JP6505166B2 - 発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 - Google Patents
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Description
フタル酸エステルは揮発性成分であるので、従来公知の発生ガス分析(EGA;Evolved Gas Analysis)を適用して分析することができる。この発生ガス分析は、試料を加熱して発生したガス成分を、ガスクロマトグラフや質量分析等の各種の分析装置で分析するものである。
そこで、分析装置の検出信号が検出範囲を超えたときに、ガス成分と混合されるキャリアガス流量を増加させてガス成分を希釈し、ガス濃度を低下させる技術が開示されている(特許文献1、2)。又、測定系にパージガスを導入できるようにして、分析対象以外のガス成分をパージして系外に排出し、分析対象のガス成分を選択的に検出する技術も開示されている(特許文献3)。
又、分析装置として質量分析計を用いる場合、その前段でガス成分をイオン化している。ところが、ガス成分中に測定対象でない副成分が含まれていると、副成分もイオン化されるので、ガス成分が多量に発生した場合は、本来イオン化させたい測定対象の成分が十分にイオン化せず、測定対象の検出信号がかえって低下してしまう(イオンサプレッション)。特許文献1、2記載の技術はこのような場合に対応することが困難である。
又、混合ガス流路と分岐路の径(流路抵抗)でスプリット比を物理的に制御した場合、スプリット比を後から変更するのは困難であるが、本発明では第2の流量調整機構の流量によってスプリット比を事後的に自由に制御できる。
この際、不活性ガスは上述の流路抵抗として比較的少量流せばよく、キャリアガス流量や不活性ガス流量を増加させる必要がないため、キャリアガスや不活性ガスの供給能力を大きくすることなく、装置を大型化せずにガス成分の検出精度を向上させることができる。又、大量のキャリアガスや不活性ガスでガス濃度を希釈する必要がなく、検出手段へ導入されるガス量が過大になって装置が大型化することを抑制できる。
分岐路の排出側が剥き出しの配管のままの場合、天候による大気圧の変動により、分岐路から排出される混合ガスの流量が変動することがある。そこで、この発生ガス分析装置によれば、排出圧力調整機構により、分岐路から排出される混合ガスの排出圧力を調整する(混合ガスが一定の圧力を超えると、分岐路から排出される)ことで、大気圧の変動による影響を抑制してガス成分の検出精度をさらに向上させることができる。
前記流量制御部は、前記検出手段からの検出信号が所定の範囲未満になったときに、前記流量F1を増大させるように前記第1の流量調整機構を制御してもよい。
そこで、この発生ガス分析装置によれば、イオンサプレッションが生じている場合、流量制御部は検出信号のピーク強度が閾値未満と判定し、混合ガスの排出流量を増大させるように第1の流量調整機構を制御する。これにより、イオン化部へ導入される混合ガスの流量が少なくなるので、副成分のイオン化が抑制され、検出信号の低下を抑制してガス成分の検出精度を向上させることができる。
発生ガス分析装置200は、筐体となる本体部202と、本体部202の正面に取り付けられた箱型のガス発生部取付け部204と、全体を制御するコンピュータ(制御部)210とを備える。コンピュータ210は、データ処理を行うCPUと、コンピュータプログラムやデータを記憶する記憶部と、モニタと、キーボード等の入力部等を有する。
加熱炉10が特許請求の範囲の「ガス成分発生部」に相当し、質量分析計110が特許請求の範囲の「検出手段」に相当する。
なお、例えばコンピュータ210で制御されるステッピングモータ等により、移動レール204L(後述)上で試料ホルダ20を移動させれば、試料ホルダ20を加熱炉10の内外に移動させる機能を自動化できる。
