JP2017202471A - 塗布器乾燥装置及び塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部(短手方向端部)に残すことなく除去することができる塗布器乾燥装置及び塗布装置を提供する。
【解決手段】基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、吸引力を発生させることにより塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、吸引ノズルと塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、を備え、吸引ノズルを基板対向面に近接させた状態で移動装置により塗布器の端部からスリットノズルに向かって移動させることにより、塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し基板対向面を乾燥させる構成する。
【選択図】図2
【解決手段】基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、吸引力を発生させることにより塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、吸引ノズルと塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、を備え、吸引ノズルを基板対向面に近接させた状態で移動装置により塗布器の端部からスリットノズルに向かって移動させることにより、塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し基板対向面を乾燥させる構成する。
【選択図】図2
Description
本発明は、塗布液を吐出する塗布器を洗浄した後、この塗布器を乾燥させるための塗布器乾燥装置、及び、この塗布器乾燥装置を備える塗布装置に関するものである。
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの(塗布基板という)が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。塗布装置は、基板を載置するステージと、載置された基板に塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布器とを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。
この塗布器には、基板と対向する基板対向面に一方向に延びるスリットノズルが形成されており、スリットノズルの長手方向に亘って均一に塗布液を吐出できるようになっている。しかし、スリットノズルに乾燥した乾燥残留液や異物(合わせて異物等と呼ぶ)が付着した状態では、その異物等により塗布液の吐出状態が不均一化され、塗布膜に筋ムラなどの乾燥ムラが形成される原因になる。そのため、このような塗布器は、塗布膜の均一性を保つため定期的に洗浄し乾燥される(例えば特許文献1参照)。
具体的には、洗浄液を溜めた洗浄槽内に塗布器のスリットノズルを浸漬させた状態で超音波洗浄を行った後、塗布器乾燥装置により塗布器に付着した洗浄液が除去されることにより乾燥される。この塗布器乾燥装置は、図7に示すように、廃液トレイ100とエアブローノズル101とを備えており、廃液トレイ100上に塗布器102が停止すると、エアブローノズル101からエアーが噴出されるようになっており塗布器102に付着した洗浄液103を吹き飛ばすことにより乾燥させるようになっている。すなわち、廃液トレイ100上に塗布器102が停止された状態では、エアブローノズル101が塗布器102のスリットノズル104直下に配置される。そして、エアブローノズル101からエアを噴出させた状態で、エアブローノズル101が塗布器102の長手方向(Y軸方向)に沿って移動する。これにより、塗布器102の基板対向面105に付着した洗浄液103がエアブローノズル101の吹きつけ領域から離れるように移動し吹き飛ばされる。すなわち、基板対向面105の洗浄液103は、スリットノズル104から塗布器102の端部(短手方向端部)に移動し、洗浄液103がある程度集合すると液滴が大きくなって塗布器102の端部から廃液トレイ100に落下する。これにより、エアブローノズル101が通過した領域は、洗浄液103が除去され、基板への塗布膜形成時において、塗布器102の基板対向面105に残留した洗浄液103が基板上に落下するのを抑え、塗布基板の不良品が発生するのを抑えることができる。
