JP6491816B2 - スリットノズル洗浄装置、及びワーク用塗布装置 - Google Patents
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Description
2…サブフレーム
3…上流側コンベア
4…中間コンベア
5…下流側コンベア
6…スリットノズル
6A…保持部材
7…スリットノズル洗浄機構
10…基板用塗布装置
31,41,51…ローラ
61,62…側面
63…先端
70…洗浄台
71…プライミングローラ
72…スクレーパ保持部材
73…ガイド
74,74A…洗浄乾燥部材
75…保持部材
76,77…スクレーパ
76A…先端部
100…コントローラ部
101…制御部
102…電磁弁
103…エアコンプレッサ
104…洗浄液供給タンク
111,112,113…圧力調整器
121,122…空気作動弁
741…送水管
741A…吹出口
742,743…送風管
742A…吹出口
900…洗浄位置
901…乾燥位置
902…折り返し位置
Claims (8)
- スリットノズルに付着した塗布液を当該スリットノズルから掻き取るスクレーパと、
前記スクレーパを、前記スリットノズルの側面に当接させた状態で当該スリットノズルのスリット方向について移動させる移動機構と、
前記塗布液の掻取り後に前記スクレーパに洗浄液を吹き付けることにより、当該スクレーパから前記塗布液を取り除く洗浄機構と、
前記洗浄機構による洗浄後に、前記洗浄液が付着した前記スクレーパを乾燥させる乾燥機構と、
を備え、
前記移動機構は、乾燥位置を経て前記スクレーパを往復移動させると共に、前記乾燥位置にて前記スクレーパを一時停止させ、
前記乾燥機構は、前記スクレーパが前記乾燥位置に一時停止しているときに、前記スクレーパを乾燥させる、スリットノズル洗浄装置。 - 前記洗浄機構及び前記乾燥機構を保持する洗浄乾燥部材と、
前記スリット方向と直交する方向に往復移動し、前記洗浄乾燥部材の下方位置で停止可能な洗浄台と、
を更に備え、
前記移動機構は、前記洗浄台上で前記スクレーパを前記スリット方向に移動させ、
前記下方位置は、当該下方位置に前記洗浄台が停止した場合に、前記洗浄機構による洗浄位置及び前記乾燥機構による乾燥位置への前記移動機構による前記スクレーパの選択的な配置が可能になる位置である、請求項1に記載のスリットノズル洗浄装置。 - 前記洗浄機構は、第1の吹出口から下方向に前記洗浄液を吹き付けて前記スクレーパを洗浄する、請求項1又は2に記載のスリットノズル洗浄装置。
- 前記乾燥機構は、第2の吹出口から下方向にエアを吹き付けて前記スクレーパを乾燥する、請求項1又は2に記載のスリットノズル洗浄装置。
- 前記乾燥機構は、第2の吹出口から下方向にエアを吹き付けて前記スクレーパを乾燥する、請求項3に記載のスリットノズル洗浄装置。
- 前記第1の吹出口が、前記第2の吹出口としても用いられる、請求項5に記載のスリットノズル洗浄装置。
- 前記洗浄液は水である、請求項1〜6のいずれかに記載のスリットノズル洗浄装置。
- スリットノズルを有し、当該スリットノズルからワークに前記塗布液を供給する塗布液供給機構と、
前記ワークと前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送機構と、
前記スリットノズルを洗浄する、請求項1〜7のいずれかに記載のスリットノズル洗浄装置と、
を備える、ワーク用塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014002288A JP6491816B2 (ja) | 2014-01-09 | 2014-01-09 | スリットノズル洗浄装置、及びワーク用塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014002288A JP6491816B2 (ja) | 2014-01-09 | 2014-01-09 | スリットノズル洗浄装置、及びワーク用塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015130462A JP2015130462A (ja) | 2015-07-16 |
JP6491816B2 true JP6491816B2 (ja) | 2019-03-27 |
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ID=53760979
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6491816B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111346876A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-06-30 | 天津海格丽特智能科技股份有限公司 | 铝合金窗框杂物智能清理装置 |
CN115802637B (zh) * | 2023-02-08 | 2023-05-05 | 苏州康尼格电子科技股份有限公司 | Pcba封装设备 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2638172B2 (ja) * | 1988-12-29 | 1997-08-06 | 石川島播磨重工業株式会社 | 塗工装置 |
JP4091372B2 (ja) * | 2002-07-16 | 2008-05-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2005022251A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドのワイピングユニット、液滴吐出ヘッドのクリーニング方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法 |
JP4762850B2 (ja) * | 2005-11-16 | 2011-08-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 回転ロールの洗浄機構及び回転ロールの洗浄方法 |
JP3180143U (ja) * | 2012-09-21 | 2012-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布ノズル洗浄装置 |
JP2014176812A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015130462A (ja) | 2015-07-16 |
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