まず、加熱炉10は、ガス発生部取付け部204の取付板204aに軸心Oを水平にして取り付けられ、軸心Oを中心に開口する略円筒状をなす加熱室12と、加熱ブロック14と、保温ジャケット16とを有する。
加熱室12の外周に加熱ブロック14が配置され、加熱ブロック14の外周に保温ジャケット16が配置されている。加熱ブロック14はアルミニウムからなり、軸心Oに沿って加熱炉10の外部に延びる一対のヒータ電極14a(図4参照)により通電加熱される。
なお、取付板204aは、軸心Oに垂直な方向に延びており、スプリッタ40及びイオン化部50は、加熱炉10に取り付けられている。さらに、イオン化部50は、ガス発生部取付け部204の上下に延びる支柱204bに支持されている。
そして、詳しくは後述するが、加熱室12のうち開口側と反対側(図3の右側)の端面に混合ガス流路41が連通し、加熱炉10(加熱室12)で生成したガス成分Gと、キャリアガスCとの混合ガスMが混合ガス流路41を流れるようになっている。
制御弁18v、19vがそれぞれ特許請求の範囲の「第1の流量調整機構」、「第2の流量調整機構」に相当する。
不活性ガスは、例えば窒素またはアルゴン等の希ガスであり、反応性、可燃性及び腐食性を持たないガスを用いる。
ここで、移動レール204Lは軸心O方向(図3の左右方向)に延び、試料ホルダ20はステージ22ごと、軸心O方向に進退するようになっている。又、開閉ハンドル22Hは、軸心O方向に垂直な方向に延びつつステージ22に取り付けられている。
ブラケット24cは加熱室12よりやや大径をなして加熱室12を気密に閉塞し、試料保持部24aが加熱室12の内部に収容される。
そして、加熱室12の内部の試料皿28に載置された試料が加熱炉10内で加熱され、ガス成分Gが生成する。
そして、試料ホルダ20が移動レール204L上を軸心O方向に図3の左側に移動して加熱炉10の外に排出されると、ブラケット24cの接触面24fが冷却ブロック32の凹部32rに収容されつつ接触し、冷却ブロック32を介してブラケット24cの熱が奪われ、試料ホルダ20(特に試料保持部24a)を冷却するようになっている。
なお、本実施形態では、試料ホルダ20(ブラケット24cを含む)及び冷却ブロック32はいずれもアルミニウムからなる。
さらに、本例では、分岐路42と流量計42cとの間に、混合ガス中の夾雑物等を除去するフィルタ42bが配置されている。
混合ガス流路41は、加熱室12と連通して軸心O方向に延びて終端部41eに至る直線状であってもよく、加熱室12やイオン化部50の位置関係に応じて、種々の曲線や軸心Oと角度を有する線状等であってもよい。
そして、終端部41eから小孔53c付近の合流部45に導入された混合ガスMに対し、不活性ガス流路19fから不活性ガスTが混合されて総合ガスM+Tとなって放電針56側に流れ、総合ガスM+Tのうち、ガス成分Gが放電針56によってイオン化される。
イオン化部50でイオン化されたガス成分Gは、キャリアガスC及び不活性ガスTと共に質量分析計110に導入されて分析される。
なお、イオン化部50は、保温部54の内部に収容されている。
試料Sは加熱炉10の加熱室12内で加熱され、ガス成分Gが生成する。加熱炉10の加熱状態(昇温速度、最高到達温度等)は、コンピュータ210の加熱制御部212によって制御される。
ガス成分Gは、加熱室12に導入されたキャリアガスCと混合されて混合ガスMとなり、スプリッタ40に導入され、混合ガスMの一部が分岐路42から外部に排出される。
イオン化部50には、混合ガスMの残部と、不活性ガス流路19fからの不活性ガスTが総合ガスM+Tとして導入され、ガス成分Gがイオン化される。