しかし、上記塗布器乾燥装置では、塗布器102に付着した洗浄液103が完全には除去できない場合があった。すなわち、エアブローノズル101によりエアを吹き付けられた洗浄液103は、図7(a)に示すように、塗布器102の端部(短手方向端部)に集合させて落下させるが、場合によっては塗布器102の端部の角部で集まったまま落下しない場合があった。すなわち、エアブローノズル101の風圧により基板対向面105の平坦面105aを移動した洗浄液103は、エアブローノズル101の風圧により塗布器102の端部の角部で一度、平坦面105aから側面106に移動し、エアブローノズル101の通過後、重力の影響で平坦面105aに戻ってくる現象が生じる場合がある。そして、このような洗浄液103が基板対向面105に残ったままの場合には、その洗浄液103の雫が塗布膜形成時に落下し、塗布膜に混入して品質に影響を与える場合があるという問題があった。
また、図7(b)に示すように、エアブローノズル101がスリットノズル104の延びる方向(長手方向)に移動するため、基板対向面105に付着した洗浄液103を除去し完全に乾燥させるには、時間がかかるという問題があった。特に、基板が大型化した場合には、塗布器102自体も長尺化するため、その問題が顕著になっていた。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部(短手方向端部)に残すことなく除去することができる塗布器乾燥装置及び塗布装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために本発明の塗布器乾燥装置は、基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、吸引力を発生させることにより前記塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、前記吸引ノズルと前記塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、を備え、前記吸引ノズルを前記基板対向面に近接させた状態で前記移動装置により前記塗布器の端部から前記スリットノズルに向かって移動させることにより、前記塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し前記基板対向面を乾燥させることを特徴としている。
上記課題を解決するために本発明によれば、基板対向面に付着した付着液(洗浄液)を吸引することにより除去することができる。すなわち、基板対向面に付着した付着液を吸引することにより除去するため、従来のようにエアブローノズルにより付着液を移動させ塗布器の端部(短手方向端部)に集合させて落下させる場合に比べて、吸引により確実に付着液を除去することができる。また、吸引ノズルは、塗布器の端部からスリットノズルに向かって移動させるため、付着液が落下しにくい塗布器端部を避けて回収することができ、付着液が塗布器の端部に残留する問題を回避することができる。さらに、吸引ノズルが短手方向に移動するため、従来のように長手方向に移動させて除去する場合に比べて乾燥時間を短縮させることができる。
また、前記吸引ノズルは、一方向に延びて形成されており、スリットノズルの長手方向寸法以上に形成されている構成とすることが好ましい。
この構成によれば、吸引ノズルがスリットノズルの長手寸法以上に形成されているため、塗布器の端部からスリットノズルに向かう一度の走査で基板対向面に付着した付着液の除去を行うことができる。
また、前記基板対向面は、前記塗布器の端部を含む平坦面と、スリットノズルに向かって傾斜する傾斜面とを有しており、前記吸引ノズルは、前記平坦面から傾斜面に沿って移動しつつ前記基板対向面に付着した付着液を除去する構成としてもよい。
この構成によれば、基板対向面における平坦面、及び傾斜面のいずれに付着液が存在していても吸引ノズルで吸引し除去することができる。
また、前記吸引ノズルが前記基板対向面に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材が設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、吸引ノズルが基板対向面に接触することなく付着液を除去することができる。
また、上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、塗布器乾燥装置を備え、基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成することを特徴としている。
本発明によれば、塗布器に付着した洗浄液を確実に乾燥できるため、塗布膜形成時において、塗布器の基板対向面に残留した洗浄液が基板上に落下するのを回避でき不良品の発生を抑えることができる。
本発明によれば、塗布器に付着した洗浄液を塗布器の端部(短手方向端部)に残すことなく除去することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の塗布器乾燥装置を備える塗布装置を概略的に示す斜視図、図2は、本発明の塗布器乾燥装置を概略的に示す図、図3は、塗布器乾燥装置を長手方向から見た図である。
