JP2017202471A - 塗布器乾燥装置及び塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部（短手方向端部）に残すことなく除去することができる塗布器乾燥装置及び塗布装置を提供する。
【解決手段】基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、吸引力を発生させることにより塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、吸引ノズルと塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、を備え、吸引ノズルを基板対向面に近接させた状態で移動装置により塗布器の端部からスリットノズルに向かって移動させることにより、塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し基板対向面を乾燥させる構成する。
【選択図】図２

Description

本発明は、塗布液を吐出する塗布器を洗浄した後、この塗布器を乾燥させるための塗布器乾燥装置、及び、この塗布器乾燥装置を備える塗布装置に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。塗布装置は、基板を載置するステージと、載置された基板に塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布器とを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。

この塗布器には、基板と対向する基板対向面に一方向に延びるスリットノズルが形成されており、スリットノズルの長手方向に亘って均一に塗布液を吐出できるようになっている。しかし、スリットノズルに乾燥した乾燥残留液や異物（合わせて異物等と呼ぶ）が付着した状態では、その異物等により塗布液の吐出状態が不均一化され、塗布膜に筋ムラなどの乾燥ムラが形成される原因になる。そのため、このような塗布器は、塗布膜の均一性を保つため定期的に洗浄し乾燥される（例えば特許文献１参照）。

具体的には、洗浄液を溜めた洗浄槽内に塗布器のスリットノズルを浸漬させた状態で超音波洗浄を行った後、塗布器乾燥装置により塗布器に付着した洗浄液が除去されることにより乾燥される。この塗布器乾燥装置は、図７に示すように、廃液トレイ１００とエアブローノズル１０１とを備えており、廃液トレイ１００上に塗布器１０２が停止すると、エアブローノズル１０１からエアーが噴出されるようになっており塗布器１０２に付着した洗浄液１０３を吹き飛ばすことにより乾燥させるようになっている。すなわち、廃液トレイ１００上に塗布器１０２が停止された状態では、エアブローノズル１０１が塗布器１０２のスリットノズル１０４直下に配置される。そして、エアブローノズル１０１からエアを噴出させた状態で、エアブローノズル１０１が塗布器１０２の長手方向（Ｙ軸方向）に沿って移動する。これにより、塗布器１０２の基板対向面１０５に付着した洗浄液１０３がエアブローノズル１０１の吹きつけ領域から離れるように移動し吹き飛ばされる。すなわち、基板対向面１０５の洗浄液１０３は、スリットノズル１０４から塗布器１０２の端部（短手方向端部）に移動し、洗浄液１０３がある程度集合すると液滴が大きくなって塗布器１０２の端部から廃液トレイ１００に落下する。これにより、エアブローノズル１０１が通過した領域は、洗浄液１０３が除去され、基板への塗布膜形成時において、塗布器１０２の基板対向面１０５に残留した洗浄液１０３が基板上に落下するのを抑え、塗布基板の不良品が発生するのを抑えることができる。

特開２００４−３１４０４８号公報

しかし、上記塗布器乾燥装置では、塗布器１０２に付着した洗浄液１０３が完全には除去できない場合があった。すなわち、エアブローノズル１０１によりエアを吹き付けられた洗浄液１０３は、図７（ａ）に示すように、塗布器１０２の端部（短手方向端部）に集合させて落下させるが、場合によっては塗布器１０２の端部の角部で集まったまま落下しない場合があった。すなわち、エアブローノズル１０１の風圧により基板対向面１０５の平坦面１０５ａを移動した洗浄液１０３は、エアブローノズル１０１の風圧により塗布器１０２の端部の角部で一度、平坦面１０５ａから側面１０６に移動し、エアブローノズル１０１の通過後、重力の影響で平坦面１０５ａに戻ってくる現象が生じる場合がある。そして、このような洗浄液１０３が基板対向面１０５に残ったままの場合には、その洗浄液１０３の雫が塗布膜形成時に落下し、塗布膜に混入して品質に影響を与える場合があるという問題があった。

