JP6493733B2 - 保護フィルムの製造方法 - Google Patents

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Description

この発明は、保護フィルムの製造方法、保護フィルム、並びにディスプレイに関する。
従来から、スマートフォンやタブレット端末などのタッチパネルディスプレイを傷から保護する目的で、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイに透明な樹脂製の保護フィルムを貼付することがなさされている。
このような保護フィルムは、例えばシート状のフィルム材をレーザー加工により切断して外形を切り出すことで形成されることが一般的である。また、樹脂製のフィルム又は板材を切断する方法として、エンドミルによる切削加工を行う場合がある(例えば特許文献1〜3)。
特開2010−064203号公報 特開2012−157914号公報 特許第2912363号公報
フィルム材の切断をレーザー加工により行うと、切断面である保護フィルムの周縁が面方向に対し垂直に近い状態となる。このような保護フィルムは周縁が切り立っているために、タッチパネル用の保護フィルムとして使用すると、周縁部に指が引っかかり、周縁部近傍の操作性を悪化させるという問題があった。
また、フィルム材の切断を切削加工により行う場合には、切断と共に面取り加工を行うことができる。したがって、周縁部における指の引っかかりを抑制し周縁部近傍での操作性を改善できる。しかしながら、切削加工を行う場合には、切断面にチッピング(小さな欠け)を生じることがある。フィルム材は、樹脂からなるため、金属に比較して塑性変形抵抗が小さい。このため切削加工を行うと、その近傍で塑性変形が生じて、表面にチッピングが生じ易い。切断面である保護フィルムの周縁部にチッピングが生じていると、フィルムを曲げた際に、チッピングがフィルムの亀裂の起点となりフィルムが破断しやすくなるという問題があった。
本発明は、上述した事情に鑑みなされたものであって、周縁部に面取りが施され、かつチッピングによる亀裂が生じにくい保護フィルムの提供を目的とする。
この課題を解決するために、本発明の一実施形態に係る保護フィルムの製造方法は、ディスプレイに貼付される保護フィルムの製造方法であって、切断前のフィルム材を用意する前工程と、前記フィルム材を切断する切断工程と、を有し、前記切断工程は、テーパ刃のエンドミルを前記フィルム材の切断線に沿って送り前記フィルム材にV字状の溝を形成する第1の工程と、レーザー光を前記フィルム材の切断線に沿って照射し前記フィルム材を切断する第2の工程と、を含み、前記切断工程は、前記第1の工程の後に、前記第2の工程を行う
前記フィルム材は、主層を有し、前記主層が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂からなるのが好ましい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記前工程において、前記フィルム材の一部として防護フィルムが積層され、前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光を照射する側と反対側に位置する前記防護フィルムをハーフカットする深さまで切断してもよい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記切断工程の前記第1の工程において、前記溝の幅が1mm以上5mm以下であってもよい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光のスポット径の大きさは、前記第1の工程における前記溝の幅に対し、50%以下であってもよい。
本発明の一実施形態に係る保護フィルムは、ディスプレイに貼付される保護フィルムであって、ディスプレイ側に位置する背面と、ディスプレイと反対側に位置する主面と、厚さ方向に延び前記保護フィルムの外形を構成する周縁部と、を有し、前記周縁部は、前記主面側から一定の厚さの領域に形成される第1の面と、前記第1の面と前記背面との間の領域に形成される第2の面と、を備え、前記第1の面は、前記第2の面よりも前記主面に対する傾きが小さい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第1の面が、前記主面に対して、10°以上60°以下の傾きを有していてもよい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第2の面が、前記主面に対して、65°以上90°以下の傾きを有していてもよい。
また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第1の面が、全体の厚みの10%以上85%以下の領域に設けられていてもよい。
また、本発明の一実施形態に係るディスプレイは、上記保護フィルムが貼付されている。
本発明によれば、周縁部に面取りを施すことで周縁部の操作性を確保するとともに、チッピングを起点とする亀裂が生じにくい保護フィルムを提供できる。
