JP6464048B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 25
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 20
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 8
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 50
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000619 electron energy-loss spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/002—Cooling arrangements
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/022—Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/028—Particle traps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/186—Valves
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Description
電子線源と、
鏡筒内に配置された電子レンズと、
前記鏡筒内に配置され、吸着部材を冷却して試料を汚染する物質を吸着させる冷却部と、
前記吸着部材を加熱する加熱部と、
検出室に配置され、前記試料を透過した電子線を検出する検出部と、
前記鏡筒内に第1仕切り弁を介して接続されている第1真空排気装置と、
前記検出室に接続されるとともに、前記鏡筒内に第2仕切り弁を介して接続されている第2真空排気装置と、
前記電子レンズがオンとなる第1モードから前記電子レンズがオフとなる第2モードに切り替える制御を行う制御部と、
を含み、
前記第2真空排気装置は、前記第1真空排気装置よりも高い圧力で動作可能であり、
前記制御部は、前記第1モードから前記第2モードに切り替える制御において、
前記第1仕切り弁を閉じ、かつ、前記第2仕切り弁を開いて、前記鏡筒内を前記第2真空排気装置で真空排気する処理と、
前記鏡筒内を前記第2真空排気装置で真空排気する処理の後に、前記加熱部を制御して前記吸着部材を加熱する処理と、
前記吸着部材を加熱する処理の後に、前記第1仕切り弁を開き、かつ、前記第2仕切り弁を閉じて、前記鏡筒内を前記第1真空排気装置で真空排気する処理と、
前記電子レンズをオフにする処理と、
を行う。
前記制御部は、さらに、設定された日時に前記第2モードから前記第1モードに切り替える制御を行ってもよい。
前記制御部は、前記第2モードから前記第1モードに切り替える制御において、前記電子レンズを予め設定されたレンズ条件で動作させる処理を行ってもよい。
前記制御部は、前記第1モードから前記第2モードに切り替える制御において、前記鏡筒内を前記第1真空排気装置で真空排気する処理の後に、前記第2真空排気装置をオフにする処理を行ってもよい。
前記第1真空排気装置は、スパッタイオンポンプであり、
前記第2真空排気装置は、油拡散ポンプまたはターボ分子ポンプであってもよい。
まず、本実施形態に係る電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡100を模式的に示す図である。
て結像された透過電子顕微鏡像(TEM像)を撮影することができる。検出部22は、例えば、CCDカメラや、CMOSカメラ等のデジタルカメラである。
ある。すなわち、第2真空排気装置40は、第1真空排気装置30よりも急激なガスの増加に対して対応することができるポンプである。第2真空排気装置40は、例えば、油拡散ポンプ、またはターボ分子ポンプである。油拡散ポンプは、油を高温に加熱し、油蒸気をノズルから高速に吹き出させ、その噴流の勢いにのせて気体分子を輸送するポンプである。また、ターボ分子ポンプは、高速で回転するローターにより気体分子に排気方向の運動量を与え、気体分子を排気する機械ポンプである。第2真空排気装置40には、補助ポンプ42が接続されている。補助ポンプ42としては、油回転ポンプやスクロールポンプなどを用いることができる。
242のガス出し操作を行うか否かや、第2モードから第1モードに切り替える制御を実行する日時、第2モードから第1モードに切り替えたときの電子レンズ12,14,18,20の状態(倍率やスポットサイズ等)等を設定可能である。電子顕微鏡100は、ユーザーがこれらの条件を入力するためのタッチパネルディスプレイや、キーボード、マウスなどの操作部(図示せず)を備えており、操作部の操作情報に基づき上記の条件が記憶部に記録され、上記の条件が設定される。
まず、第1モードから第2モードに切り替える制御について説明する。図2は、第1モードから第2モードに切り替える制御の流れの一例を示すフローチャートである。なお、ここでは、第1モードから第2モードに切り替える制御を行う際に、冷却フィン242のガス出し操作を行うことが予め設定されている場合について説明する。
により、第1真空排気装置30が動作状態となる。
次に、第2モードから第1モードに切り替える制御について説明する。図3は、第2モードから第1モードに切り替える制御の流れの一例を示すフローチャートである。
2を開いて、鏡筒2内を第2真空排気装置40で真空排気する処理と、第2真空排気装置40で鏡筒2内を真空排気する処理の後に、加熱部26を制御して冷却フィン242を加熱する処理と、冷却フィン242を加熱する処理の後に、第1仕切り弁50を開き、かつ、第2仕切り弁52を閉じて、鏡筒2内を第1真空排気装置30で真空排気する処理と、電子レンズ12,14,18,20をオフにする処理と、を行う。このように、電子顕微鏡100では、制御部60が第1モードから第2モードに切り替える制御において加熱部26を制御して冷却フィン242を加熱する処理を行う。そのため、ユーザーがガス出し操作を行う必要がなく、ユーザーの労力を低減することができる。したがって、電子顕微鏡100では、容易に電子顕微鏡を省エネルギー状態にすることができ、容易に省エネルギー化を図ることができる。
Claims (5)
- 電子線源と、
鏡筒内に配置された電子レンズと、
前記鏡筒内に配置され、吸着部材を冷却して試料を汚染する物質を吸着させる冷却部と、
前記吸着部材を加熱する加熱部と、
検出室に配置され、前記試料を透過した電子線を検出する検出部と、
前記鏡筒内に第1仕切り弁を介して接続されている第1真空排気装置と、
前記検出室に接続されるとともに、前記鏡筒内に第2仕切り弁を介して接続されている第2真空排気装置と、
前記電子レンズがオンとなる第1モードから前記電子レンズがオフとなる第2モードに切り替える制御を行う制御部と、
を含み、
前記第2真空排気装置は、前記第1真空排気装置よりも高い圧力で動作可能であり、
前記制御部は、前記第1モードから前記第2モードに切り替える制御において、
前記第1仕切り弁を閉じ、かつ、前記第2仕切り弁を開いて、前記鏡筒内を前記第2真空排気装置で真空排気する処理と、
前記鏡筒内を前記第2真空排気装置で真空排気する処理の後に、前記加熱部を制御して前記吸着部材を加熱する処理と、