また、図７（ｂ）に示すように、エアブローノズル１０１がスリットノズル１０４の延びる方向（長手方向）に移動するため、基板対向面１０５に付着した洗浄液１０３を除去し完全に乾燥させるには、時間がかかるという問題があった。特に、基板が大型化した場合には、塗布器１０２自体も長尺化するため、その問題が顕著になっていた。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部（短手方向端部）に残すことなく除去することができる塗布器乾燥装置及び塗布装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために本発明の塗布器乾燥装置は、基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、吸引力を発生させることにより前記塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、前記吸引ノズルと前記塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、を備え、前記吸引ノズルを前記基板対向面に近接させた状態で前記移動装置により前記塗布器の端部から前記スリットノズルに向かって移動させることにより、前記塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し前記基板対向面を乾燥させることを特徴としている。

上記課題を解決するために本発明によれば、基板対向面に付着した付着液（洗浄液）を吸引することにより除去することができる。すなわち、基板対向面に付着した付着液を吸引することにより除去するため、従来のようにエアブローノズルにより付着液を移動させ塗布器の端部（短手方向端部）に集合させて落下させる場合に比べて、吸引により確実に付着液を除去することができる。また、吸引ノズルは、塗布器の端部からスリットノズルに向かって移動させるため、付着液が落下しにくい塗布器端部を避けて回収することができ、付着液が塗布器の端部に残留する問題を回避することができる。さらに、吸引ノズルが短手方向に移動するため、従来のように長手方向に移動させて除去する場合に比べて乾燥時間を短縮させることができる。

また、前記吸引ノズルは、一方向に延びて形成されており、スリットノズルの長手方向寸法以上に形成されている構成とすることが好ましい。

この構成によれば、吸引ノズルがスリットノズルの長手寸法以上に形成されているため、塗布器の端部からスリットノズルに向かう一度の走査で基板対向面に付着した付着液の除去を行うことができる。

また、前記基板対向面は、前記塗布器の端部を含む平坦面と、スリットノズルに向かって傾斜する傾斜面とを有しており、前記吸引ノズルは、前記平坦面から傾斜面に沿って移動しつつ前記基板対向面に付着した付着液を除去する構成としてもよい。

この構成によれば、基板対向面における平坦面、及び傾斜面のいずれに付着液が存在していても吸引ノズルで吸引し除去することができる。

また、前記吸引ノズルが前記基板対向面に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材が設けられている構成としてもよい。

この構成によれば、吸引ノズルが基板対向面に接触することなく付着液を除去することができる。

また、上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、塗布器乾燥装置を備え、基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成することを特徴としている。

本発明によれば、塗布器に付着した洗浄液を確実に乾燥できるため、塗布膜形成時において、塗布器の基板対向面に残留した洗浄液が基板上に落下するのを回避でき不良品の発生を抑えることができる。

本発明によれば、塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部（短手方向端部）に残すことなく除去することができる。

本発明の塗布器乾燥装置を備える塗布装置を概略的に示す斜視図である。 本発明の塗布器乾燥装置を概略的に示す図である。 本発明の塗布器乾燥装置を長手方向から見た図である。 塗布器洗浄装置を示す図であり、（ａ）は、塗布器が洗浄槽の洗浄液に浸漬された状態を示す図であり、（ｂ）は、塗布器が洗浄槽から引き上げた状態を示す図である。 塗布器乾燥装置の動作を示す図であり、（ａ）は、塗布器の端部に吸引ノズルが位置した状態を示す図であり、（ｂ）は、塗布器の端部に位置する当接面に位置決め用ローラが当接した状態を示す図であり、（ｃ）は、吸引ノズルが塗布器の基板対向面に沿って相対的に移動している状態を示す図である。 塗布器乾燥装置の動作を示す図であり、（ａ）は、吸引ノズルが平坦面と傾斜面との境界に位置する当接面に到達した状態を示す図であり、（ｂ）は、吸引ノズルが傾斜面を相対的に移動している状態を示す図であり、（ｃ）は、吸引ノズルの位置決め用ローラが当接面から離間した状態を示す図である。 従来の塗布器乾燥装置を示す図であり、（ａ）は、長手方向から見た図であり、（ｂ）は、短手方向から見た図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

図１は、本発明の塗布器乾燥装置を備える塗布装置を概略的に示す斜視図、図２は、本発明の塗布器乾燥装置を概略的に示す図、図３は、塗布器乾燥装置を長手方向から見た図である。

