JP6446985B2 - 熱伝導度検出器及びガスクロマトグラフ - Google Patents

熱伝導度検出器及びガスクロマトグラフ Download PDF

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Description

本発明は、ガスクロマトグラフィー(GC)に用いられる熱伝導度検出器及びガスクロマトグラフに関するものである。
ガスクロマトグラフィーに用いられる検出器として熱伝導度検出器(TCD:Thermal Conductivity Detector)が知られている(例えば特許文献1,2を参照。)。熱伝導度検出器は発熱体(フィラメント)と発熱体周囲を流れる流体(ガス)との熱の受け渡しを利用する。ガスは、発熱体が収容された空間に導入された後、その空間から排出される。
熱伝導度検出器にはフィラメント素子が配置される少なくとも2つのセル空間が設けられる。各セル空間にはそれぞれフィラメント素子が配置される。
一方のセル空間には基準ガスが流される。他方のセル空間にはキャリアガスが流されて被分析対象の試料ガスが導入される。そして、二つのフィラメント素子の電気出力は検出回路に入る。検出回路では、試料ガスの導入によって生じた熱伝導度の差に応じて補正電流が流れる。熱伝導度検出器では、この補正電流を検出することにより、試料の検出が行われる。
特開平07−043356号公報 特開昭53−046091号公報
特許文献1にあるように、従来の熱伝導度検出器には試料ガスや基準ガスを排出するための管路(排出管)が設けられている。排出管は大気中と繋がっているため、大気圧の変動がフィラメント素子周辺を流れているガスに伝播する。これによりガスの流速が変わり、強制対流によってフィラメントから奪われる熱量が変化する。
フィラメントから奪われる熱量が変わるためフィラメントの温度が変化し、それによってフィラメントの抵抗値が変わる。特許文献1ではフィラメントが2本使用されているため、各フィラメントには機差が存在する。よって抵抗値の変化は2本のフィラメントで完全に同一にはならない。そのため検出回路に使用されているブリッジ回路のバランスが崩れる。その結果、熱伝導度検出器の出力が振れ、ベースラインが変動するという問題があった。
特許文献2に記載の熱伝導度検出器は、試料ガスと基準ガスを100msec(ミリ秒)の周期で交互に切り替えてフィラメントに導くことによって1本のフィラメントで試料ガスと基準ガスの信号を取得する。この熱伝導度検出器は、差分を取ることによって温度変動や大気圧変動によるベースラインの変動を除去している。しかし100msecより短い大気圧変動については除去できず、ベースラインが変動するという問題があった。
大気圧変動由来のベースラインの変動は、最小検出量の低下やクロマトグラムの歪みを引き起こすため、特に高感度分析において問題となる。そのため、大気圧変動由来のベースライン変動を除去する必要がある。
本発明の目的とするところは、熱伝導度検出器の大気圧変動由来のベースライン変動を抑制することである。
本発明の実施形態の熱伝導度検出器は、加熱された感温素子の表面に流体を接触させ、流体の熱伝導度に応じて感温素子の温度変化を生じさせ、そのときの感温素子の電気抵抗の変化又は感温素子に印加する電流値の変化から流体の検出を行う熱伝導度検出器であって、上記感温素子が収容され、流体が導入及び排出されるセル空間と、上記セル空間の流体排出口に接続された緩衝空間と、上記緩衝空間の流体排出口に接続された排出流路と、を備えているものである。
本発明の実施形態のガスクロマトグラフは、試料導入部を介してカラムにキャリアガスを供給し、カラムで分離されて流出した流出ガス成分を検出器で検出するガスクロマトグラフであって、上記検出器として本発明の実施形態の熱伝導度検出器を備えているものである。
本発明の実施形態の熱伝導度検出器及び本発明の実施形態のガスクロマトグラフは、熱伝導度検出器の大気圧変動由来のベースライン変動を抑制することができる。
