエチルアミン５．０１ｇ（０．０５０ｍｏｌ)を３℃で加え、６０℃で５時間攪拌し、反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出し、この抽出液を水で繰り返し洗浄した。その後、この抽出液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（２／１））にて精製した。このようにして、ｎ粘性の反応性の例示化合物ＣＴＭ−２１を１１．０ｇ（中間体からの収率＝９５．７％）を得ることができる。
前駆体であるＣＴＭ−Ｐ１の合成経路を一例として以下に示す。
前駆体ＣＴＭ−Ｐ１ １０．０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、トリエチルアミン ５．０１ｇ（０．０５０ｍｏｌ)をＴＨＦ１５０ｍｌに溶解させた。メタクリル酸クロライド５．２３ｇ（０．０５０ｍｏｌ）を窒素気流中３℃で加え、室温で７時間攪拌した。その後トリエチルアミン５．０１ｇ（０．０５０ｍｏｌ)を３℃で加え、６０℃で５時間攪拌し、反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出し、この抽出液を水で繰り返し洗浄した。その後、この抽出液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（２／１））にて精製した。このようにして、ｎ粘性の反応性の例示化合物ＣＴＭ−２１を１１．０ｇ（中間体からの収率＝９５．７％）を得ることができる。
（６）その他
保護層３４は、酸化防止剤や滑剤粒子、電荷輸送剤などをさらに含有することができる。
酸化防止剤としては、たとえば特開２０００−３０５２９１号公報に記載のものを使用できる。
滑剤粒子としては、フッ素原子含有樹脂粒子などを使用できる。フッ素原子含有樹脂粒子としては、たとえば四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂などを使用できる。
電荷輸送剤としては、後述する電荷輸送層３３ｂが含有する電荷輸送物質を使用することができる。
保護層３４は、酸化防止剤や滑剤粒子、電荷輸送剤などをさらに含有することができる。
酸化防止剤としては、たとえば特開２０００−３０５２９１号公報に記載のものを使用できる。
滑剤粒子としては、フッ素原子含有樹脂粒子などを使用できる。フッ素原子含有樹脂粒子としては、たとえば四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂などを使用できる。
電荷輸送剤としては、後述する電荷輸送層３３ｂが含有する電荷輸送物質を使用することができる。
保護層３４の層厚は、十分な耐衝撃性を得る観点から、０．２〜１０μｍの範囲内にあることが好ましく、０．５〜６μｍの範囲内にあることがより好ましい。
保護層３４は、上記したバインダー樹脂、金属酸化物粒子、電荷輸送物質などを含有する塗布液を調製し、これを感光層３３上に塗布し、その後に乾燥させることにより、形成される。
バインダー樹脂として、硬化樹脂を使用する場合は、重合性化合物、重合開始剤などを含有する塗布膜を感光層３３上に形成した後、乾燥、硬化させることにより、保護層３４を形成することができる。
バインダー樹脂として、硬化樹脂を使用する場合は、重合性化合物、重合開始剤などを含有する塗布膜を感光層３３上に形成した後、乾燥、硬化させることにより、保護層３４を形成することができる。
塗布法としては、浸漬法、スプレー法、スピンナー法、ビード法、ブレード法、ビーム法、スライドホッパー法などの公知の方法を用いることができる。
乾燥は、自然乾燥または熱乾燥でよい。
乾燥は、自然乾燥または熱乾燥でよい。
バインダー樹脂として硬化樹脂を使用する場合、重合性化合物、重合開始剤などを含有する塗布膜に活性線を照射して、分子間および分子内で架橋反応による架橋結合を形成させて硬化させることが好ましい。活性線としては紫外線や電子線が好ましい。
紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。たとえば水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプなどを用いることができる。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であり、好ましくは５〜１００ｍＪ／ｃｍ２ の範囲内である。