図１〜図３に示すように、塗布装置１は、基板１０上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３とを備えている。

なお、以下の説明では、塗布ユニット３が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

ステージ２１は、ロボットハンド等により搬入された基板１０を載置するものである。このステージ２１には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板１０が保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の表面に形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板１０をステージ２１の表面に吸着させて保持できるようになっている。

また、塗布ユニット３は、基板１０上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット３は、図１，図２に示すように、塗布液を吐出する塗布器３０と、この塗布器３０を保持するガントリ部３５とを有しており、Ｘ軸方向に移動可能に形成されている。すなわち、塗布ユニット３を移動させる移動装置が設けられており、この移動装置を制御することによりガントリ部３５をＸ軸方向に移動させることができるようになっている。具体的には、移動装置は、ステージ２１のＹ軸方向端部に設けられるＸ軸方向に延びるレールと、脚部３５ａに取り付けられたガントリ部３５を駆動させるリニアモータとを有しており、ガントリ部３５がレールにスライド自在に取り付けられている。そして、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止することができる。本実施形態では、ステージ２１と、ステージ２１の外側に設置されるメンテナンス部５とに移動できるようになっている。

また、ガントリ部３５には、塗布器３０を昇降させる昇降機構が設けられている。具体的には、昇降機構を作動させることにより、塗布器３０が基板１０に対して接離できるようになっている。これにより、塗布動作中には、ステージ２１上の基板１０に対して適切な高さ位置に位置することができる。また、後述のメンテナンス部５に対しても昇降動作できるようになっており、昇降機構を作動させることにより、塗布器洗浄装置、塗布器乾燥装置に対して接離できるようになっている。

また、塗布器３０は、塗布液を吐出して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この塗布器３０は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３の走行方向（Ｘ軸方向）とほぼ直交するように設けられている。この塗布器３０には、基板１０と対向する基板対向面３１（図３，４参照）に長手方向に延びるスリットノズル３２が形成されている。具体的には、基板対向面３１には、塗布器３０のＸ軸方向端部（単に塗布器３０の端部ともいう）から基板１０に平行な平坦面３１ａと、平坦面３１ａから基板１０側に向かう傾斜面３１ｂとが形成されており、傾斜面３１ｂの先端部分に僅かな隙間で形成されるスリットノズル３２が一方向に延びて形成されている。したがって、塗布器３０に塗布液が供給されると、塗布液がスリットノズル３２を通じて長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３２から塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３をＸ軸方向に走行させることにより、基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。

また、塗布装置１は、塗布器３０の保守を行うためのメンテナンス部５を備えている。このメンテナンス部５は、塗布器洗浄装置６（図４参照）と塗布器乾燥装置７とを有しており、本実施形態では、ステージ２１のＸ軸方向端部側に設けられている。

塗布器洗浄装置６は、洗浄液５１中に塗布器３０を浸漬させることにより、スリットノズル３２に付着した塗布液である乾燥残留液や異物（合わせて異物等と呼ぶ）を除去するものである。この塗布器洗浄装置６５は、図４に示すように、一方向（Ｙ軸方向）に延びる形状の洗浄槽５０と、この洗浄槽５０内の洗浄液５１に振動を与える振動子６１とを有しており、振動子６１を作動させた状態で塗布器３０の一部を浸漬させることにより、超音波洗浄できるようになっている。具体的には、スリットノズル３２を洗浄槽５０に浸漬させることにより、スリットノズル３２、及び、基板対向面３１が超音波洗浄され、これらに付着した異物等が除去されるようになっている。

また、塗布器乾燥装置７は、塗布器３０に付着した付着液（本実施形態では洗浄液５１）を除去するものである。この塗布器乾燥装置７は、塗布器洗浄装置６とＸ軸方向に並べて配置されており、フレーム部７１と、吸引ノズル７２とを有している。

フレーム部７１は、吸引ノズル７２を支持するものであり、一方向に延びる形状を有している。フレーム部７１は、塗布器洗浄装置６の洗浄槽５０の隣に並んで配置されており、フレーム部７１の延びる方向が洗浄槽５０の延びる方向と一致させて配置されている。本実施形態では、延びる方向がＹ軸方向になるように配置されている。このフレーム部７１は、平板形状を有しており、その中央位置には、軸方向（Ｙ軸方向）に沿って吸引ノズル７２を支持する複数の支持軸７３が並んで配置されている。