熱伝導度検出器の一実施形態を説明するための概略的な断面図である。 同実施形態を説明するための概略的な構成図である。 ガスクロマトグラフの一実施形態を説明するための概略的な構成図である。 熱伝導度検出器の検出信号を得るホイートストンブリッジ回路を説明するための概略的な構成図である。 従来の熱伝導度検出器において大気圧変動が生じた際に起こるベースライン変動を説明するための図である。 熱伝導度検出器の一実施形態の出力と大気圧変動を示した図である。 複数のバッファ容量について熱伝導度検出器の一実施形態の出力を調べた結果を示す図である。
本発明の実施形態の熱伝導度検出器は、例えば上記セル空間を形成するためのセル部材と、上記緩衝空間を形成するための緩衝空間部材と、上記排出流路を形成するための排出流路部材と、上記セル部材と上記緩衝空間部材を接続するための接続管と、を備えている。ただし、本発明の実施形態の熱伝導度検出器の構成はこれに限定されない。
図1は、熱伝導度検出器の一実施形態を説明するための概略的な断面図である。図2は、同実施形態を説明するための概略的な構成図である。図3は、ガスクロマトグラフの一実施形態を説明するための概略的な構成図である。まず、図3を参照してガスクロマトグラフの一実施形態について説明する。
ガスクロマトグラフ21において、He等のキャリアガスは、ガス供給源23からリファレンス側流路とサンプル側流路とに分岐して供給される。サンプル側流路には、流量制御弁25a、圧力センサ27a、試料気化室29(試料導入部)、カラム31が設けられている。キャリアガスは試料気化室29を通ってカラム31へ送り込まれる。試料気化室29は高温に加熱されており、液体試料が注入されると即座に気化し、キャリアガス流に乗ってカラム31へ送られる。カラム31中を通過した測定ガス(キャリアガスと試料との混合ガス)は、熱伝導度検出器1の金属ブロック3に設けられたサンプル側セル空間を通った後にバッファ5及び抵抗管7を介して大気中に排出される。
リファレンス側流路には、流量制御弁25b、圧力センサ27b、スロットルバルブ等の抵抗33が設けられている。抵抗33中を通過したキャリアガスは、熱伝導度検出器1の金属ブロック3に設けられたリファレンス側セル空間を通った後にバッファ5及び抵抗管7を介して大気中に排出される。
熱伝導度検出器1にて検出された信号は増幅器35を介してデータ処理部37に入力される。データ処理部37はクロマトグラムを作成する。
制御部39は、圧力センサ27a,27bによって各流路のガス圧をモニタする。制御部39は、各流路のガス圧が所定値になるように流量制御弁25a,25bを制御する。これにより、サンプル側流路及びリファレンス側流路に所定流量のキャリアガスが流れるようになっている。
図1及び図2を参照して熱伝導度検出器1について説明する。
熱伝導度検出器1は、金属ブロック3(セル部材)とバッファ5(緩衝空間部材)と抵抗管7(排出流路部材)を備えている。
金属ブロック3の内部にサンプル側セル空間9aとリファレンス側セル空間9bが形成されている。金属ブロック3は例えばステンレススチール製である。サンプル側セル空間9aにフィラメント11a(感温素子)が収容されている。リファレンス側セル空間9bにフィラメント11b(感温素子)が収容されている。フィラメント11a,11bは例えばタングステン等の金属で形成されている。フィラメント11a,11bは外部から電流が供給されることにより加熱されている。
金属ブロック3のサンプル側セル空間9a及びリファレンス側セル空間9bには例えば金属製のチュ−ブ13a,13b,15a,15bが嵌め込まれている。チュ−ブ13aはサンプル側セル空間9aに測定ガスを導入する。チュ−ブ15a(接続管)はサンプル側セル空間9aから測定ガスを排出する。チュ−ブ13bはリファレンス側セル空間9bにキャリアガスを導入する。チュ−ブ15b(接続管)はリファレンス側セル空間9bから測定ガスを排出する。チュ−ブ13a,13b,15a,15bは、例えば金属ブロック3と溶接接合され一体とされている。
サンプル側セル空間9aにはカラム31(図3を参照。)を通過してきた測定ガスがチュ−ブ13aを介して導入される。リファレンス側セル空間9bには対照ガスとしてキャリアガスのみがチュ−ブ13bを介して導入される。
