JP6428637B2 - 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 - Google Patents
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Description
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な1/4λあるいは1/2λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(例えば、特許文献1〜6)。
薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている(例えば、特許文献7〜24)。
しかしながら、これらの重合性アジン化合物を塗布して乾燥、配向処理したのち、紫外線を用いて光架橋して高分子膜を形成する際、その露光エネルギー量に応じて波長分散が変化してしまう場合があった。すなわち、前記重合性アジン化合物を用いても、紫外線硬化の露光エネルギー量を多くすると、逆波長分散性が低下して、通常分散性に近づいていくという問題があった。
(1)下記式(I)
G1、G2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の二価の鎖状脂肪族基を表す。
Z1、Z2、Z3はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基を表す。
Axは、下記式(II)で表される基を表す。
Dは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキレン基〔当該アルキレン基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR3−C(=O)−、−C(=O)−NR3−、−NR3−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、R3は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。〕、又は、置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルカンジイル基を表す。
A1は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
A2、A3はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
A4、A5はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の二価の芳香族基を表す。
Q1は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。m、nはそれぞれ独立して0又は1を表す。}で示される重合性化合物。
(3)前記A1が、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である(1)に記載の重合性化合物。
(4)前記Y1〜Y9が、それぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、又は、−O−C(=O)−O−である(1)に記載の重合性化合物。
(6)前記G1、G2が、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の二価の脂肪族基〔該脂肪族基には、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−又は−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である(1)に記載の重合性化合物。
(7)前記G1、G2が、それぞれ独立して、炭素数1〜12のアルキレン基である(1)に記載の重合性化合物。
(9)前記(1)〜(7)のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも1種、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
(11)液晶性高分子である(10)に記載の高分子。
(12)前記(11)に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
本発明の光学異方体は、本発明の重合性化合物、重合性組成物又は高分子を構成材料とするため、低コストで得られ、広い波長域において一様の偏光変換が可能であって、性能面で満足のいくものである。特に光学異方体の製造プロセスにおいて、紫外線硬化の際の露光エネルギー量を変えても波長分散が変化せず、製造プロセスの許容度が広い材料である。
本発明のフィルム状の光学異方体によれば、偏光板と組み合わせることで、反射防止フィルムを作製することができる。このものは、産業上、例えばタッチパネルや有機電界発光素子の反射防止フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の重合性化合物は、前記式(I)で表される化合物である。
式(I)中、Y1〜Y9はそれぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR1−C(=O)−、−C(=O)−NR1−、−O−C(=O)−NR1−、−NR1−C(=O)−O−、−NR1−C(=O)−NR1−、−O−NR1−、又は、−NR1−O−を表す。
R1の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−へキシル基等が挙げられる。
R1としては、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。
前記鎖状脂肪族基に介在する基としては、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−C(=O)−が好ましい。
該アルケニル基の炭素数としては、2〜6が好ましい。Z1及びZ2のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
式(II)で表される基において、任意のC−Hは、窒素原子に置き換えられていてもよい。式(II)で表される基において、任意のC−Hが窒素原子に置き換えられた基としては、下記式で表される基等が挙げられる。
前記炭素数1〜20のアルキレン基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR3−C(=O)−、−C(=O)−NR3−、−NR3−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。
ここで、R3は、前記R1と同様の、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
本発明においては、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよい。
なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Y1、Y2を便宜上記載している(Y1、Y2は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。)。
炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜30のシクロアルカンジイル基、炭素数10〜30の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。
前記炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基は、Y1、Y3(又はY2、Y4)と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン−1,4−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体(A32a)とトランス型の異性体(A32b)が存在し得る。
A4、A5の芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
A4、A5の好ましい具体例としては、下記のものが挙げられる。
当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、−C(=O)−OR7基等が挙げられる。ここでR7は、炭素数1〜6のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としてはフッ素原子が、炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、前記R1で例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Q1は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
m、nはそれぞれ独立して0又は1を表し、m、nがともに0であるのが好ましい。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
目的とする化合物によって、化合物(II)と化合物(5)の組み合わせ、すなわち、反応に関与する化合物(II)の基:−Lと、化合物(5)の基:−Y9aとの組み合わせを、適宜選択すればよい。
例えば、化合物(I)において−Y9−が、−O−C(=O)−である化合物(Ia)を製造する場合、化合物(II)においてLが水酸基の化合物(IIa)と、化合物(5)において−Y9aが、−C(=O)Xaである酸ハライド(5a)を用いればよい。Xaは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表す。
化合物(IIa)と化合物(5a)との反応は、トリエチルアミン等の塩基の存在下で行うのが好ましい。塩基の使用量は、化合物(IIa)1モルに対して、通常1〜3モルである。