前記吸着部材を加熱する処理の後に、前記第1仕切り弁を開き、かつ、前記第2仕切り弁を閉じて、前記鏡筒内を前記第1真空排気装置で真空排気する処理と、
前記電子レンズをオフにする処理と、
を行う、電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記制御部は、さらに、設定された日時に前記第2モードから前記第1モードに切り替える制御を行う、電子顕微鏡。 - 請求項2において、
前記制御部は、前記第2モードから前記第1モードに切り替える制御において、前記電子レンズを予め設定されたレンズ条件で動作させる処理を行う、電子顕微鏡。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記制御部は、前記第1モードから前記第2モードに切り替える制御において、前記鏡筒内を前記第1真空排気装置で真空排気する処理の後に、前記第2真空排気装置をオフにする処理を行う、電子顕微鏡。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記第1真空排気装置は、スパッタイオンポンプであり、
前記第2真空排気装置は、油拡散ポンプまたはターボ分子ポンプである、電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015130715A JP6464048B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | 電子顕微鏡 |
US15/196,149 US9773639B2 (en) | 2015-06-30 | 2016-06-29 | Electron microscope |
EP16176912.0A EP3113208B1 (en) | 2015-06-30 | 2016-06-29 | Electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015130715A JP6464048B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | 電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017016818A JP2017016818A (ja) | 2017-01-19 |
JP6464048B2 true JP6464048B2 (ja) | 2019-02-06 |
Family
ID=56561203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015130715A Active JP6464048B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | 電子顕微鏡 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9773639B2 (ja) |
EP (1) | EP3113208B1 (ja) |
JP (1) | JP6464048B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110137065B (zh) * | 2019-05-17 | 2024-07-23 | 中国科学院理化技术研究所 | 扫描电子显微镜温度调节***及方法 |
CN112345419A (zh) * | 2020-10-23 | 2021-02-09 | 大连理工大学 | 一种纳米气泡原位观测装置及方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6134841A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-19 | Hitachi Ltd | 高真空電子顕微鏡 |
JPS6387760U (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-08 | ||
JPH04190550A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-08 | Hitachi Ltd | 透過電子顕微鏡 |
JPH0511061A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-19 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線検出器 |
JP2002203505A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Jeol Ltd | 分析電子顕微鏡における予備排気方法及び予備排気室 |
JP5236037B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2013-07-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ミラー電子式試料検査装置 |
US20130256558A1 (en) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | Christian Dietl | Apparatus for contaminants being deposited thereon |
JP6035598B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2016-11-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP6302702B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-03-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および画像生成方法 |
-
2015
- 2015-06-30 JP JP2015130715A patent/JP6464048B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-29 US US15/196,149 patent/US9773639B2/en active Active
- 2016-06-29 EP EP16176912.0A patent/EP3113208B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9773639B2 (en) | 2017-09-26 |
EP3113208A1 (en) | 2017-01-04 |
US20170025244A1 (en) | 2017-01-26 |
JP2017016818A (ja) | 2017-01-19 |
EP3113208B1 (en) | 2024-01-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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