ランプの電力は、好ましくは０．１ｋＷ〜５ｋＷであり、特に好ましくは、０．５ｋＷ〜３ｋＷである。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であり、好ましくは５〜１００ｍＪ／ｃｍ２ の範囲内である。
ランプの電力は、好ましくは０．１ｋＷ〜５ｋＷであり、特に好ましくは、０．５ｋＷ〜３ｋＷである。
電子線源としては、電子線照射装置に格別の制限はなく、一般にはこのような電子線照射用の電子線加速機として、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。電子線照射の際の加速電圧は、１００〜３００ｋＶであることが好ましい。吸収線量は、０．５〜１０Ｍｒａｄであることが好ましい。
必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、０．１秒間〜１０分間が好ましく、作業効率の観点から０．１秒間〜５分間がより好ましい。
以上の本実施形態によれば、第２の帯電装置４０と第２の露光装置６０とで帯電同時露光を実行するため、転写によるホール注入電荷量のばらつきが抑制される。ここで保護層３４には電荷輸送物質が含有されているため、保護層３４中でのホール輸送性が向上して保護層３４中のホールの吐き出しが良好になり、帯電同時露光によるホール注入電荷量のばらつきの抑制効果が助長される。かかる構成から、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させることができる（下記実施例参照）。
さらに通常の画像形成装置では、画像形成に伴いＯ３やＮＯｘなどの帯電生成物が発生するところ、本実施形態では、保護層３４が重合性化合物を重合および硬化させた硬化樹脂から構成されると、保護層３４の架橋密度が増大し当該帯電生成物の発生が抑制され、有機感光体２ａの劣化を抑制することができる。
なお、本実施形態では、トナーを有機感光体２ａから用紙Ｐに直接転写する直接転写方式が採用されているが、本発明は、トナーを有機感光体から中間転写ベルトを介して用紙に間接転写する間接転写方式に採用されてもよい。
ただ、直接転写方式のほうが、転写による有機感光体２ａへのホール注入電荷量が多く、帯電同時露光による耐メモリ性の向上が得られるため好ましい。
ただ、直接転写方式のほうが、転写による有機感光体２ａへのホール注入電荷量が多く、帯電同時露光による耐メモリ性の向上が得られるため好ましい。
［有機感光体サンプルの作製および画像形成］
（１）実施例１
（１．１）導電性支持体
直径６０ｍｍの円筒形アルミニウム製の導電性支持体を準備した。
（１）実施例１
（１．１）導電性支持体
直径６０ｍｍの円筒形アルミニウム製の導電性支持体を準備した。
（１．２）中間層
下記原料を用いて中間層を形成した。
ポリアミド樹脂ＣＭ８０００（東レ社製） １００質量部
酸化チタン（Ａ）ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製） ２００質量部
酸化チタン（Ｂ）ＳＭＴ１５０ＭＫ（テイカ社製） １４０質量部
エタノール／ｎ−プロピルアルコール／テトラヒドロフラン １７００質量部
下記原料を用いて中間層を形成した。
ポリアミド樹脂ＣＭ８０００（東レ社製） １００質量部
酸化チタン（Ａ）ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製） ２００質量部
酸化チタン（Ｂ）ＳＭＴ１５０ＭＫ（テイカ社製） １４０質量部
エタノール／ｎ−プロピルアルコール／テトラヒドロフラン １７００質量部
詳しくはバインダー樹脂としてのポリアミド樹脂１００質量部を、エタノール／ｎ−プロピルアルコール／テトラヒドロフラン（体積比４５／２０／３５）の混合溶媒１７００質量部に加えて、２０℃で攪拌混合した。
この溶液に、酸化チタン粒子（Ａ）を２００質量部、酸化チタン粒子（Ｂ）を１４０質量部添加し、ビーズミルにより、ミル滞留時間５時間として分散させた。酸化チタン粒子（Ａ）は無機処理を施した金属酸化物粒子である。この溶液を一昼夜静置した後、ろ過することにより、中間層用塗布液を得た。ろ過は、ろ過フィルタとして、公称濾過精度が５μｍのリジメッシュフィルタ（日本ポール社製）を用いて、５０ｋＰａの圧力下で行った。