図1〜図3に示すように、塗布装置1は、基板10上に薬液やレジスト液等の液状物(以下、塗布液と称す)の塗布膜を形成するものであり、基板10を載置するためのステージ21と、このステージ21に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット3とを備えている。
なお、以下の説明では、塗布ユニット3が移動する方向をX軸方向、これと水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。
ステージ21は、ロボットハンド等により搬入された基板10を載置するものである。このステージ21には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板10が保持されるようになっている。具体的には、ステージ21の表面に形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板10をステージ21の表面に吸着させて保持できるようになっている。
また、塗布ユニット3は、基板10上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット3は、図1,図2に示すように、塗布液を吐出する塗布器30と、この塗布器30を保持するガントリ部35とを有しており、X軸方向に移動可能に形成されている。すなわち、塗布ユニット3を移動させる移動装置が設けられており、この移動装置を制御することによりガントリ部35をX軸方向に移動させることができるようになっている。具体的には、移動装置は、ステージ21のY軸方向端部に設けられるX軸方向に延びるレールと、脚部35aに取り付けられたガントリ部35を駆動させるリニアモータとを有しており、ガントリ部35がレールにスライド自在に取り付けられている。そして、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット3がX軸方向に移動し、任意の位置で停止することができる。本実施形態では、ステージ21と、ステージ21の外側に設置されるメンテナンス部5とに移動できるようになっている。
また、ガントリ部35には、塗布器30を昇降させる昇降機構が設けられている。具体的には、昇降機構を作動させることにより、塗布器30が基板10に対して接離できるようになっている。これにより、塗布動作中には、ステージ21上の基板10に対して適切な高さ位置に位置することができる。また、後述のメンテナンス部5に対しても昇降動作できるようになっており、昇降機構を作動させることにより、塗布器洗浄装置、塗布器乾燥装置に対して接離できるようになっている。
また、塗布器30は、塗布液を吐出して基板10上に塗布膜を形成するものである。この塗布器30は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット3の走行方向(X軸方向)とほぼ直交するように設けられている。この塗布器30には、基板10と対向する基板対向面31(図3,4参照)に長手方向に延びるスリットノズル32が形成されている。具体的には、基板対向面31には、塗布器30のX軸方向端部(単に塗布器30の端部ともいう)から基板10に平行な平坦面31aと、平坦面31aから基板10側に向かう傾斜面31bとが形成されており、傾斜面31bの先端部分に僅かな隙間で形成されるスリットノズル32が一方向に延びて形成されている。したがって、塗布器30に塗布液が供給されると、塗布液がスリットノズル32を通じて長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル32から塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット3をX軸方向に走行させることにより、基板10上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。
また、塗布装置1は、塗布器30の保守を行うためのメンテナンス部5を備えている。このメンテナンス部5は、塗布器洗浄装置6(図4参照)と塗布器乾燥装置7とを有しており、本実施形態では、ステージ21のX軸方向端部側に設けられている。
塗布器洗浄装置6は、洗浄液51中に塗布器30を浸漬させることにより、スリットノズル32に付着した塗布液である乾燥残留液や異物(合わせて異物等と呼ぶ)を除去するものである。この塗布器洗浄装置65は、図4に示すように、一方向(Y軸方向)に延びる形状の洗浄槽50と、この洗浄槽50内の洗浄液51に振動を与える振動子61とを有しており、振動子61を作動させた状態で塗布器30の一部を浸漬させることにより、超音波洗浄できるようになっている。具体的には、スリットノズル32を洗浄槽50に浸漬させることにより、スリットノズル32、及び、基板対向面31が超音波洗浄され、これらに付着した異物等が除去されるようになっている。