また、吸引ノズル７２は、塗布器３０に付着した付着液（洗浄液５１）を吸引するものであり、一方向に延びるノズル本体７４を有している。このノズル本体７４は、図３に示すように、側面が嘴状に形成されており、この形状を維持して一方向に延びて形成されている。ノズル本体７４は、本実施形態では、先鋭状部分が上方向を向く姿勢で、ノズル本体７４の延びる方向がＹ軸方向に一致するように配置されている。

また、ノズル本体７４の先鋭状部分には、開口部７５が形成されており、ノズル本体７４内部に形成されたマニホールドと連通して形成されている。この開口部７５は、狭い隙間のスリット状に形成され、スリット状の溝がノズル本体７４の延びる方向に一様に延びて形成されている。本実施形態では、スリットノズル３２の長手方向寸法とほぼ同じ寸法の形成されている。そして、この開口部７５から塗布器３０に付着した洗浄液５１が吸引されるようになっている。

具体的には、ノズル本体７４のマニホールドには、廃液用タンク８１と配管８２で連通して接続されており、廃液用タンク８１は真空ポンプと配管８３で連結されている。そして、真空ポンプを作動させると、廃液用タンク８１内が減圧され、配管８２を通じて開口部７５に吸引力が発生するようになっている。したがって、ノズル本体７４の先鋭状部分が付着した洗浄液５１付近に配置されると、洗浄液５１が開口部７５に発生した吸引力で吸引され、開口部７５を通じてマニホールド内に収容されるようになっている。

また、本実施形態の塗布器乾燥装置７には、吸引ノズル７２が塗布器３０の基板対向面３１に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材９が設けられている。このガイド部材９は、吸引ノズル７２に設けられた位置決め用ローラ９１と、塗布器３０の長手方向両端部に設けられた位置決めプレート９２で形成されている。すなわち、位置決め用ローラ９１が位置決めプレート９２に沿って回転することにより、吸引ノズル７２が基板対向面３１に対して所定距離を維持した状態で移動できるようになっている。

位置決め用ローラ９１は、ノズル本体７４の長手方向両端部に設けられており、長手方向に突出したシャフト軸９１ａに設けられている。すなわち、位置決め用ローラ９１は、Ｙ軸方向に突出するシャフト軸９１ａの先端でＹ軸周りに回転するようになっている。そして、位置決め用ローラ９１は、その上端位置が吸引ノズル７２の開口部７５の位置と同じ高さ位置になるように設けられている。また、塗布器３０の長手方向両端部には、平板状の位置決めプレート９２が設けられている。位置決めプレート９２は、位置決め用ローラ９１が走行可能な当接面９２ａを有しており、この当接面９２ａが塗布器３０の下面、すなわち、基板対向面３１及びスリットノズル３２の表面形状と同じ表面形状に形成されている。そして、位置決めプレート９２は、当接面９２ａが基板対向面３１よりも所定寸法、下方に突出した状態で取り付けられている。すなわち、基板対向面３１及びスリットノズル３２と同じ表面形状の当接面９２ａが、所定寸法下方に位置するように取り付けられている。したがって、塗布器３０を下降させることにより、位置決め用ローラ９１を位置決めプレート９２の当接面９２ａに当接させると、吸引ノズル７２の開口部７５が基板対向面３１と所定距離、離れた状態が形成される。ここで、ノズル本体７４とフレーム部７１とは支持軸７３には、バネ部材７３ａが設けられており、位置決め用ローラ９１が当接面９２ａに当接するとバネ部材７３ａが収縮する。そして、さらに塗布器３０を下降させると、バネ部材７３ａはさらに収縮するが位置決め用ローラ９１が当接面９２ａに当接しているため、吸引ノズル７２はその位置に位置決めされる。すなわち、支持軸７３にバネ部材７３ａを有していることにより、塗布器３０を下降させるだけで、確実に吸引ノズル７２の開口部７５と基板対向面３１との距離を所定の距離に調節することができる。