得られた中間層塗布液を、洗浄後の導電性支持体の外周に浸漬塗布法で塗布して１２０℃で３０分乾燥させ、乾燥膜厚２μｍの中間層を形成した。
この溶液に、酸化チタン粒子（Ａ）を２００質量部、酸化チタン粒子（Ｂ）を１４０質量部添加し、ビーズミルにより、ミル滞留時間５時間として分散させた。酸化チタン粒子（Ａ）は無機処理を施した金属酸化物粒子である。この溶液を一昼夜静置した後、ろ過することにより、中間層用塗布液を得た。ろ過は、ろ過フィルタとして、公称濾過精度が５μｍのリジメッシュフィルタ（日本ポール社製）を用いて、５０ｋＰａの圧力下で行った。
得られた中間層塗布液を、洗浄後の導電性支持体の外周に浸漬塗布法で塗布して１２０℃で３０分乾燥させ、乾燥膜厚２μｍの中間層を形成した。
（１．３）電荷発生層
（１．３．１）無定形チタニルフタロシアニン（ＣＧ−１）の合成
１，３−ジイミノイソインドリン；２９．２質量部をｏ−ジクロロベンゼン２００質量部に分散し、チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシド；２０．４質量部を加えて窒素雰囲気下に１５０〜１６０℃で５時間加熱した。放冷後、析出した結晶を濾過し、クロロホルムで洗浄し、２％塩酸水溶液で洗浄し、水洗メタノール洗浄して、乾燥後、２６．２質量部（収率９１％）の粗チタニルフタロシアニンを得た。
次いで、粗チタニルフタロシアニンを５℃以下において濃硫酸２５０質量部中で１時間攪拌して溶解させ、これを２０℃の水５０００質量部に注いだ。析出した結晶をろ過し、充分に水洗してウエットペースト品２２５質量部を得た。
このウエットペースト品を冷凍庫にて凍結し、再度解凍した後、ろ過、乾燥して無定形チタニルフタロシアニン２４．８質量部（収率８６％）（ＣＧ−１）を得た。
（１．３．１）無定形チタニルフタロシアニン（ＣＧ−１）の合成
１，３−ジイミノイソインドリン；２９．２質量部をｏ−ジクロロベンゼン２００質量部に分散し、チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシド；２０．４質量部を加えて窒素雰囲気下に１５０〜１６０℃で５時間加熱した。放冷後、析出した結晶を濾過し、クロロホルムで洗浄し、２％塩酸水溶液で洗浄し、水洗メタノール洗浄して、乾燥後、２６．２質量部（収率９１％）の粗チタニルフタロシアニンを得た。
次いで、粗チタニルフタロシアニンを５℃以下において濃硫酸２５０質量部中で１時間攪拌して溶解させ、これを２０℃の水５０００質量部に注いだ。析出した結晶をろ過し、充分に水洗してウエットペースト品２２５質量部を得た。
このウエットペースト品を冷凍庫にて凍結し、再度解凍した後、ろ過、乾燥して無定形チタニルフタロシアニン２４．８質量部（収率８６％）（ＣＧ−１）を得た。
（１．３．２）（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニン（ＣＧ−２）の合成
上記無定形チタニルフタロシアニン１０．０質量部と（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール０．９４質量部（０．６当量比）（当量比はチタニルフタロシアニンに対する当量比、以後同じ）をオルトクロロベンゼン（ＯＤＢ）２００質量部中に混合し６０〜７０℃で６．０時間加熱撹拌した。一夜放置後、該反応液にメタノールを加えて生じた結晶を濾過し、濾過後の結晶をメタノールで洗って（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する顔料（ＣＧ−２）：１０．３質量部を得た。
顔料（ＣＧ−２）のＸ線回折スペクトルでは、８．３°、２４．７°、２５．１°、２６．５°に明確なピークがある。マススペクトルにおいて５７６と６４８にピークがあり、ＩＲスペクトルでは９７０ｃｍ-1付近のＴｉ＝Ｏ、６３０ｃｍ-1付近にＯ−Ｔｉ−Ｏの両吸収が現れる。また熱分析（ＴＧ）では３９０〜４１０℃に約７％の質量減少があることから、チタニルフタロシアニンと（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールの１：１付加体と非付加体（付加していない）チタニルフタロシアニンの混合物と推定される。
得られた顔料（ＣＧ−２）のＢＥＴ比表面積を流動式比表面積自動測定装置（マイクロメトリックス・フローソープ型：島津製作所）で測定したところ、３１．２ｍ2 ／ｇであった。
