JP6415360B2 - 炭化珪素単結晶基板の製造方法 - Google Patents
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Description
(1) 炭化珪素単結晶インゴットからスライス加工により切り出し、表面研磨加工を行って得られた研磨加工後の炭化珪素単結晶基板について、その表面に存在する加工変質部を除去して炭化珪素単結晶基板を製造する方法において、前記研磨加工後の炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部をマイクロ波でプラズマ化させたHIガスによるHIプラズマ処理により除去することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法。
(2) 炭化珪素単結晶インゴットからスライス加工により切り出し、表面研磨加工を行って得られた研磨加工後の炭化珪素単結晶基板について、その表面に存在する加工変質部を除去して炭化珪素単結晶基板を製造する方法において、前記研磨加工後の炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部を不活性ガスを用いたスパッタエッチングで除去した後、このスパッタエッチング処理後の炭化珪素単結晶基板表面のイオン損傷部をマイクロ波でプラズマ化させたHIガスによるHIプラズマ処理により除去することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法。
(3) 前記HIプラズマ処理の後に、マイクロ波でプラズマ化させたO2ガスによる表面清浄化処理を行うことを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の炭化珪素単結晶基板の製造方法。
〔実施例1〕
SiC単結晶インゴットからウエハ状にスライスし、粒径の大きいダイヤモンド研磨剤から順次粒径を小さくして研磨していき、最終的に平均粒径1μmのダイヤモンド研磨剤で研磨した後のSiC単結晶基板を調製した。
得られたSiC単結晶基板を、プラズマ源としてHIガスを備えた反応性イオンエッチング装置の反応チャンバー内にセットし、この反応チャンバー内にHIガスを導入すると共に2.45GHzのマイクロ波を照射し、プラズマ化させたHIガスによるマイクロ波プラズマエッチングであるHIプラズマ処理を実施した。エッチング条件は、ガス流量が30cm3/分で、エッチング時の真空度が13Paで、また、2.45GHzのマイクロ波の入力パワーが1.0W/cm2であった。この場合は、表面に残渣は殆ど見られず、Ra値はRa=0.1nmと良好であり、この実施例1のHIプラズマ処理により清浄性及び平坦性に優れた表面を有するSiC単結晶基板が得られた。
実施例1で用いたのと同様の表面状態を有するSiC単結晶基板に、不活性ガスとしてArガスを用いたスパッタエッチング処理を行い、SiC単結晶基板表面の加工変質部の除去を行った。この際の具体的なエッチング条件は、Arガスのガス流量が20cm3/分で、エッチング時の真空度が15Paで、スパッタの入力パワーが0.25W/cm2であった。
その後、実施例1の場合と同じ条件でHIプラズマ処理によるマイクロ波プラズマエッチングを行った。
上記のスパッタエッチング処理及びHIプラズマ処理によりSiC単結晶基板の表面の荒れあるいは残渣が除去されており、Ra値もRa=0.09nmと極めて良好であった。
実施例1によって得られたSiC単結晶基板の表面に、更に、2.45GHzのマイクロ波でプラズマ化させたO2ガスを用いたO2プラズマ処理による表面清浄化処理を実施した。処理条件としては、O2のガス流量が40cm3/分で、処理時の真空度が50Paで、2.45GHzのマイクロ波の入力パワーが1.0W/cm2であり、Ra値も実施例1の場合に比べてRa=0.08nmと更に改善された。
比較例1として、2.45GHzのマイクロ波でプラズマ化させたフッ素系反応性ガス(CF4とO2の混合ガス)を用いてマイクロ波プラズマエッチングを行った。この際のエッチング条件は、CF4ガスのガス流量が20cm3/分で、O2ガスのガス流量が40cm3/分で、エッチング時の真空度が50Paで、2.45GHzのマイクロ波の入力パワーが0.25W/cm2であった。この比較例1で得られたSiC単結晶基板の表面の表面粗さRa値はRa=1.48nmであり、実施例1で得られたSiC単結晶基板の表面状態に比べ、明らかに劣るものであった。
Claims (3)
- 炭化珪素単結晶インゴットからスライス加工により切り出し、表面研磨加工を行って得られた研磨加工後の炭化珪素単結晶基板について、その表面に存在する加工変質部を除去して炭化珪素単結晶基板を製造する方法において、
前記研磨加工後の炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部をマイクロ波でプラズマ化させたHIガスによるHIプラズマ処理により除去することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法。 - 炭化珪素単結晶インゴットからスライス加工により切り出し、表面研磨加工を行って得られた研磨加工後の炭化珪素単結晶基板について、その表面に存在する加工変質部を除去して炭化珪素単結晶基板を製造する方法において、
前記研磨加工後の炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部を不活性ガスを用いたスパッタエッチングで除去した後、このスパッタエッチング処理後の炭化珪素単結晶基板表面のイオン損傷部をマイクロ波でプラズマ化させたHIガスによるHIプラズマ処理により除去することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法。 - 前記HIプラズマ処理の後に、マイクロ波でプラズマ化させたO2ガスによる表面清浄化処理を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の炭化珪素単結晶基板の製造方法。
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