そして、位置決め用ローラ９１が当接面９２ａに当接した状態で塗布器３０をＸ軸方向に移動させると、位置決め用ローラ９１が当接面９２ａ上を回転し、吸引ノズル７２の開口部７５が基板対向面３１から所定の距離を維持したまま基板対向面３１上を走行することができる。これにより、基板対向面３１に付着した洗浄液５１を除去することができる。すなわち、図４（ｂ）に示すように、洗浄工程後、洗浄槽５０から引き上げた塗布器３０には洗浄液５１が付着しているが、吸引ノズル７２を走行させることにより吸引ノズル７２の開口部７５が付着した洗浄液５１に接近すると、付着した洗浄液５１が吸引力を受け開口部７５から吸引される。この吸引された洗浄液５１は、開口部７５からマニホールドに一時的に保持され、配管８２を通じて廃液タンクに収容される。このようにして、吸引ノズル７２が基板対向面３１の平坦面３１ａ及び傾斜面３１ｂを走査することにより、基板対向面３１に付着した洗浄液５１が除去される。

次に、塗布器乾燥装置７の動作について図５、図６を参照しつつ説明する。

まず、塗布器洗浄装置６により洗浄された塗布器３０が塗布器乾燥装置７の開始位置に停止する。具体的には、移動装置を駆動制御してガントリ部３５を移動させ、塗布器３０の端部が吸引ノズル７２の開口部７５に位置した状態で停止させる（図５（ａ））。

次に、塗布器３０を下降させて吸引ノズル７２の開口部７５を塗布器３０の端部に近接させる。すなわち、塗布器３０を下降させて位置決め用ローラ９１を位置決めプレート９２の当接面９２ａに当接させる。これにより、支持軸７３のバネ部材７３ａが収縮し、吸引ノズル７２の開口部７５と塗布器３０の基板対向面３１とが設定された所定間隔に位置決めされる（図５（ｂ））。

次に、基板対向面３１に付着した洗浄液５１を吸引する。具体的には、吸引ノズル７２の開口部７５に吸引力を発生させつつ、移動装置を駆動制御して塗布器３０をＸ軸方向に移動させる。すなわち、塗布器３０の端部から、吸引ノズル７２の開口部７５が基板対向面３１に対して所定間隔を維持したまま基板対向面３１の平坦面３１ａをスリットノズル３２に向かって走査することにより、平坦面３１ａに付着した洗浄液５１の液滴に吸引ノズル７２が近接すると、洗浄液５１の液滴が吸引力により開口部７５に吸引され吸引ノズル７２内に吸い込まれる。そして、吸引ノズル７２の開口部７５は、平坦面３１ａの長手方向寸法に亘って設けられているため、一度の走査でＸ軸方向片側の平坦面３１ａ全体が走査され、平坦面３１ａに付着した洗浄液５１が吸引されて除去される（図５（ｃ））。

そして、吸引ノズル７２が平坦面３１ａと傾斜面３１ｂとの境界に達し（図６（ａ））、さらに、塗布器３０をＸ軸方向に移動させると、傾斜面３１ｂに相当する当接面９２ａに沿って位置決め用ローラ９１が走行することにより、平坦面３１ａを走行していた吸引ノズル７２が押し下げられつつ、傾斜面３１ｂを走行する。この際、支持軸７３のバネ部材７３ａが収縮することにより、吸引ノズル７２の押し下げ量を吸収し、吸引ノズル７２の開口部７５と傾斜面３１ｂとの所定間隔は維持される（図６（ｂ））。

そして、吸引ノズル７２が塗布器３０のスリットノズル３２先端部分に達すると塗布器３０を上昇させることにより、基板対向面３１から吸引ノズル７２を離し、Ｘ軸方向片側の基板対向面３１の乾燥が終了する（図６（ｃ））。

次に、他方のＸ軸方向片側の基板対向面３１について乾燥が行われる。この他方側の乾燥については、上述した乾燥が完了した一方の基板対向面３１と同様の手順で行われるため、説明は省略する。