上記無定形チタニルフタロシアニン１０．０質量部と（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール０．９４質量部（０．６当量比）（当量比はチタニルフタロシアニンに対する当量比、以後同じ）をオルトクロロベンゼン（ＯＤＢ）２００質量部中に混合し６０〜７０℃で６．０時間加熱撹拌した。一夜放置後、該反応液にメタノールを加えて生じた結晶を濾過し、濾過後の結晶をメタノールで洗って（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する顔料（ＣＧ−２）：１０．３質量部を得た。
顔料（ＣＧ−２）のＸ線回折スペクトルでは、８．３°、２４．７°、２５．１°、２６．５°に明確なピークがある。マススペクトルにおいて５７６と６４８にピークがあり、ＩＲスペクトルでは９７０ｃｍ-1付近のＴｉ＝Ｏ、６３０ｃｍ-1付近にＯ−Ｔｉ−Ｏの両吸収が現れる。また熱分析（ＴＧ）では３９０〜４１０℃に約７％の質量減少があることから、チタニルフタロシアニンと（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールの１：１付加体と非付加体（付加していない）チタニルフタロシアニンの混合物と推定される。
得られた顔料（ＣＧ−２）のＢＥＴ比表面積を流動式比表面積自動測定装置（マイクロメトリックス・フローソープ型：島津製作所）で測定したところ、３１．２ｍ2 ／ｇであった。
（１．３．３）電荷発生層の形成
下記原料を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を調製した。この電荷発生層形成塗布液を中間層上に浸漬コーティング法で塗布し、乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
下記原料を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を調製した。この電荷発生層形成塗布液を中間層上に浸漬コーティング法で塗布し、乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
バインダー樹脂：ポリビニルブチラール樹脂「＃６０００−Ｃ」（電気化学工業社製） １０質量部
電荷発生物質：上記顔料（ＣＧ−２） ２０質量部
溶媒：酢酸ｔ−ブチル ７００質量部
溶媒：４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン ３００質量部
電荷発生物質：上記顔料（ＣＧ−２） ２０質量部
溶媒：酢酸ｔ−ブチル ７００質量部
溶媒：４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン ３００質量部
（１．４）電荷輸送層
下記原料を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、１２０℃で７０分間乾燥して乾燥膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
下記原料を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、１２０℃で７０分間乾燥して乾燥膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
バインダー樹脂：ポリカーボネート（Ｚ３００：三菱ガス化学社製）
３００質量部
電荷輸送物質（４，４′−ジメチル−４″−（β−フェニルスチリル）トリフェニルアミン） ２２５質量部
酸化防止剤（ＢＨＴ） ６質量部
ＴＨＦ １６００質量部
トルエン ４００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ−９６：信越化学社製） １質量部
３００質量部
電荷輸送物質（４，４′−ジメチル−４″−（β−フェニルスチリル）トリフェニルアミン） ２２５質量部
酸化防止剤（ＢＨＴ） ６質量部
ＴＨＦ １６００質量部
トルエン ４００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ−９６：信越化学社製） １質量部
（１．５）保護層
（１．５．１）金属酸化物粒子
