JP6548993B2 - ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 320
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 248
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 112
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 29
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 18
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- -1 Ta 2 O 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
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Description
ガラス基板1は、図1(a)に示すように、平面視矩形状をなし、その寸法は好ましくは300mm角以上、より好ましくは400mm角以上、より一層好ましくは500mm角以上、最も好ましくは600mm角以上である。
図1(a)(b)に示すように、支持部材2は、横姿勢で配置される熱処理対象のガラス基板1を下方側から支持(接触支持)するものであり、本実施形態の支持部材2は、上面をガラス支持面3とした支持部4と、支持部4の下方側に設けられ、支持部4よりも大きいベース部5とからなる。本実施形態において、ガラス支持面3は、その周縁部から中央部に向けて徐々に高位に遷移した凸曲面(凸球面)状に形成され、かつ、支持すべきガラス基板1と同程度の大きさとされている。従って、ガラス支持面3上にガラス基板1を載置したとき、ガラス基板1の端面1cは、基本的にベース部5に接触しない。ガラス支持面3は、ガラス基板1の中央部1aを周縁部1bよりも10〜1000μm、好ましくは20〜1000μm、より好ましくは30〜1000μm、最も好ましくは50〜1000μmの範囲内で高位に位置させ得るように形成されている。なお、図1(b)では理解の容易化のために、ガラス支持面3の中央部(頂部)と周縁部の高低差を誇張して描いている。
図2に示すように、熱処理装置10は、ガラスチャンバ11と、ガラス棚12を載置した状態でガラスチャンバ11に対して昇降移動する昇降台13と、ガラスチャンバ11を収容した炉壁14と、ガラスチャンバ11を外部から加熱するヒータ15とを備える。この熱処理装置10はクリーンルーム内に配設される。要するに、熱処理工程はクリーンルーム内で実行される。
(1)図8(a)に示すように、ガラス基板の試料として160mm×30mmの短冊状試料Gを準備する。
(2)粒度1000の耐水研磨紙を用いて、短冊状試料Gの長辺方向の両端部から長辺方向の中央部に20〜40mm程度シフトした位置に短辺方向に延びるマーキングM,Mを形成する。
(3)図8(b)に示すように、マーキングMを形成した短冊状試料Gを長辺方向に沿って二分割し、試料片Ga,Gbを作製する。
(4)両試料片Ga,Gbのうち、何れか一方の試料片(ここでは試料片Gb)のみを熱処理装置で熱処理する。熱処理は、5℃/分の昇温速度で常温から500℃まで昇温→500℃で1時間保持→5℃/分の降温速度で常温まで降温、という手順で実施した。
(5)試料片Gbに上記態様で熱処理を施した後、図8(c)に示すように、熱処理を施していない試料片Gaと、熱処理を施した試料片Gbとを並列に配置し、両試料片Ga,Gb間でのマーキングMの位置ずれ量ΔL1,ΔL2をレーザ顕微鏡で読み取り、下記の数式に基づいて熱収縮率[単位:ppm]を算出する。なお、下記の数式中のL0は、熱処理前のマーキングM,M間の離間距離である。
熱収縮率=[{ΔL1(μm)+ΔL2(μm)}×103]/L0(mm)
1a 中央部
1b 周縁部
1c 端面
2 支持部材
3 ガラス支持面
10 熱処理装置
Claims (7)
- 板厚が300μm以下のガラス基板の熱収縮率を低減するための熱処理方法であって、
横姿勢で配置した前記ガラス基板を、その中央部をその周縁部よりも高位に位置させた状態で、その歪点以下の温度で加熱するにあたり、
前記ガラス基板を下方側から支持するガラス支持面を上面に有する支持部と、前記支持部の下方側に設けられ、前記支持部よりも大きいベース部とを備え、かつ、前記ガラス支持面が前記ガラス基板よりも小さく、前記ベース部が前記ガラス基板よりも大きい支持部材を使用することを特徴とするガラス基板の熱処理方法。 - 熱処理前の前記ガラス基板は、反り量が300μm以下の反り部を有する請求項1に記載のガラス基板の熱処理方法。
- 前記ガラス基板の中央部を、前記ガラス基板の周縁部よりも10μm以上1000μm以下の範囲内で高位に位置させる請求項1又は2に記載のガラス基板の熱処理方法。
- 前記ガラス支持面が凸曲面状に形成されている請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス基板の熱処理方法。
- 前記ガラス支持面が平坦面に形成されている請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス基板の熱処理方法。
- 前記ガラス基板は、フレキシブルデバイス用あるいはウェアラブルデバイス用である請求項1〜5の何れか一項に記載のガラス基板の熱処理方法。
- 300μm以下の板厚を有する帯状のガラスフィルムを成形し、該ガラスフィルムを切断することにより、板厚が300μm以下のガラス基板を得るガラス基板作製工程と、
請求項1〜6の何れか一項に記載の方法により、前記ガラス基板に熱処理を施す熱処理工程と、を含むガラス基板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015170733A JP6548993B2 (ja) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 |
TW105122316A TWI679174B (zh) | 2015-08-31 | 2016-07-15 | 玻璃基板的熱處理方法以及玻璃基板的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015170733A JP6548993B2 (ja) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017048065A JP2017048065A (ja) | 2017-03-09 |
JP6548993B2 true JP6548993B2 (ja) | 2019-07-24 |
Family
ID=58279089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015170733A Active JP6548993B2 (ja) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6548993B2 (ja) |
TW (1) | TWI679174B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2024091045A (ja) * | 2022-12-23 | 2024-07-04 | 日本電気硝子株式会社 | 複合板材の製造方法、複合板材群、及び複合板材梱包体 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3118789B2 (ja) * | 1992-06-04 | 2000-12-18 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の徐冷方法 |
JPH09278465A (ja) * | 1996-04-17 | 1997-10-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 熱収縮率の小さいガラス基板の製造方法 |
JP2000106084A (ja) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法とプラズマディスプレイパネル製造用焼成板の管理方法 |
JP2002114537A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-16 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板熱処理用セッター |
CN102471129B (zh) * | 2009-09-18 | 2015-04-15 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃膜的制造方法及玻璃膜的处理方法以及玻璃膜层叠体 |
JP6380101B2 (ja) * | 2013-04-05 | 2018-08-29 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板及びその徐冷方法 |
-
2015
- 2015-08-31 JP JP2015170733A patent/JP6548993B2/ja active Active
-
2016
- 2016-07-15 TW TW105122316A patent/TWI679174B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201708136A (zh) | 2017-03-01 |
TWI679174B (zh) | 2019-12-11 |
JP2017048065A (ja) | 2017-03-09 |
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Date | Code | Title | Description |
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