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。具体的には、前記化合物(4)と化合物(3)の反応における溶媒として例示したのと同様のものが挙げられる。
すなわち、式(2)で表される化合物(化合物(2))とヒドラジン化合物(1)を、適当な溶媒中、(化合物(2):化合物(1))のモル比で、1:1〜1:20、好ましくは1:2〜1:10で反応させて、対応するヒドラジン化合物(3)を得ることができる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
反応は、−10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
(i)式:D1−hal(halはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。)で表される化合物と、式:D2−OMet(Metはアルカリ金属(主にナトリウム)を表す。以下にて同じ。)で表される化合物とを混合して縮合させる(ウイリアムソン合成)。なお、式中、D1及びD2は任意の有機基を表す(以下にて同じ。)
(ii)式:D1−halで表される化合物と、式:D2−OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iii)式:D1−J(Jはエポキシ基を表す。)で表される化合物と、式:D2−OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iv)式:D1−OFN(OFNは不飽和結合を有する基を表す。)で表される化合物と、式:D2−OMetで表される化合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
(v)式:D1−halで表される化合物と、式:D2−OMetで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅存在下、混合して縮合させる(ウルマン縮合)。
(vi)式:D1−COOHで表される化合物と、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、脱水縮合剤(N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド等)の存在下に脱水縮合させる。
(vii)式:D1−COOHで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式:D1−CO−halで表される化合物を得、このものと式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
(viii)式:D1−COOHで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物を反応させる。
(ix)式:D1−COOHで表される化合物と、式:D2−OH又はD2−NH2で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。
上記反応においては、式(6)で表されるジヒドロキシ化合物(化合物(6))と式(7)で表される化合物(化合物(7))とを、(化合物(6):化合物(7))のモル比で、1:2〜1:4、好ましくは1:2〜1:3の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする化合物(4’)を得ることができる。
脱水縮合剤の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1〜3モルである。
塩基の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1〜3モルである。
この場合、前記式(7)中、L1がスルホニルオキシ基の化合物(混合酸無水物)を単離して次の反応を行ってもよい。
用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1〜3モルである。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドロキシ化合物(6)1gに対し、通常1〜50gである。
例えば、下記反応式に示す方法により製造することができる(WO2009/042544号、及び、The Journal of Organic Chemistry,2011,76,8082−8087等参照。)。化合物(6)として市販されているものを、所望により精製して用いることもできる。
すなわち、式(6a)で表されるジヒドロキシ化合物(1,4−ジヒドロキシベンゼン、1,4−ジヒドロキシナフタレン等)の水酸基をアルキル化して、式(6b)で表される化合物を得た後、OR’基のオルト位を、公知の方法により、ホルミル化又はアシル化することにより、式(6c)で表される化合物を得、このものを脱保護(脱アルキル化)することにより、目的とする化合物(6)を得ることができる。
また、化合物(6)として、市販されているものをそのまま、又は所望により精製して用いることもできる。
先ず、化合物(9’)に、式(10)で表されるスルホニルクロライドを、トリエチルアミン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基存在下で反応させる。
次いで、反応混合物に、化合物(8)と、トリエチルアミン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基を加えて反応を行う。
スルホニルクロライドの使用量は、化合物(9’)1当量に対して、通常0.5〜0.7当量である。
化合物(8)の使用量は、化合物(9’)1当量に対して、通常0.5〜0.6当量である。
塩基の使用量は、化合物(3)1当量に対して、通常0.5〜0.7当量である。
反応温度は、20〜30℃であり、反応時間は反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物(9’)1gに対し、通常1〜50gである。
本発明の第2は、本発明の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物である。重合開始剤は本発明の重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物100重量部に対し、通常、0.1〜30重量部、好ましくは0.5〜10重量部である。
本発明の第3は、(1)本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、(2)本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子である。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子としては、本発明の重合性化合物の単独重合体、本発明の重合性化合物の2種以上からなる共重合体、又は、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
このような多官能単量体としては、1,2−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアクリレート類;1,2−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタリレート等のアルカンジオールジメタクリレート類;エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート類;プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等のポリプロピレングリコールジアクリレート類;エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等のポリエチレングリコールジメタクリレート類;プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等のポリプロピレングリコールジメタクリレート類;エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル類;エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、テトラエチレングリコールジアリルエーテル等のポリエチレングリコールジアリルエーテル類;ビスフェノールFエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールFエトキシレートジメタクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジメタクリレート;トリメチロールプロパントリアクリレート;トリメチロールプロパントリメタクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート;イソシアヌル酸エトキシレートトリアクリレート;グリセロールエトキシレートトリアクリレート;グリセロールプロポキシレートトリアクリレート;ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート;ジトリメチロールプロパンエトキリレートテトラアクリレート;ジペンタエリスリトールエトキシレートヘキサアクリレート等が挙げられる。
用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
本発明の重合性組成物を重合することにより、本発明の高分子を容易に得ることができる。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。
本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる高分子膜を形成することによって、得ることができる。
配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液(配向膜用組成物)を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは0.001〜5μmであることが好ましく、0.001〜1μmであることがさらに好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