実施形態の保護フィルムの製造方法に用いるフィルム材の積層構造を示す断面図である。 実施形態の保護フィルムの製造方法において設定する切断線を示す平面図である。 実施形態の保護フィルムの製造方法における第1の工程を示す模式図である。 実施形態の保護フィルムの製造方法における第2の工程を示す模式図である。 実施形態の保護フィルムの製造方法における隣接する2つの保護フィルムの切断分離部分の断面図である。 実施形態の保護フィルムの平面図であり、ディスプレイに貼付された状態を示す。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
図1は、本実施形態の保護フィルム100(図6参照)の製造に用いるフィルム材1の積層構造を示す断面図である。
保護フィルム100の製造工程は、切断前のフィルム材1を用意する前工程と、フィルム材1を切断する切断工程と、を有する。なお、本明細書において、保護フィルム100とは、フィルム材1から特定の形状に切り出して、ディスプレイに貼付する際に不要な層を除去したものを指す。
図1に示すように、本実施形態のフィルム材1は、7層構造となっている。フィルム材1は、5層構造の本体部20と、本体部20の両側を挟み込むように配置され、本体部20を製造工程上の傷から保護する一対の防護フィルム6A、6Bと、を有する。防護フィルム6A、6Bは、フィルム材1を切断する切断工程において、本体部20に傷が生じることを防止する目的で設けられている。防護フィルム6A、6Bは、切断工程が終了した後に剥離される。
本体部20は、ディスプレイに貼付される側に位置する下面20bと、その反対側に位置する上面20aと、を有している。本体部20は、上面20a側から順に、ハードコート層3と、主層2と、粘着剤層4と、セパレータ層5と、を有する。
ハードコート層3は、他の層と比較して硬い樹脂からなる層である。ハードコート層3は、これより下に配置される他の層に傷が生じることを抑制する目的で、本体部20の最表面に形成されている。
主層2は、保護フィルム100を主に構成する層である。主層2については、後段においてより詳しく説明する。
粘着剤層4は、保護フィルム100をディスプレイに貼付するための粘着剤が施された層である。
セパレータ層5は、粘着剤層4に剥離可能に貼り付けられた層である。セパレータ層5は、容易に剥離可能であり、セパレータ層5を剥離させることで、粘着剤層4を露出させて、保護フィルム100をディスプレイに貼付できる。
主層2は、光硬化性樹脂組成物からなるものが例示されるが、その他にタッチパネルのフィルム材として使用可能なものであれば、これに限定されるものではない。
主層2を構成する光硬化性樹脂組成物としては、光(紫外線、可視光)および電子線などの活性エネルギー線により硬化反応(重合反応)が進行するものが使用できる。また、光硬化性樹脂組成物は重合性樹脂成分に光重合性開始剤を配合したものが好ましい。特に、光硬化性樹脂組成物としては、光重合性の炭素−炭素二重結合を複数個有する化合物が好ましい。
主層2は、液状(未硬化の)の光硬化性樹脂組成物を一対の基材フィルムにより挟み込んで帯状に加工した後に紫外線を照射して硬化させることで形成することができる。ここで用いる一対の基材フィルムは、紫外線を透過可能な光透過性樹脂からなるフィルムである。基材フィルムは、ハードコート層を主層2に転写する機能を有していてもよい。
光硬化性樹脂組成物の例としては、(1)多価アリルエステル樹脂、(2)多価ビニルエステル樹脂、(3)多官能ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、(4)籠型シロキサン−(メタ)アクリレート樹脂組成物、などが挙げられる。
(1)多価アリルエステル樹脂は、多価アリルエステル化合物と光重合開始剤を含む組成物である。多価アリルエステル化合物は、多価カルボン酸のアリルエステルモノマーと2〜6個の水酸基を有する炭素数2〜20の多価アルコールとのエステル交換反応により製造される。
多価カルボン酸のアリルエステルモノマーの具体例としては、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸ジアリル、メチルテトラヒドロフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、コハク酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等が挙げられる。これらアリルエステルモノマーは、必要に応じて2種以上使用することもでき、また、上述の具体例に限定されるものではない。
炭素数2〜20の多価アルコールの具体例のうち、2価のアルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ビスフェノール−Aのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノール−Aのプロピレンオキサイド付加物、2,2−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジブロモフェニル]プロパン等が挙げられる。
また、3価以上の多価アルコールの具体例としては、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタリスリトール等が挙げられる。これらの多価アルコールは2種以上の混合物であってもよい。また、上述の具体例に限定されるものではない。