流量制御部216は、検出信号判定部214から受信した検出信号のピーク強度が閾値の範囲外か否かを判定する。そして、範囲外の場合、流量制御部216は、制御弁19vの開度を制御することにより、スプリッタ40内で分岐路42から外部へ排出される混合ガスMの流量、ひいては混合ガス流路41からイオン化部50へ導入される混合ガスMの流量を調整し、質量分析計110の検出精度を最適に保つ。
四重極マスフィルター116は、印加する高周波電圧を変化させることにより、質量走査可能であり、四重極電場を生成し、この電場内でイオンを振動運動させることによりイオンを検出する。四重極マスフィルター116は、特定の質量範囲にあるガス成分Gだけを透過させる質量分離器をなすので、検出器118でガス成分Gの同定および定量を行うことができる。
なお、測定対象のガス成分が有する特定の質量電荷比(m/z)のイオンのみを検出する選択イオン検出(SIM)モードを用いると、ある範囲の質量電荷比のイオンを検出する全イオン検出(スキャン)モードに比べ、測定対象のガス成分の検出精度が向上するので好ましい。
キャリアガスCの流量F1に対する、イオン化部50へ導入される混合ガスM+Tの流量F3のスプリット比SPは、F3/F1で表される。
ここで、流量F1を制御弁18vにて一定値C1に保った場合、SPは以下のようになる。
式1:SP=F3/F1=F3/C1
又、F3+F4=F5=C2(一定値)であるから、式1は以下のようになる。
式2:SP=F3/C1=(C2−F4)/C1
これは、分岐路42より下流側で混合ガス流路41に不活性ガスTを流すことで、イオン化部50へ導入される混合ガスMの流量F3を抑える流路抵抗となり、分岐路42から排出される混合ガスMの流量F2を調整できるためである。そして、式2より、流量F4を大きくするほど、スプリット比SPが小さくなる、つまり分岐路42からより多くの混合ガスMが排出されることになる。
この際、不活性ガスTは、流量F3を抑える流路抵抗として比較的少量流せばよく、キャリアガス流量や不活性ガス流量を増加させる必要がないため、キャリアガスや不活性ガスの供給能力を大きくすることなく、装置を大型化せずにガス成分の検出精度を向上させることができる。又、大量のキャリアガスや不活性ガスでガス濃度を希釈する必要がなく、質量分析計110へ導入されるガス量が過大になって装置が大型化することを抑制できる。
一方、流量F4は既知であるので、(1)流量F3を直接測定するか、(2)流量F2を測定してF1=F2+F3の関係からF3を計算する、ことでリアルタイムに流量F5を求めることができる。
そこで、イオンサプレッションが生じている場合、検出信号判定部214から質量分析計110の検出信号のピーク強度を受信した流量制御部216は、検出信号のピーク強度が閾値未満と判定し、制御弁19vに開度を大きくする制御信号を送信する。これにより、イオン化部50へ導入される混合ガスMの流量が少なくなるので、副成分のイオン化が抑制され、検出信号の低下を抑制してガス成分の検出精度を向上させることができる。
そして、流量制御部216は、検出信号のピーク強度が閾値を超えたとき(オーバースケール)、又はピーク強度が閾値未満のとき(イオンサプレッションが発生していると判断した場合)に、制御弁19vの開度を大きくして分岐路42から外部へ排出される混合ガスMの流量を増やす制御信号を生成する。
この場合、例えばガス成分毎にイオンサプレッションの有無をテーブルに記憶しておき、流量制御部216はこのテーブルを参照してイオンサプレッションの有無を判断し、イオンサプレッションが発生していると判断した場合に、制御弁19vに開度を大きくする制御信号を送信してもよい。又、作業者が測定の都度、コンピュータ210の入力部から、その測定がイオンサプレッションが発生する測定であるか否かを入力(選択ボタン等)し、流量制御部216はこの入力信号を基に検出信号のピーク強度と閾値とを比較し、制御弁19vに開度を大きくする制御信号を送信してもよい。