温度計を備えた3口反応器において、窒素気流中、ステップ4で合成した中間体D 2.00g(1.78mmol)をTHF20mlに溶解し、0℃に冷却した。そこへ、アクリロイルクロリド 240mg(2.66mmol)、及びTEA358mg(3.54mmol))を加え、25℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水50mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=95:5)により精製し、白色固体として化合物1を1.16g得た(収率:55.2%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
温度計を備えた3口反応器において、窒素気流中、ステップ2で合成した中間体F 1.20g(1.37mmol)をTHF15mlに溶解し、0℃に冷却した。そこへ、アクリロイルクロリド 247mg(2.73mmol)、及び、TEA 416mg(4.11mmol))を加え、全容を25℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液を水50mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=97:3)により精製し、白色固体として化合物2を1.02g得た(収率:79.9%)。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1のステップ3で合成した中間体C 1.00g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.22ml(0.22mmol)と、ステップ1で合成した中間体α 0.38g(1.60mmol)を加え、40℃で2時間反応させた。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物1rを1.14g、収率95%で得た。
目的物の構造は1H−NMRで同定した。
化合物1、2、1r、2rを、それぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板(商品名:配向処理ガラス基板;E.H.C.Co.,Ltd.製)2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から250℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE LV100POL型)で観察した。
実施例1で得た化合物1を1.0g、光重合開始剤(BASF社製、イルガキュア379EG)を30mg、及び、界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、KH−40)の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1を得た。
実施例3において、化合物1を用いる代わりに、実施例2で得られた化合物2を用いた他は、実施例3と同様にして、重合性組成物2を得た。
実施例3において、化合物1を用いる代わりに、比較例1で得られた化合物1rを用いた他は、実施例3と同様にして、重合性組成物1rを得た。
実施例3において、化合物1を用いる代わりに、化合物2rを用いた他は、実施例3と同様にして、重合性組成物2rを得た。
(i)重合性組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板(商品名:配向処理ガラス基板;E.H.C.Co.,Ltd.製)に、重合性組成物1〜4のそれぞれを♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表2に示す温度で1分間乾燥した後、表2に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から空気中にて2000mJ/cm2、及び、2500mJ/cm2の紫外線を照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
得られた試料につき、400nmから800nm間の位相差を、エリプソメーター(J.A.Woollam社製、M2000U型)を用いて測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
比較例2の化合物1rからなる光学異方体は、2000mJ/cm2の紫外線を照射して重合させたものは、逆波長分散性を有しているが、2500mJ/cm2の紫外線を照射して重合させたものは、フラットな波長分散性を有している。すなわち、露光量によって波長分散性が変化している。
比較例3の化合物2rから得られた光学異方体は、露光量によって波長分散性は変化しないが、通常分散性である。
Claims (14)
- 下記式(I)
G1、G2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の二価の鎖状脂肪族基を表す。
Z1、Z2、Z3はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基を表す。
Axは、下記式(II)で表される基を表す。
Dは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキレン基〔当該アルキレン基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR3−C(=O)−、−C(=O)−NR3−、−NR3−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、R3は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。〕、又は、置換基を有していてもよい炭素数3〜20のシクロアルカンジイル基を表す。
A1は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
A2、A3はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3〜30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
A4、A5はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数4〜30の二価の芳香族基を表す。
Q1は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。m、nはそれぞれ独立して0又は1を表す。}で示される重合性化合物。 - 前記Dが、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキレン基〔当該アルキレン基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。〕である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記A1が、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記Y1〜Y 8 が、それぞれ独立して、化学的な単結合、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、又は、−O−C(=O)−O−である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記Z1、Z2、Z3が、それぞれ独立して、CH2=CH−、CH2=C(CH3)−、又は、CH2=C(Cl)−である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記G1、G2が、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の二価の脂肪族基〔該脂肪族基には、−O−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−又は−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記G1、G2がそれぞれ独立して、炭素数1〜12のアルキレン基である請求項1に記載の重合性化合物。
- 前記Dが炭素数1〜20のアルキレン基〔当該アルキレン基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR 3 −C(=O)−、−C(=O)−NR 3 −、−NR 3 −、又は、−C(=O)−が介在していてもよい。ただし、−O−又は−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、R 3 は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。〕であり、
前記Z 3 が、CH 2 =CH−、又は、CH 2 =C(CH 3 )−であり、
前記Xが、硫黄原子である請求項1および3〜7の何れかに記載の重合性化合物。 - 前記Dが炭素数1〜20のアルキレン基である請求項8に記載の重合性化合物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも1種含有する重合性組成物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも1種、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の重合性化合物、又は、請求項10若しくは請求項11に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
- 液晶性高分子である請求項12に記載の高分子。
- 請求項13に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
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