チュ−ブ15a,15bの金属ブロック3とは反対側の端部は例えばコネクタ(図示は省略)によってバッファ5に接続されている。
バッファ5の内部にバッファ空間17(緩衝空間)が形成されている。バッファ空間17はチュ−ブ15a,15bを介してサンプル側セル空間9aの流体排出口14a及びリファレンス側セル空間9bの流体排出口14bに接続されている。バッファ5は例えば内径が100mm(ミリメートル)、長さが440mmの金属製のボンベである。バッファ空間17の断面積は、チュ−ブ15a,15bの断面積及び抵抗管7の断面積よりも大きい。
抵抗管7の一端は、例えばコネクタ(図示は省略)によってバッファ5に接続されている。抵抗管7の内部の排出流路19はバッファ空間17の流体排出口18に接続されている。
測定ガス中に試料成分が含まれていないときには、キャリアガスの熱伝導によってサンプル側フィラメント11aから一定の割合で熱が奪われる。サンプル側フィラメント11aは、加熱により供給される熱量と放散される熱量とが等しくなる温度で平衡し、その温度に応じた電気抵抗を有する。測定ガス中に試料成分が含まれていると、その成分に応じて測定ガスの熱伝導度が変化し、サンプル側フィラメント11aから放散される熱量が変化するため、サンプル側フィラメント11aの温度すなわち電気抵抗が変化する。
この抵抗変化は、通常、図4に示されるようなホイートストンブリッジ回路41にて検出される。ブリッジ回路41は、サンプル側フィラメント11a、リファレンス側フィラメント11b、及び、同一の抵抗値を有する二本の固定抵抗43,45を含んで構成されている。ブリッジ回路41には定電流源47から一定電流が供給される。ブリッジ回路41の対角の位置には可変抵抗器49が設けられている。ブリッジ回路41は可変抵抗器49を調整することによって検出信号の零点調整ができるようになっている。
図5は、従来の熱伝導度検出器において大気圧変動が生じた際に起こるベースライン変動を説明するための図である。図5において、横軸は時間(単位はs(秒))、左の縦軸は大気圧(単位はkPa(キロパスカル))、右の縦軸はTCD出力(単位はμV(マイクロボルト))を示す。
従来の熱伝導度検出器にはバッファ5と抵抗管7(図1を参照。)が設けられていない。図5に示されたベースライン(TCD出力)の変動は大気圧変動のタイミングと一致している。したがって、この変動は大気圧変動由来であることが分かる。
図1に示されるように、チュ−ブ15a,15bの先端に容量Vのバッファ5と抵抗Rの抵抗管7を付けた場合、チュ−ブ15a,15bの出口圧力は(1)式で与えられる。
Figure 0006446985
ただし、PVent:チュ−ブ15a,15bの出口圧力[Pa]、Patm:大気圧[Pa]、ΔPatm:大気圧変動[Pa]、t:大気圧変動時間[sec]である。
τは時定数であり、(2)式で示される。
Figure 0006446985
ただし、R:抵抗管7の抵抗値[Pa・sec/m3]、V:バッファ5の容量[m3]、ΔPVent:チュ−ブ15a,15bの出口圧力変動[Pa]である。
バッファ5と抵抗管7を取り付けない場合の実験において、大気圧変動が例えば7[Pa]以下であれば大気圧変動由来のベースライン変動は起こらないことが分かっている。したがって、バッファ5と抵抗管7を取り付けた際のPVentが7[Pa]に達しなければベースライン変動は発生しない。
Ventが7[Pa]に達しないためには(3)式を満たせばよい。
Figure 0006446985
大気圧変動の値、ΔPatmと大気圧変動時間tを(3)式に代入し、(3)式を満たす容量Vと抵抗Rの値を求めてチュ−ブ15a,15bの先端に取り付ければよい。
チュ−ブ15a,15bに、容量V=2.25[L(リットル)]のバッファ5と、抵抗R=0.1[Pa・sec/m3]をもつ抵抗管7を取り付けたときの熱伝導度検出器1のベースラインを図6に示す。
図6は、熱伝導度検出器の一実施形態の出力と大気圧変動を示した図である。図6において、横軸は時間(単位はsec)、左の縦軸は大気圧(単位はkPa)、右の縦軸はTCD出力(単位はμV)を示す。