また、塗布器乾燥装置7は、塗布器30に付着した付着液(本実施形態では洗浄液51)を除去するものである。この塗布器乾燥装置7は、塗布器洗浄装置6とX軸方向に並べて配置されており、フレーム部71と、吸引ノズル72とを有している。
フレーム部71は、吸引ノズル72を支持するものであり、一方向に延びる形状を有している。フレーム部71は、塗布器洗浄装置6の洗浄槽50の隣に並んで配置されており、フレーム部71の延びる方向が洗浄槽50の延びる方向と一致させて配置されている。本実施形態では、延びる方向がY軸方向になるように配置されている。このフレーム部71は、平板形状を有しており、その中央位置には、軸方向(Y軸方向)に沿って吸引ノズル72を支持する複数の支持軸73が並んで配置されている。
また、吸引ノズル72は、塗布器30に付着した付着液(洗浄液51)を吸引するものであり、一方向に延びるノズル本体74を有している。このノズル本体74は、図3に示すように、側面が嘴状に形成されており、この形状を維持して一方向に延びて形成されている。ノズル本体74は、本実施形態では、先鋭状部分が上方向を向く姿勢で、ノズル本体74の延びる方向がY軸方向に一致するように配置されている。
また、ノズル本体74の先鋭状部分には、開口部75が形成されており、ノズル本体74内部に形成されたマニホールドと連通して形成されている。この開口部75は、狭い隙間のスリット状に形成され、スリット状の溝がノズル本体74の延びる方向に一様に延びて形成されている。本実施形態では、スリットノズル32の長手方向寸法とほぼ同じ寸法の形成されている。そして、この開口部75から塗布器30に付着した洗浄液51が吸引されるようになっている。
具体的には、ノズル本体74のマニホールドには、廃液用タンク81と配管82で連通して接続されており、廃液用タンク81は真空ポンプと配管83で連結されている。そして、真空ポンプを作動させると、廃液用タンク81内が減圧され、配管82を通じて開口部75に吸引力が発生するようになっている。したがって、ノズル本体74の先鋭状部分が付着した洗浄液51付近に配置されると、洗浄液51が開口部75に発生した吸引力で吸引され、開口部75を通じてマニホールド内に収容されるようになっている。
また、本実施形態の塗布器乾燥装置7には、吸引ノズル72が塗布器30の基板対向面31に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材9が設けられている。このガイド部材9は、吸引ノズル72に設けられた位置決め用ローラ91と、塗布器30の長手方向両端部に設けられた位置決めプレート92で形成されている。すなわち、位置決め用ローラ91が位置決めプレート92に沿って回転することにより、吸引ノズル72が基板対向面31に対して所定距離を維持した状態で移動できるようになっている。
位置決め用ローラ91は、ノズル本体74の長手方向両端部に設けられており、長手方向に突出したシャフト軸91aに設けられている。すなわち、位置決め用ローラ91は、Y軸方向に突出するシャフト軸91aの先端でY軸周りに回転するようになっている。そして、位置決め用ローラ91は、その上端位置が吸引ノズル72の開口部75の位置と同じ高さ位置になるように設けられている。また、塗布器30の長手方向両端部には、平板状の位置決めプレート92が設けられている。位置決めプレート92は、位置決め用ローラ91が走行可能な当接面92aを有しており、この当接面92aが塗布器30の下面、すなわち、基板対向面31及びスリットノズル32の表面形状と同じ表面形状に形成されている。そして、位置決めプレート92は、当接面92aが基板対向面31よりも所定寸法、下方に突出した状態で取り付けられている。すなわち、基板対向面31及びスリットノズル32と同じ表面形状の当接面92aが、所定寸法下方に位置するように取り付けられている。したがって、塗布器30を下降させることにより、位置決め用ローラ91を位置決めプレート92の当接面92aに当接させると、吸引ノズル72の開口部75が基板対向面31と所定距離、離れた状態が形成される。ここで、ノズル本体74とフレーム部71とは支持軸73には、バネ部材73aが設けられており、位置決め用ローラ91が当接面92aに当接するとバネ部材73aが収縮する。そして、さらに塗布器30を下降させると、バネ部材73aはさらに収縮するが位置決め用ローラ91が当接面92aに当接しているため、吸引ノズル72はその位置に位置決めされる。すなわち、支持軸73にバネ部材73aを有していることにより、塗布器30を下降させるだけで、確実に吸引ノズル72の開口部75と基板対向面31との距離を所定の距離に調節することができる。