なお、イオンサプレッションを生じさせる場合としては、測定対象がフタル酸エステルで、副成分がフタル酸等の添加剤の場合が例示される。
測定対象としては、フタル酸エステルの他、欧州特定有害物質規制(RoHS)で規制される臭化物難燃剤(ポリ臭化ビフェニル(PBB)、ポリ臭化ジフェニルエーテル(PBDE))を例示できるが、これらに限定されない。
合流部45、混合ガス流路41、分岐路42、及びスプリッタ40の構成、形状、配置状態等は上記した例に限定されない。又、検出手段も質量分析計に限定されない。
キャリアガスCの流量F1は一定になるよう第1の流量調整機構18vで調整されているが、流量F1を変更した場合、流量制御部216が第1の流量調整機構18vを制御してもよい。
流量制御部216は、このデータファイルを読み取り、流量F4を調整することとなる。
18v 第1の流量調整機構
19f 不活性ガス流路
19v 第2の流量調整機構
41 混合ガス流路
42 分岐路
42a 排出圧力調整機構、流量測定機構
45 合流路
50 イオン化部
110 検出手段(質量分析計)
200 発生ガス分析装置
216 流量制御部
S 試料
C キャリアガス
G ガス成分
M 混合ガス
T 不活性ガス
Claims (5)
- 試料に含まれるガス成分を発生させるガス成分発生部と、
該ガス成分発生部で生成した前記ガス成分を検出し、負圧にされた検出手段と、
前記ガス成分発生部と前記検出手段との間を接続し、前記ガス成分と、該ガス成分を前記検出手段へ導くキャリアガスとの混合ガスが流れる混合ガス流路と、
を備えた発生ガス分析装置において、
前記混合ガス流路から分岐して外部に開放された分岐路と、
前記分岐路より下流側で前記混合ガス流路に合流部にて合流して不活性ガスを流す不活性ガス流路と、
前記キャリアガスの流量F1を調整する第1の流量調整機構と、
前記不活性ガス流路を流れる前記不活性ガスの流量F4を調整する第2の流量調整機構と、
前記検出手段へ導かれる前記混合ガスの流量が所定の値になるように前記第2の流量調整機構を制御する流量制御部と、
をさらに備えたことを特徴とする発生ガス分析装置。 - 前記分岐路の排出側に、該分岐路から排出される前記混合ガスの排出圧力を調整する排出圧力調整機構を有する請求項1記載の発生ガス分析装置。
- 前記検出手段は質量分析計であり、前記混合ガス流路と前記質量分析計との間に前記混合ガス中の前記ガス成分をイオン化するイオン化部を有し、
前記流量制御部は、前記検出手段からの検出信号が所定の範囲未満になったときに、前記流量F1を増大させるように前記第1の流量調整機構を制御する請求項1又は2記載の発生ガス分析装置。 - 前記合流部へ流れる前記混合ガスの流量、又は前記分岐路から排出される前記混合ガスの流量を測定する流量測定機構をさらに備えたことを特徴とする請求項3記載の発生ガス分析装置。
- 試料に含まれるガス成分を発生させるガス成分発生部と、
該ガス成分発生部で生成した前記ガス成分を検出、負圧にされた検出手段と、
前記ガス成分発生部と前記検出手段との間を接続し、前記ガス成分と、該ガス成分を前記検出手段へ導くキャリアガスとの混合ガスが流れる混合ガス流路と、
を備えた発生ガス分析装置を用いた発生ガス分析方法において、
前記発生ガス分析装置は、前記混合ガス流路から分岐して外部に開放された分岐路と、
前記分岐路より下流側で前記混合ガス流路に合流部にて合流して不活性ガスを流す不活性ガス流路と、を更に備え、
前記発生ガス分析方法は、前記キャリアガスの流量F1を調整する第1の流量調整過程と、
前記不活性ガス流路を流れる前記不活性ガスの流量F4を調整する第2の流量調整過程と、
前記検出手段へ導かれる前記混合ガスの流量が所定の値になるように前記第2の流量調整過程を制御する流量制御過程と、
をさらに有することを特徴とする発生ガス分析方法。
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