未処理金属酸化物粒子として下記酸化スズ〔１〕を用い、表面処理剤として上記例示化合物Ｓ−１５を用い、以下に示すように表面処理を行い、金属酸化物粒子〔１〕を作製した。
酸化スズ〔１〕はＣＩＫナノテック社製の下記特性を有する酸化スズである。
数平均一次粒子径：２０ｎｍ、体積抵抗率：１．０５×１０5 （Ω・ｃｍ）
まず、酸化スズ〔１〕１００質量部、表面処理剤（例示化合物Ｓ−１５:ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ）３０質量部、トルエン／イソプロピルアルコール＝１／１（質量比）の混合溶媒３００質量部の混合液を、ジルコニアビーズとともにサンドミルに入れ約４０℃で、回転速度１５００ｒｐｍで撹拌することにより表面処理を行った。さらに、上記処理混合物を取り出し、ヘンシェルミキサーに投入して回転速度１５００ｒｐｍで１５分間撹拌した後、１２０℃で３時間乾燥することによって表面処理を終了し、表面処理済み酸化スズ粒子〔１〕を作製した。
（１．５．１）金属酸化物粒子
未処理金属酸化物粒子として下記酸化スズ〔１〕を用い、表面処理剤として上記例示化合物Ｓ−１５を用い、以下に示すように表面処理を行い、金属酸化物粒子〔１〕を作製した。
酸化スズ〔１〕はＣＩＫナノテック社製の下記特性を有する酸化スズである。
数平均一次粒子径：２０ｎｍ、体積抵抗率：１．０５×１０5 （Ω・ｃｍ）
まず、酸化スズ〔１〕１００質量部、表面処理剤（例示化合物Ｓ−１５:ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ）３０質量部、トルエン／イソプロピルアルコール＝１／１（質量比）の混合溶媒３００質量部の混合液を、ジルコニアビーズとともにサンドミルに入れ約４０℃で、回転速度１５００ｒｐｍで撹拌することにより表面処理を行った。さらに、上記処理混合物を取り出し、ヘンシェルミキサーに投入して回転速度１５００ｒｐｍで１５分間撹拌した後、１２０℃で３時間乾燥することによって表面処理を終了し、表面処理済み酸化スズ粒子〔１〕を作製した。
（１．５．２）保護層の形成
下記原料を混合撹拌し、十分に溶解・分散し、保護層形成用塗布液を調製した。この保護層形成用塗布液を電荷輸送層上に円形スライドホッパー塗布装置を用いて塗布して塗膜を形成し、メタルハライドランプを用いて紫外線を１分間照射して、乾燥膜厚４．０μｍの保護層を形成した。このとき、保護層のユニバーサル硬さは２８０Ｎ／ｍｍ2 であった。
下記原料を混合撹拌し、十分に溶解・分散し、保護層形成用塗布液を調製した。この保護層形成用塗布液を電荷輸送層上に円形スライドホッパー塗布装置を用いて塗布して塗膜を形成し、メタルハライドランプを用いて紫外線を１分間照射して、乾燥膜厚４．０μｍの保護層を形成した。このとき、保護層のユニバーサル硬さは２８０Ｎ／ｍｍ2 であった。
重合性化合物：上記例示化合物Ｍ１ １００質量部
重合開始剤：下記例示化合物Ｐ２ ７質量部
ラジカル捕捉剤：「スミライザーＧＳ」（住友化学工業社製） ７質量部
金属酸化物粒子：上記の表面処理済み酸化スズ粒子〔１〕 １２５質量部
電荷輸送物質：上記例示化合物ＣＴＭ−１ １３質量部
溶媒：２−ブタノール ２００質量部
溶媒：テトラヒドロフラン ５０質量部
重合開始剤：下記例示化合物Ｐ２ ７質量部
ラジカル捕捉剤：「スミライザーＧＳ」（住友化学工業社製） ７質量部
金属酸化物粒子：上記の表面処理済み酸化スズ粒子〔１〕 １２５質量部
電荷輸送物質：上記例示化合物ＣＴＭ−１ １３質量部
溶媒：２−ブタノール ２００質量部
溶媒：テトラヒドロフラン ５０質量部
（１．６）画像形成
上記のとおり作製した有機感光体を、図１と同様の構成を有する画像形成装置に設置し画像形成を行った。
有機感光体の回転方向のクリーニング装置の下流側には、第２の帯電装置としてのコロトロン方式の帯電器と、第２の露光装置としてのＬＥＤランプとを、それぞれ設置した。
コロトロン方式の帯電器の帯電電流は−２００μＡに設定した。
ＬＥＤランプとして、波長６５０ｎｍの光を照射する複数の点状ＬＥＤを直線状に配置したものを適用し（光量分布は用紙幅よりも広い。）、各点状ＬＥＤの露光強度は１０μＷに設定した。かかるＬＥＤランプをコロトロン方式の帯電器のバックプレート上に設置した。バックプレートとはコロトロン方式の帯電器の感光体とは反対側に配置された金属板であってその裏側が開口されたものであり、ＬＥＤランプの光をその開口部から露光し、帯電器の帯電幅とＬＥＤランプの露光幅との重複幅を１０％に設定した。