そして、位置決め用ローラ91が当接面92aに当接した状態で塗布器30をX軸方向に移動させると、位置決め用ローラ91が当接面92a上を回転し、吸引ノズル72の開口部75が基板対向面31から所定の距離を維持したまま基板対向面31上を走行することができる。これにより、基板対向面31に付着した洗浄液51を除去することができる。すなわち、図4(b)に示すように、洗浄工程後、洗浄槽50から引き上げた塗布器30には洗浄液51が付着しているが、吸引ノズル72を走行させることにより吸引ノズル72の開口部75が付着した洗浄液51に接近すると、付着した洗浄液51が吸引力を受け開口部75から吸引される。この吸引された洗浄液51は、開口部75からマニホールドに一時的に保持され、配管82を通じて廃液タンクに収容される。このようにして、吸引ノズル72が基板対向面31の平坦面31a及び傾斜面31bを走査することにより、基板対向面31に付着した洗浄液51が除去される。
次に、塗布器乾燥装置7の動作について図5、図6を参照しつつ説明する。
まず、塗布器洗浄装置6により洗浄された塗布器30が塗布器乾燥装置7の開始位置に停止する。具体的には、移動装置を駆動制御してガントリ部35を移動させ、塗布器30の端部が吸引ノズル72の開口部75に位置した状態で停止させる(図5(a))。
次に、塗布器30を下降させて吸引ノズル72の開口部75を塗布器30の端部に近接させる。すなわち、塗布器30を下降させて位置決め用ローラ91を位置決めプレート92の当接面92aに当接させる。これにより、支持軸73のバネ部材73aが収縮し、吸引ノズル72の開口部75と塗布器30の基板対向面31とが設定された所定間隔に位置決めされる(図5(b))。
次に、基板対向面31に付着した洗浄液51を吸引する。具体的には、吸引ノズル72の開口部75に吸引力を発生させつつ、移動装置を駆動制御して塗布器30をX軸方向に移動させる。すなわち、塗布器30の端部から、吸引ノズル72の開口部75が基板対向面31に対して所定間隔を維持したまま基板対向面31の平坦面31aをスリットノズル32に向かって走査することにより、平坦面31aに付着した洗浄液51の液滴に吸引ノズル72が近接すると、洗浄液51の液滴が吸引力により開口部75に吸引され吸引ノズル72内に吸い込まれる。そして、吸引ノズル72の開口部75は、平坦面31aの長手方向寸法に亘って設けられているため、一度の走査でX軸方向片側の平坦面31a全体が走査され、平坦面31aに付着した洗浄液51が吸引されて除去される(図5(c))。
そして、吸引ノズル72が平坦面31aと傾斜面31bとの境界に達し(図6(a))、さらに、塗布器30をX軸方向に移動させると、傾斜面31bに相当する当接面92aに沿って位置決め用ローラ91が走行することにより、平坦面31aを走行していた吸引ノズル72が押し下げられつつ、傾斜面31bを走行する。この際、支持軸73のバネ部材73aが収縮することにより、吸引ノズル72の押し下げ量を吸収し、吸引ノズル72の開口部75と傾斜面31bとの所定間隔は維持される(図6(b))。
そして、吸引ノズル72が塗布器30のスリットノズル32先端部分に達すると塗布器30を上昇させることにより、基板対向面31から吸引ノズル72を離し、X軸方向片側の基板対向面31の乾燥が終了する(図6(c))。
次に、他方のX軸方向片側の基板対向面31について乾燥が行われる。この他方側の乾燥については、上述した乾燥が完了した一方の基板対向面31と同様の手順で行われるため、説明は省略する。
このように、上記実施形態では、基板対向面31に付着した付着液(洗浄液51)を吸引することにより除去することができる。すなわち、基板対向面31に付着した付着液を吸引することにより除去するため、従来のようにエアブローノズルにより付着液を移動させ塗布器30の端部(短手方向端部)に集合させて落下させる場合に比べて、吸引により確実に付着液を除去することができる。そして、吸引ノズル72は、塗布器30の端部からスリットノズル32に向かって移動させるため、付着液が落下しにくい塗布器30の端部を避けて回収することができ、付着液が塗布器30の端部に残留する問題を回避することができ、吸引ノズル72が短手方向に移動するため、従来のように長手方向に移動させて除去する場合に比べて乾燥時間を短縮させることができる。
上記実施形態では、ガイド部材9を有する例について説明したが、ガイド部材9がない構成であってもよい。すなわち、基板対向面31に対して人手で吸引ノズル72を走査させて基板対向面31に付着した洗浄液51を除去するものであってもよい。また、上記実施形態で説明した構成のガイド部材9がなくても、塗布器30の基板対向面31と吸引ノズル72との距離をセンサで感知させ、吸引ノズル72が基板対向面31に対して所定距離を置いて走行するように制御しつつ走行させる走行装置を設けたものであってもよい。