さらに、多価アリルエステル化合物はラジカル重合性であり、熱や紫外線、電子線等により重合させることができる。また、他のラジカル重合性化合物と共重合することもできる。
多価アリルエステル化合物と共重合させるラジカル重合性化合物は、多価アリルエステル化合物と共重合する化合物であれば特に制限はない。その具体例としては、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、アリルベンゾエート、α−ナフトエ酸アリル、β−ナフトエ酸アリル、2−フェニル安息香酸アリル、3−フェニル安息香酸アリル、4−フェニル安息香酸アリル、o−クロロ安息香酸アリル、m−クロロ安息香酸アリル、p−クロロ安息香酸アリル、o−ブロモ安息香酸アリル、m−ブロモ安息香酸アリル、p−ブロモ安息香酸アリル、2,6−ジクロロ安息香酸アリル、2,4−ジクロロ安息香酸アリル、2,4,6−トリブロモ安息香酸アリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸ジアリル、3−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、エンディック酸ジアリル、クロレンド酸ジアリル、3,6−メチレン−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ピロメリット酸テトラアリル、ジフェン酸ジアリル等、コハク酸ジアリル、アジピン酸ジアリル等のアリルエステル類、ジベンジルマレート、ジベンジルフマレート、ジフェニルマレート、ジフェニルフマレート、ジブチルマレート、ジブチルフマレート、ジメトキエチルマレート、ジメトキシエチルフマレート等のマレイン酸ジエステル/フマル酸ジエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレンジリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジメタクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、メトキシスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、カプロン酸ビニル等の脂肪族カルボン酸のビニルエステル;シクロヘキサンカルボン酸ビニルエステル等の脂環式ビニルエステル;安息香酸ビニルエステル、t−ブチル安息香酸ビニルエステル等の芳香族ビニルエステル、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、PPG社製商品名CR−39に代表されるポリエチレングリコールビス(アリル)カーボネート樹脂等のアリルカーボネート化合物、分子内に反応性の異なる重合性二重結合を有する(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ビニルやマレイン酸ジアリル等の化合物、イソシアヌル酸トリアリルやシアヌル酸トリアリル等の窒素含有多官能アリル化合物、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等オリゴアクリレート類等が挙げられる。
ただし、これらのラジカル重合性化合物はあくまで例示であり、上記に限定されるわけではない。また、これらのラジカル重合性化合物は、目的の物性を得るために2種以上併用してもよい。
(2)多価ビニルエステル樹脂としては、前記多価アリルエステルのアリル基をビニル基に置換したものが挙げられる。
(3)多官能ウレタン(メタ)アクリレート樹脂としては、ポリイソシアネート系化合物と水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物を、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させて得られた物が挙げられる。ポリイソシアネート系化合物としてはイソホロンジイソシアネート、トリシクロデカンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ジイソシアナトシクロヘキサン、1,4−ジイソシアナトシクロヘキサン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネートなどのポリイソシアネート系化合物などが例示される。水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(4)籠型シロキサン−(メタ)アクリレート樹脂組成物としては、例えば、特開2010−195986号公報に記載の樹脂組成物が挙げられる。
また、主層2に使用できる樹脂としては前述の光硬化性樹脂組成物以外にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、PMMA、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂にも適用可能である。
<前工程>
保護フィルム100の製造方法を説明する。まず、フィルム材1を用意する前工程について説明する。