上記のとおり作製した有機感光体を、図１と同様の構成を有する画像形成装置に設置し画像形成を行った。
有機感光体の回転方向のクリーニング装置の下流側には、第２の帯電装置としてのコロトロン方式の帯電器と、第２の露光装置としてのＬＥＤランプとを、それぞれ設置した。
コロトロン方式の帯電器の帯電電流は−２００μＡに設定した。
ＬＥＤランプとして、波長６５０ｎｍの光を照射する複数の点状ＬＥＤを直線状に配置したものを適用し（光量分布は用紙幅よりも広い。）、各点状ＬＥＤの露光強度は１０μＷに設定した。かかるＬＥＤランプをコロトロン方式の帯電器のバックプレート上に設置した。バックプレートとはコロトロン方式の帯電器の感光体とは反対側に配置された金属板であってその裏側が開口されたものであり、ＬＥＤランプの光をその開口部から露光し、帯電器の帯電幅とＬＥＤランプの露光幅との重複幅を１０％に設定した。
（２）実施例２
実施例１において、保護層中の電荷輸送物質を、反応性の電荷輸送物質である上記例示化合物ＣＴＭ−２１に変更した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、保護層中の電荷輸送物質を、反応性の電荷輸送物質である上記例示化合物ＣＴＭ−２１に変更した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（３）実施例３
実施例１において、中間層中の酸化チタン（Ａ）ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製）を、酸化チタン（Ｂ）ＳＭＴ１５０ＭＫ（テイカ社製）２００質量部に変更し、中間層に含有する金属酸化物粒子を、無機処理を施していない酸化チタン（Ｂ）のみで構成した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、中間層中の酸化チタン（Ａ）ＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製）を、酸化チタン（Ｂ）ＳＭＴ１５０ＭＫ（テイカ社製）２００質量部に変更し、中間層に含有する金属酸化物粒子を、無機処理を施していない酸化チタン（Ｂ）のみで構成した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（４）実施例４
実施例１において、電荷発生層中の電荷発生物質を、無定形チタニルフタロシアニン（ＣＧ−１）に変更した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、電荷発生層中の電荷発生物質を、無定形チタニルフタロシアニン（ＣＧ−１）に変更した。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（５）比較例１
実施例１において、保護層中に電荷輸送物質を含有しなかった。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、保護層中に電荷輸送物質を含有しなかった。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（６）比較例２
実施例１において、第２の露光装置から露光せずに画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、第２の露光装置から露光せずに画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（７）比較例３
実施例１において、第２の帯電装置で帯電させずに画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、第２の帯電装置で帯電させずに画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
（８）比較例４
実施例１において、第２の帯電装置の帯電幅と第２の露光装置の露光幅との重複幅を１０％未満に設定し画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
実施例１において、第２の帯電装置の帯電幅と第２の露光装置の露光幅との重複幅を１０％未満に設定し画像形成を行った。
それ以外は実施例１と同様にして有機感光体を作製し画像形成を行った。
［有機感光体サンプルの評価］