また、上記実施形態では、吸引ノズル72がスリット状のノズルであって、スリットノズル32の長手方向寸法とほぼ同じ寸法に形成された例について説明したが、スリットノズル32の長手寸法以上に形成されていればよい。すなわち、スリットノズル32の長手寸法以上に形成されていれば、吸引ノズル72が一度の走査することにより、基板対向面31に付着した洗浄液51を除去することができる点で好ましい。ただ、スリットノズル32の長手方向寸法より小さい寸法に形成されていてもよく、この場合には、吸引ノズル72が塗布器30端部からスリットノズル32に向かって複数回走査することにより基板対向面31に付着した洗浄液51を除去することができる。
また、上記実施形態では、移動装置が塗布器30を移動させる構成であり、吸引ノズル72と塗布器30とを相対的に移動させる例について説明したが、吸引ノズル72に移動装置を設け、塗布器30が固定された状態で、吸引ノズル72と塗布器30とが相対的に移動する構成であってもよい。そして、上記実施形態では、塗布器30の端部からスリットノズル32に直交する方向に移動する例について説明したが、スリットノズル32に対して交差する方向、すなわち、スリットノズル32側に向かうように移動する構成であればよい。この構成により、スリットノズル32に対して平行に移動する従来の構成に比べて洗浄液51を除去する乾燥処理を早期に完了させることができる。
なお、上記実施形態では、基板対向面31である平坦面31a及び傾斜面31bの両方に付着した洗浄液51を除去する例について説明したが、洗浄液51の付着状態によっては、平坦面31aのみの除去、傾斜面31bのみの除去でもよい。
1 塗布装置
3 塗布ユニット
5 メンテナンス部
6 塗布器洗浄装置
7 塗布器乾燥装置
30 塗布器
31 基板対向面
31a 平坦面
31b 傾斜面
32 スリットノズル
72 吸引ノズル
74 ノズル本体
73 支持軸
75 開口部
3 塗布ユニット
5 メンテナンス部
6 塗布器洗浄装置
7 塗布器乾燥装置
30 塗布器
31 基板対向面
31a 平坦面
31b 傾斜面
32 スリットノズル
72 吸引ノズル
74 ノズル本体
73 支持軸
75 開口部
Claims (5)
- 基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を乾燥させる塗布器乾燥装置であって、
吸引力を発生させることにより前記塗布器に付着した付着液を吸引する吸引ノズルと、
前記吸引ノズルと前記塗布器とを相対的に前記スリットノズルと交差する方向に移動させる移動装置と、
を備え、
前記吸引ノズルを前記基板対向面に近接させた状態で前記移動装置により前記塗布器の端部から前記スリットノズルに向かって移動させることにより、前記塗布器の基板対向面に付着した付着液を除去し前記基板対向面を乾燥させることを特徴とする塗布器乾燥装置。 - 前記吸引ノズルは、一方向に延びて形成されており、スリットノズルの長手方向寸法以上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の塗布器乾燥装置。
- 前記基板対向面には、前記塗布器の端部を含む平坦面と、スリットノズルに向かって傾斜する傾斜面とが形成されており、前記吸引ノズルは、前記平坦面から傾斜面に沿って移動しつつ前記基板対向面に付着した付着液を除去することを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布器乾燥装置。
- 前記吸引ノズルが前記基板対向面に対して所定距離を維持した状態で移動させるガイド部材が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の塗布器乾燥装置。
- 前記請求項1〜4のいずれかに記載された塗布器乾燥装置を備え、
基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016097065A JP2017202471A (ja) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | 塗布器乾燥装置及び塗布装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016097065A JP2017202471A (ja) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | 塗布器乾燥装置及び塗布装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110665713A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-01-10 | 辛集市科鑫冶金设备有限公司 | 一种定碳杯锆粉喷涂设备及喷涂方法 |
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2016
- 2016-05-13 JP JP2016097065A patent/JP2017202471A/ja active Pending
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