本体部20は、主層2に対して他の層を積層することで形成することができる。主層2は、上述したように、一対の基材フィルムに液状(未硬化の)の光硬化性樹脂組成物を挟み込んで帯状に加工した後に紫外線を照射して硬化させ、基材フィルムを除去することで形成できる。
主層2を形成した後に、主層2の一方の面にハードコート層3を形成し、他方の面に粘着剤層4を形成しさらに粘着剤層4上にセパレータ層5を配置する。これにより、本体部20を形成する。
次に、本体部20の表裏両面に防護フィルム6A、6Bを積層してフィルム材1を形成する。本体部20と防護フィルム6A、6Bとは、剥離可能に接着しておくことが好ましい。
これらの工程を経ることで、フィルム材1を用意する前工程が完了する。
<切断工程>
次に、フィルム材1の切断工程を行う。
まず、図2に示すように、一対の防護フィルム6A、6Bに挟み込まれたフィルム材1に切断線Cを設定する。切断線Cは、フィルム材1から切り出す保護フィルム100の外形を構成する。切断線Cは、隣接する保護フィルム100同士の間に位置する不要部101と、保護フィルム100との境界、及び保護フィルム100の中の孔25の境界を構成する。
切断工程は、以下に説明する第1の工程及び第2の工程を含む。切断工程は、第1の工程及び第2の工程において、切断線Cに沿って、それぞれ、エンドミル10又はレーザー光Lを走らせることで、切断を行う工程である。
<第1の工程>
次に、切断線Cに沿って回転するエンドミル10を切断線Cに沿って送り切削する第1の工程を行う。
図3に示すように、エンドミル10は、フライス盤などの加工装置の回転軸に連結され直線的に延びる軸部11と、軸部11の先端側に位置するテーパ部12とを有する。テーパ部12には、テーパ刃12aが設けられている。また、テーパ部12の先端には、平坦部12bが設けられている。テーパ刃12aは、エンドミル10の先端から長さh12の領域に設けられている。テーパ刃12aと平坦部12bとは、角度αをなす。
なお、エンドミル10の平坦部12bにも刃が形成されている。したがって、平坦部12bは、形状が平坦となっているのではなく、平坦部12bにより切削加工された対象物が平坦となる部位である。
図3に示すように、第1の工程において、エンドミル10は、テーパ部12のテーパ刃12aによりフィルム材1の表面1a側から切削する。エンドミル10によって、フィルム材1の表面1aから深さh30だけ切削される。深さh30は、エンドミル10のテーパ刃12aの高さh12より浅い距離である。即ち、エンドミル10は、直線的に延びる軸部11をフィルム材1の表面1aより下方に挿入せずに切削を行う。これにより、第1の工程によって、フィルム材1には、表面1aと連続する第1の傾斜面(第1の面)31が形成される。第1の傾斜面31の傾斜角は、テーパ刃12aの傾斜角に由来する。したがって、第1の傾斜面31とフィルム材1の表面1aとは、角度αをなす。
第1の傾斜面31は、切断線Cに沿って形成されるために、フィルム材1には、V字状の溝30が形成される。溝30は切断線Cに沿った中心線J30を基準線として断面が線対称な形状となる。
溝30は、幅d30に形成される。幅d30は、1mm以上5mm以下とすることが好ましい。幅d30を1mm以上とすることで、保護フィルム100における第1の傾斜面31が十分に大きく確保される。また、幅d30を5mm以下とすることで、保護フィルム100において第1の傾斜面31が大きくなりすぎて、保護フィルム100を通して視認するディスプレイの視認性が悪化することがない。また、同様の理由で、幅d30は、2mm以上4mm以下とすることがより好ましい。
なお、溝30の幅d30は、エンドミル10のフィルム材1に対する切り込み深さと、テーパ刃12aの角度αにより決まる。したがって、幅d30は、テーパ刃12aの角度αに応じて、切り込み深さを調整することで制御できる。
また、エンドミル10の先端には平坦部12bが設けられているために、溝30には、平坦な底部32が形成される。底部32の幅d32は、エンドミル10の先端の平坦部12bの径と略同一となる。
なお、エンドミル10の先端には、平坦部12bが設けられていなくても良い。即ち、エンドミル10は、先端までテーパ刃12aが形成された鋭利な形状とされていても良い。この場合には、溝30に平坦な底部32が形成されない。
次に、図4に示すように、切断線Cに沿って、レーザー光Lをフィルム材1の表面1aから照射して、フィルム材1を切断する第2の工程を行う。切断線Cには、第1の工程において形成された溝30が形成されており、レーザー光Lは、溝30の中心線J30から保護フィルム側(図4の左側)に偏差した中心線J40に沿って照射される。これはレーザー光Lの幅が溝30の幅よりもかなり小さいためである。図4の右側のフィルム材1は不要部101として廃棄される。なお、溝30の幅が狭い場合はレーザー光Lを溝30の中心線に沿って照射してもよい。この場合、図4の右側のフィルム材1は不要部101とせず、保護フィルムに用いることができるので原材料のロスを少なくすることができる。
レーザー光Lが照射されることで、フィルム材1は、表面1a側から深さ方向に向かって深さh40だけ溶融され切断された溝状の切断部40が形成される。切断部40は、フィルム材1の表面1a側の防護フィルム6Aと本体部20を貫通し、下側の防護フィルム6Bをハーフカットするように形成される。切断部40の深さh40は、レーザー光Lの出力(エネルギー密度)と照射時間を適切に調整することで制御できる。