（１）使用初期のサイズメモリの評価
直接転写方式のモノクロ機（コニカミノルタ社製「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＥＳＳ １２５０」）を使って、１０℃／１５％ＲＨ環境下でＡ４（縦方向）白紙通紙４０枚後の用紙の内外のＶ０段差（帯電後の電位差）を測定し、その測定結果からサイズメモリを評価した。評価基準は下記のとおりとした。
◎：３０Ｖ以下
○：３０Ｖ以上５０Ｖ以下
△：５０Ｖ以上７０Ｖ以下
×：７０Ｖ以上（実用上ＮＧ）
（１）使用初期のサイズメモリの評価
直接転写方式のモノクロ機（コニカミノルタ社製「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＥＳＳ １２５０」）を使って、１０℃／１５％ＲＨ環境下でＡ４（縦方向）白紙通紙４０枚後の用紙の内外のＶ０段差（帯電後の電位差）を測定し、その測定結果からサイズメモリを評価した。評価基準は下記のとおりとした。
◎：３０Ｖ以下
○：３０Ｖ以上５０Ｖ以下
△：５０Ｖ以上７０Ｖ以下
×：７０Ｖ以上（実用上ＮＧ）
（２）通電劣化後のサイズメモリの評価
上記モノクロ機において、第２の帯電装置および第２の露光装置だけを２４時間作動させ、２４時間通電劣化させた後のサイズメモリを、初期評価と同様にして評価した。評価基準は上記と同様とした。
上記モノクロ機において、第２の帯電装置および第２の露光装置だけを２４時間作動させ、２４時間通電劣化させた後のサイズメモリを、初期評価と同様にして評価した。評価基準は上記と同様とした。
（３）転写メモリの評価
評価機として、中間転写ベルト方式のコニカミノルタ社製「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＥＳＳ Ｃ８０００」を用いて評価を行った。画像比率６％の文字画像をＡ４横送りにおいて各３００，０００枚両面連続でプリントを行う耐久試験を実施した。耐久試験後に、有機感光体の画像特性の評価を行った。耐久試験後に、１０℃／１５％ＲＨ環境下で、有機感光体１回転目にベタ画像、有機感光体２回転目にハーフトーン画像が存在する画像をＡ３サイズの「ＰＯＤグロスコート紙（１００ｇ／ｍ２）」（王子製紙社製）に印刷し、２回転目のハーフトーン画像に１回転目のベタ画像パターンがメモリとして現れるかを目視にて観察した。評価基準は下記のとおりとした。
◎：メモリ発生なし（ＯＫ）
○：軽微なメモリが確認される（ＯＫ）
×：メモリが確認される（ＮＧ）
評価機として、中間転写ベルト方式のコニカミノルタ社製「ｂｉｚｈｕｂ ＰＲＥＳＳ Ｃ８０００」を用いて評価を行った。画像比率６％の文字画像をＡ４横送りにおいて各３００，０００枚両面連続でプリントを行う耐久試験を実施した。耐久試験後に、有機感光体の画像特性の評価を行った。耐久試験後に、１０℃／１５％ＲＨ環境下で、有機感光体１回転目にベタ画像、有機感光体２回転目にハーフトーン画像が存在する画像をＡ３サイズの「ＰＯＤグロスコート紙（１００ｇ／ｍ２）」（王子製紙社製）に印刷し、２回転目のハーフトーン画像に１回転目のベタ画像パターンがメモリとして現れるかを目視にて観察した。評価基準は下記のとおりとした。
◎：メモリ発生なし（ＯＫ）
○：軽微なメモリが確認される（ＯＫ）
×：メモリが確認される（ＮＧ）
（４）まとめ
表２に示すとおり、実施例１〜４と比較例１〜４とを比較すると、実施例１〜４で結果が良好であった。このことから、転写後に帯電と露光とを同時に行い、保護層に電荷輸送物質を含有させることが、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させるのに有用であることがわかる。
特に実施例１〜４のなかでも、実施例１と実施例２との比較結果から、保護層中には、非反応性の電荷輸送物質を含有させるのが有用であるのがわかる。
実施例１と実施例３との比較結果から、中間層中には、無機処理を施した金属酸化物粒子を含有させるのが有用であるのがわかる。
実施例１と実施例４との比較結果から、電荷発生層中には、チタニルフタロシアニンに、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール付加体を含む顔料を含有させるのが有用であるのがわかる。