このように、上記実施形態では、基板対向面３１に付着した付着液（洗浄液５１）を吸引することにより除去することができる。すなわち、基板対向面３１に付着した付着液を吸引することにより除去するため、従来のようにエアブローノズルにより付着液を移動させ塗布器３０の端部（短手方向端部）に集合させて落下させる場合に比べて、吸引により確実に付着液を除去することができる。そして、吸引ノズル７２は、塗布器３０の端部からスリットノズル３２に向かって移動させるため、付着液が落下しにくい塗布器３０の端部を避けて回収することができ、付着液が塗布器３０の端部に残留する問題を回避することができ、吸引ノズル７２が短手方向に移動するため、従来のように長手方向に移動させて除去する場合に比べて乾燥時間を短縮させることができる。

上記実施形態では、ガイド部材９を有する例について説明したが、ガイド部材９がない構成であってもよい。すなわち、基板対向面３１に対して人手で吸引ノズル７２を走査させて基板対向面３１に付着した洗浄液５１を除去するものであってもよい。また、上記実施形態で説明した構成のガイド部材９がなくても、塗布器３０の基板対向面３１と吸引ノズル７２との距離をセンサで感知させ、吸引ノズル７２が基板対向面３１に対して所定距離を置いて走行するように制御しつつ走行させる走行装置を設けたものであってもよい。

また、上記実施形態では、吸引ノズル７２がスリット状のノズルであって、スリットノズル３２の長手方向寸法とほぼ同じ寸法に形成された例について説明したが、スリットノズル３２の長手寸法以上に形成されていればよい。すなわち、スリットノズル３２の長手寸法以上に形成されていれば、吸引ノズル７２が一度の走査することにより、基板対向面３１に付着した洗浄液５１を除去することができる点で好ましい。ただ、スリットノズル３２の長手方向寸法より小さい寸法に形成されていてもよく、この場合には、吸引ノズル７２が塗布器３０端部からスリットノズル３２に向かって複数回走査することにより基板対向面３１に付着した洗浄液５１を除去することができる。

また、上記実施形態では、移動装置が塗布器３０を移動させる構成であり、吸引ノズル７２と塗布器３０とを相対的に移動させる例について説明したが、吸引ノズル７２に移動装置を設け、塗布器３０が固定された状態で、吸引ノズル７２と塗布器３０とが相対的に移動する構成であってもよい。そして、上記実施形態では、塗布器３０の端部からスリットノズル３２に直交する方向に移動する例について説明したが、スリットノズル３２に対して交差する方向、すなわち、スリットノズル３２側に向かうように移動する構成であればよい。この構成により、スリットノズル３２に対して平行に移動する従来の構成に比べて洗浄液５１を除去する乾燥処理を早期に完了させることができる。

なお、上記実施形態では、基板対向面３１である平坦面３１ａ及び傾斜面３１ｂの両方に付着した洗浄液５１を除去する例について説明したが、洗浄液５１の付着状態によっては、平坦面３１ａのみの除去、傾斜面３１ｂのみの除去でもよい。

１ 塗布装置
３ 塗布ユニット
５ メンテナンス部
６ 塗布器洗浄装置
７ 塗布器乾燥装置
３０ 塗布器
３１ 基板対向面
３１ａ 平坦面
３１ｂ 傾斜面
３２ スリットノズル
７２ 吸引ノズル
７４ ノズル本体
７３ 支持軸
７５ 開口部

Claims (5)

1. 基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、
   吸引力を発生させることにより前記塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、
   前記吸引ノズルと前記塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、
   を備え、
   前記吸引ノズルを前記基板対向面に近接させた状態で前記移動装置により前記塗布器の端部から前記スリットノズルに向かって移動させることにより、前記塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し前記基板対向面を乾燥させることを特徴とする塗布器乾燥装置。
2. 前記吸引ノズルは、一方向に延びて形成されており、スリットノズルの長手方向寸法以上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布器乾燥装置。
3. 前記基板対向面には、前記塗布器の端部を含む平坦面と、スリットノズルに向かって傾斜する傾斜面とが形成されており、前記吸引ノズルは、前記平坦面から傾斜面に沿って移動しつつ前記基板対向面に付着した付着液を除去することを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布器乾燥装置。
4. 前記吸引ノズルが前記基板対向面に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材が設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布器乾燥装置。
5. 前記請求項１〜４のいずれかに記載された塗布器乾燥装置を備え、
   基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置。

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