レーザー光Lにより切断された切断部40は表面1a側の開口が広い形状となる。レーザー光Lは、フィルム材1の表面1a側から照射され、表面1a側から徐々にフィルム材1を溶融するために、表面1aに近い領域ほど熱の影響を長く受ける。これにより、レーザー光Lによる切断においては、若干開口に向かって広がる第2の傾斜面(第2の面)41が形成される。
第2の傾斜面41とフィルム材1の表面1aとは、角度βをなす。第2の傾斜面41の傾斜角度は、レーザー光Lの出力(エネルギー密度)に依存する。レーザー光Lの出力を高めた場合には、角度βが大きくなり90°に近づく。
また、レーザー光Lの出力を低めた場合には、所定の深さの切断を行うための時間(照射時間)を長くする必要が生じる。これによって、開口側が熱の影響を受ける時間が長くなり角度βが小さくなり開口が広くなる。
レーザー光Lのスポット径dsは、溝30の底部32の幅d32より大きい。これにより、溝30の底部32は完全に溶融され、切断部40の第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31と連続する面となる。
また、レーザー光Lのスポット径dsの大きさは、第1の工程における溝30の幅d30に対し、50%以下である。これにより、第2の工程を経た後であっても、溝30の第1の傾斜面31が、レーザー光Lにより溶融されずに、切断部40の両側に十分な大きさだけ残った状態となる。より具体的には、溝30の幅d30は1mm以上とされた場合に、レーザー光Lのスポット径dsを幅d30の50%以下とすることで、第1の傾斜面31を0.5mm以上確保できる。
レーザー光Lは、熱で溶融させてフィルム材1を切断する。熱の影響は、切断部40のみならず、その周囲にも及ぶ。第1の工程のエンドミル10による切削加工で形成された第1の傾斜面31には、チッピング(小さな欠け)が生じている場合がある。レーザー光Lによる切断時の熱は、チッピングの周辺のフィルム材1をわずかに溶融させ、チッピングを埋め込み消失させる。レーザー光Lによる切断時の熱は、チッピングの最奥部に形成される、鋭角の切欠が丸め、チッピングを亀裂の起点としにくくする。
以上に説明した、第1の工程及び第2の工程を経ることで切断工程が完了する。
第1の工程と、第2の工程は、順序を逆として行っても良い。即ち、先にレーザー光Lによる第2工程を行い、後にエンドミル10による第1の工程を行ってもよい。この場合には、レーザー光Lによる熱の影響で、チッピングを埋め込む、又は切欠を丸めるといった効果を奏さない。このため、上述したように、第1の工程の後に第2の工程を行うことが、より好ましい。
さらに、切断工程が完了した後に、防護フィルム6A、6Bが除去される。一対の防護フィルム6A、6Bのうち下側の防護フィルム6Bは、ハーフカットされているため、複数の保護フィルム100が、防護フィルム6B上に搭載された状態となっている。したがって、複数の保護フィルム100が、離散してしまうことがなく、下側の防護フィルム6Bを除去しながら保護フィルム100の回収を行うことで、回収作業を容易にできる。
<保護フィルム>
図5は、上述の製造工程で切断、分離された隣接する2つの保護フィルム100の断面図である。図5の保護フィルム100には、セパレータ層5が積層されているが、保護フィルム100の使用時には、セパレータ層5は除去される。
また、図6は、保護フィルム100の平面図であり、ディスプレイ60に貼付された状態を示す。
保護フィルム100は、ディスプレイ60に貼付される側の面である背面100bと、その反対側に位置する主面100aと、厚さ方向に延びる周縁部100cと、を有している。周縁部100cは、保護フィルム100の外形、(又は孔25の外形)を構成する。
また、保護フィルム100は、主面100a側から順に、ハードコート層3と、主層2と、粘着剤層4と、を有する。
図5に示すように、周縁部100cは、主面100a側から一定の厚さの領域に形成される第1の傾斜面(第1の面)31と、第1の傾斜面31と背面100bとの間の領域に形成される第2の傾斜面(第2の面)41と、を備える。第1の傾斜面31は、第1の工程(エンドミル加工)に由来し、第2の傾斜面41は、第2の工程(レーザー光Lによる切断加工)に由来する。
第1の傾斜面31の主面100aに対する角度αは、第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βより小さい。
第1の傾斜面31の主面100aに対する角度αは、10°以上60°以下であることが好ましい。
角度αを10°以上とすることで、主面100aと第1の傾斜面31とがなす角度が緩やかとなり、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
また、角度αを60°以下とすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41との角部39の角度γが緩やかとなり、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
同様の理由で、角度αは、15°以上45°以下であることがより好ましい。