バッファ5と抵抗管7を備えた熱伝導度検出器1のTCD出力は、図5のTCD出力と比較して、大気圧変動が発生してもベースライン(TCD出力)の変動が発生していない。つまり、熱伝導度検出器1は大気圧変動由来のベースライン変動を除去できていることが分かる。
図7は、複数のバッファ容量について熱伝導度検出器の一実施形態の出力を調べた結果を示す図である。図7において、横軸は時間(単位はsec)、縦軸はTCD出力(単位はμV)を示す。図7には、参考として従来の熱伝導度検出器の出力(バッファなし)も示されている。
バッファ空間17の容量が図6(2.25リットル)のときと比較して小さい容量(180mL、270mL(ミリリットル))であっても、大気圧変動由来のベースライン変動を除去できることが分かった。
以上、本発明の実施形態を説明したが、実施形態における構成、配置、数値、材料等は一例であり、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
例えば、バッファ5はバッファタンクである必要はなく、所望の容量Vをもつものであればよい。
また、抵抗管7は抵抗管である必要なく所望の抵抗Rをもつものであればよい。
また、チュ−ブ15a,15bは合流された後にバッファ空間17に接続されてもよい。
また、バッファ5や抵抗管7をチュ−ブ15a,15bの先端に取り付ける必要はなく、バッファ5(バッファ空間17)や抵抗管7(排出流路19)を金属ブロック3に組み込んで一つの部品としてもよい。
また、セル空間9a,9bは金属ブロック3によって形成されたものである必要はなく、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)プロセスで作製されたものであってもよい。これにより小型熱伝導度検出器が実現できる。MEMSプロセスで作製されたセル空間9a,9bを形成するためのブロックに、バッファ空間17や排出流路19が組み込まれてもよい。
また、本発明の実施形態の熱伝導度検出器は、一組の感温素子及びセル空間に試料ガスと基準ガスが交互に切り替えて導かれる熱伝導度検出器(例えば特許文献2を参照。)にも適用可能である。
1 熱伝導度検出器
3 金属ブロック3(セル部材)
5 バッファ5(緩衝空間部材)
7 抵抗管7(排出流路部材)
9a サンプル側セル空間
9b リファレンス側セル空間
11a,11b フィラメント(感温素子)
14a サンプル側セル空間の流体排出口
14b リファレンス側セル空間の流体排出口
15a,15b チュ−ブ(接続管)
17 バッファ空間(緩衝空間)
18 バッファ空間(緩衝空間)の流体排出口
19 排出流路
21 ガスクロマトグラフ
29 試料気化室(試料導入部)
31 カラム

Claims (3)

  1. 加熱された感温素子の表面に流体を接触させ、流体の熱伝導度に応じて感温素子の温度変化を生じさせ、そのときの感温素子の電気抵抗の変化又は感温素子に印加する電流値の変化から流体の検出を行う熱伝導度検出器であって、
    流体が一端側から導入され他端側の流体排出口から排出されるように設けられ、前記一端側から前記他端側へ流れる前記流体の流れに直接的に接触する位置に前記感温素子が設けられているセル空間と、
    前記流体の流れ方向における前記セル空間の下流に設けられ、前記セル空間の前記流体排出口に接続された緩衝空間と、
    前記緩衝空間の流体排出口に接続された排出流路と、を備えている熱伝導度検出器。
  2. 前記セル空間を形成するためのセル部材と、
    前記緩衝空間を形成するための緩衝空間部材と、
    前記排出流路を形成するための排出流路部材と、
    前記セル部材と前記緩衝空間部材を接続するための接続管と、を備えている請求項1に記載の熱伝導度検出器。
  3. 試料導入部を介してカラムにキャリアガスを供給し、カラムで分離されて流出した流出ガス成分を検出器で検出するガスクロマトグラフであって、
    前記検出器として請求項1又は2に記載の熱伝導度検出器を備えているガスクロマトグラフ。
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