表２に示すとおり、実施例１〜４と比較例１〜４とを比較すると、実施例１〜４で結果が良好であった。このことから、転写後に帯電と露光とを同時に行い、保護層に電荷輸送物質を含有させることが、サイズメモリや転写メモリにかかる耐メモリ性を向上させるのに有用であることがわかる。
特に実施例１〜４のなかでも、実施例１と実施例２との比較結果から、保護層中には、非反応性の電荷輸送物質を含有させるのが有用であるのがわかる。
実施例１と実施例３との比較結果から、中間層中には、無機処理を施した金属酸化物粒子を含有させるのが有用であるのがわかる。
実施例１と実施例４との比較結果から、電荷発生層中には、チタニルフタロシアニンに、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオール付加体を含む顔料を含有させるのが有用であるのがわかる。
１ 画像形成装置
２ａ 有機感光体
４０ 第２の帯電装置
４２ 帯電器（コロトロン方式）
４４ シールド
４６ 放電ワイヤ
４８ 帯電器（スコロトロン方式）
５０ グリッド電極
５２ 帯電ローラー
６０ 第２の露光装置
６２ ランプ
Ｗ１ 帯電幅
Ｗ２ 露光幅
Ｗ３ 重複幅
２ａ 有機感光体
４０ 第２の帯電装置
４２ 帯電器（コロトロン方式）
４４ シールド
４６ 放電ワイヤ
４８ 帯電器（スコロトロン方式）
５０ グリッド電極
５２ 帯電ローラー
６０ 第２の露光装置
６２ ランプ
Ｗ１ 帯電幅
Ｗ２ 露光幅
Ｗ３ 重複幅
Claims (5)
- 導電性支持体上に、中間層、感光層および保護層が形成された有機感光体であって、前記保護層に電荷輸送物質が含有されている前記有機感光体と、
前記有機感光体を帯電させる帯電装置と、
前記帯電装置により帯電された前記有機感光体に露光する露光装置と、
前記露光装置により露光された前記有機感光体にトナーを供給する現像装置と、
前記有機感光体上に形成されたトナー像を転写する転写装置と、
転写後の前記有機感光体を帯電させる第２の帯電装置と、
前記第２の帯電装置による帯電と同時に、転写後の前記有機感光体に露光する第２の露光装置と、を備え、
前記電荷輸送物質が一般式（１）で表される構造を含み、かつ
前記中間層には、無機処理を施した金属酸化物粒子が含有されていることを特徴とする画像形成装置。
- 請求項１に記載の画像形成装置において、
前記保護層が重合性化合物を重合および硬化させた硬化樹脂から構成されていることを特徴とする画像形成装置。 - 請求項１または２に記載の画像形成装置において、
前記中間層には、前記無機処理を施した金属酸化物粒子として、シリカ又はアルミナ処理を施した酸化チタン粒子が含有されていることを特徴とする画像形成装置。 - 請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像形成装置において、
前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層とを有し、
前記電荷発生層には、チタニルフタロシアニンに、（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールまたは（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ブタンジオールの少なくとも一方の付加体を含む顔料が含有されていることを特徴とする画像形成装置。 - 請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像形成装置において、
トナーを前記有機感光体から用紙に直接転写する直接転写方式が採用されていることを特徴とする画像形成装置。
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| JP6060531B2 (ja) * | 2012-06-14 | 2017-01-18 | コニカミノルタ株式会社 | 有機感光体の製造方法、並びに画像形成装置 |
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-
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- 2015-11-11 JP JP2015220900A patent/JP6582901B2/ja active Active
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