第1の傾斜面31は、保護フィルム100の厚みDの10%以上、85%以下の領域に設けられていることが好ましい。即ち、d1の値がDの値の10〜85%となることが好ましい。
第1の傾斜面31を保護フィルム100の厚みDの10%以上の領域に設けることで、第1の傾斜面31を十分に大きく確保して、面取りとしての効果を高めることとができる。即ち、保護フィルム100は、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
また、第1の傾斜面31は、エンドミル10による切削加工により形成されているために、亀裂の起点となり得るチッピングが生じている場合がある。したがって、第1の傾斜面31を保護フィルム100の厚みDの85%以下の領域とすることで、第1の傾斜面31を小さくし、亀裂の発生を抑制できる。
第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、65°以上90°以下であることが好ましい。
角度βを65°以上とすることで、保護フィルム100の面方向に沿う第2の傾斜面41の長さを短くすることができる。即ち正面視における第2の傾斜面41を小さくすることができ、保護フィルム100を通して視認するディスプレイ60の視認性が悪化することがない。また、角度βは、同様の理由から75°以上とすることが好ましい。
第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、フィルム材1の表面1a側からレーザー光Lを照射した場合に、必然的に90°以下となる(図4参照)。第1の工程における切削加工は、フィルム材1の表面1a側から行うため、レーザー光Lをフィルム材1の表面1a側から照射することは、第1の工程と同一の方向から第2の工程を行うことを意味する。したがって、レーザー光Lをフィルム材1の表面1a側から照射し、角度βを90°以下とすることで、第1の工程と第2の工程とを同一ライン上で連続的に行うことができ、工程を簡素化できる。
また、第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、85°以下であることがより好ましい。角度βを85°以下とすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41との境界である角部39のなす角度γを大きくすることができる。角度γを大きくすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41とのである角部39において、指が引っかかりにくくなる。したがって、この保護フィルム100をディスプレイ60に貼付した場合に、周縁部100cの近傍における操作性を高めることができる。
本実施形態の保護フィルム100によれば、周縁部100cに、主面100a側に位置する第1の傾斜面31と、背面100b側に位置する第2の傾斜面41とが形成されている。
第1の傾斜面31は、エンドミル10のテーパ刃12aにより切削加工された面であり、十分な傾斜角(角度α)を有している。したがって、主面100a側において、使用者が周縁部100cの外側から内側に向かって指を運んだ場合に、指が周縁部100cで引っかかりにくい。これにより、周縁部100cの近傍において、タッチパネルの操作性が阻害されることがない。
また、保護フィルム100は、レーザー光Lによって加工された第2の傾斜面41を有する。また、第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31より周縁部100cにおいて平面視の外側に位置する。第1の傾斜面31は、切削加工により形成されているためにチッピングを生じている場合がある。しかしながら、第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31より内側に位置しているため、保護フィルム100を曲げた場合であっても、第1の傾斜面31には、応力が加わりにくい。したがって、第1の傾斜面31にチッピングが形成されていた場合であっても、チッピングが亀裂の起点となりにくい。即ち、保護フィルム100は、第2の傾斜面41を備えていることにより、亀裂が生じにくい。
以上に、本発明の実施形態を説明したが、各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。
例えば、フィルム材1の層構造は、これに限るものではなく、例えば、ハードコート層3、粘着剤層4、並びにセパレータ層5は、省略しても良い。同様に保護フィルム100は、主層2のみから構成されるものであってもよい。
以下、実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<サンプルの作製>
まず、図1に示すフィルム材1を用意する。フィルム材1は、本体部20と、本体部20を挟み込むように配置された厚さ43μmの防護フィルム6A、厚さ150μmの防護フィルム6Bと、を有している。本体部20は、6μmのハードコート層3と、200μm〜300μm(表1参照)の主層2と、50μmの粘着剤層4と、50μmのセパレータ層5と、を有している。
上述したフィルム材1を切断した。
サンプルNo.1、No.2として、第1の工程(エンドミル10による切削)と第2の工程(レーザー光Lによる切断)と、をこの順で行って切断して作製した。
サンプルNo.3として、第2の工程のみを行って作製した。
サンプルNo.4として、第1の工程のみを行って作製した。
第1の工程は、エンドミル10を、回転数50000rpmで回転させ、送り速度500mm/分で送ることで行った。なお、第1の工程に用いたエンドミル10は、図5における角度αが表1に示すものとなるように、適宜選択した。なお、実施例1、2で用いたエンドミルの直径は3mm、先端の低端部直径は2mmである。また、実施例4に用いたエンドミルの直径は3mmでテーパなし(先端の低端部直径も3mm)を使用した。
第2の工程は、COレーザー装置(パナソニック株式会社製レーザーマーカー)を用いて行った。レーザーの出力は40W、切断速度を2500mm/分とした。また、照射時間は、図5における角度βが表1に示すものとなるように、適宜選択した。
<評価>
作製されたサンプルNo.1〜No.4の保護フィルムに対して、周縁部近傍の操作性の評価と、亀裂試験を行った。
周縁部近傍の操作性の評価として、任意に選択した10人の評価者による官能評価を行った。各評価者の評価得点を集計し結果を、○、×の2段階に分けて、表1に記載する。
亀裂試験は、以下の手順により行った。
まず、十分な長さを有するφ2mm、φ3mmの円棒筒をそれぞれ用意した。
複数用意した各サンプルを、それぞれ5枚ずつφ2mmの円棒筒とφ3mmの円棒筒とに、半周させて巻きつけ、亀裂が生じるかどうかを確認した。
5枚中1枚でも亀裂が生じた場合は×とし、3枚以下の亀裂が生じた場合は△、亀裂が生じたものがなかった場合に○とした。
表1に、サンプルNo.1〜No.4の保護フィルムの構成と、評価結果をまとめて示す。
Figure 0006493733
表1に示すように、第1の工程と第2の工程とを行ったサンプルNo.1、No.2について、保護フィルムの周縁部100c近傍の操作性及び亀裂試験の評価結果は良好なものとなった。
これに対して、第2の工程(レーザー光Lによる切断)のみを行ったサンプルNo.3の保護フィルムは、周縁部100c近傍の操作性が悪い。これは、サンプルNo.3の保護フィルムは、周縁部100cに第2の傾斜面41のみが形成され、第1の傾斜面31が形成れていないために、傾斜角度が88°と垂直に近く、指が引っかかるためであると考えられる。
また、第1の工程(エンドミル10による切削)のみを行ったサンプルNo.4の保護フィルムは、亀裂試験の結果から、亀裂が生じやすいことが分かった。これは、サンプルNo.4の保護フィルムは、周縁部100cにチッピングが生じている虞のある第1の傾斜面31のみが形成されている。したがってサンプルNo.4の保護フィルムは、第1の傾斜面31のチッピングが亀裂の起点となったと考えられる。また、第1の工程のみを行っているために、チッピングにレーザー光Lによる切断時の熱の影響が加わっておらず、チッピングが埋められるといった効果を奏することができていないことも、亀裂が生じやすくなった一因であると考えられる。
このように、第1の工程と第2の工程とを行うことで、周縁部100cの近傍における操作性を改善すると共に、周縁部100cを起点とする亀裂が生じにくくなったことが確認された。
1…フィルム材、1a…表面、2…主層、3…ハードコート層、4…粘着剤層、5…セパレータ層、6A、6B…防護フィルム、10…エンドミル、11…軸部、12…テーパ部、12a…テーパ刃、12b…平坦部、20…本体部、25…孔、30…溝、31…第1の傾斜面(第1の面)、32…底部、40…切断部、41…第2の傾斜面(第2の面)、60…ディスプレイ、100…保護フィルム(個片)、100a…主面、100b…背面、100c…周縁部、C…切断線、D…厚み、L…レーザー光、d30、d32…幅、ds…スポット径、h12…高さ、α、β、γ…角度

Claims (5)

  1. ディスプレイに貼付される保護フィルムの製造方法であって、
    切断前のフィルム材を用意する前工程と、
    前記フィルム材を切断する切断工程と、を有し、
    前記切断工程は、
    テーパ刃のエンドミルを前記フィルム材の切断線に沿って送り前記フィルム材にV字状の溝を形成する第1の工程と、
    レーザー光を前記フィルム材の切断線に沿って照射し前記フィルム材を切断する第2の工程と、を含み、
    前記切断工程は、前記第1の工程の後に、前記第2の工程を行う、
    保護フィルムの製造方法。
  2. 前記フィルム材は、主層を有し、
    前記主層が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂からなる、請求項1に記載の保護フィルムの製造方法。
  3. 前記前工程において、前記フィルム材の一部として防護フィルムが積層され、
    前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光を照射する側と反対側に位置する前記防護フィルムをハーフカットする深さまで切断する、
    請求項1又は2に記載の保護フィルムの製造方法。
  4. 前記切断工程の前記第1の工程において、前記溝の幅が1mm以上5mm以下である、
    請求項1〜3の何れか一項に記載の保護フィルムの製造方法。
  5. 前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光のスポット径の大きさは、前記第1の工程における前記溝の幅に対し、50%以下である、
    請求項1〜4の何れか一項に記載の保護フィルムの製造方法
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110757014A (zh) * 2019-10-29 2020-02-07 北京航空航天大学 一种热障涂层叶片高效激光加工实时反馈方法及其装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102608091B1 (ko) * 2016-10-07 2023-12-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP6859376B2 (ja) * 2019-01-22 2021-04-14 グンゼ株式会社 カバーフィルム

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0682922B2 (ja) * 1989-01-30 1994-10-19 オーケープリント配線株式会社 金属プリント配線基板の製造方法
JPH05182132A (ja) * 1991-12-26 1993-07-23 Nec Kansai Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH06114797A (ja) * 1992-03-13 1994-04-26 Tamachi Kogyo Kk プリント基板等の切断工法
JP2883061B2 (ja) * 1996-06-21 1999-04-19 有限会社カレクトコーポレーション 情報表示部の保護板とこの保護板を有する情報表示部付き機器
JP3304828B2 (ja) * 1997-06-10 2002-07-22 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法
JP2912363B1 (ja) * 1998-06-24 1999-06-28 富山日本電気株式会社 ビルドアップ基板のスルーホールの形成方法
JP2001196332A (ja) * 2000-01-12 2001-07-19 Hitachi Cable Ltd レーザ光を用いた硬質非金属膜の切断方法
JP3450316B2 (ja) * 2001-06-21 2003-09-22 有限会社▲高▼橋型精 抜き型
JP2003094380A (ja) * 2001-09-18 2003-04-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置のフィルムボンディング装置及び該フィルムボンディング装置のフィルムハーフカット機構
JP2004117880A (ja) * 2002-09-26 2004-04-15 Hase Pro:Kk 画面保護シート
JP5255894B2 (ja) * 2008-04-30 2013-08-07 株式会社ジャパンディスプレイイースト 表示装置の製造方法
JP2010064203A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Sony Corp 加工装置、および、加工具と被加工物の距離補正方法
JP5359356B2 (ja) * 2009-02-20 2013-12-04 富士ゼロックス株式会社 樹脂フィルム媒体、及び樹脂フィルム媒体の製造方法
JP4651727B2 (ja) * 2009-04-30 2011-03-16 明和抜型株式会社 抜型用面版
KR101073563B1 (ko) * 2010-02-08 2011-10-14 삼성모바일디스플레이주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
TWI419096B (zh) * 2010-11-25 2013-12-11 Au Optronics Corp 基板結構以及面板結構
JP2012157914A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Nippon Steel Chem Co Ltd 脆性プラスチック板材の加工方法
JP5912280B2 (ja) * 2011-04-13 2016-04-27 朋和産業株式会社 樹脂フィルムの加工方法
JP5941671B2 (ja) * 2011-12-27 2016-06-29 株式会社アイールコーポレーション 軟質樹脂シートの端縁加工方法及び製品シート
KR101178165B1 (ko) * 2012-05-22 2012-08-29 주식회사 슈피겐에스지피 강화유리를 이용한 휴대용 전자기기의 보호 필름

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110757014A (zh) * 2019-10-29 2020-02-07 北京航空航天大学 一种热障涂层叶片高效激光加工实时反馈方法及其装置

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