JP6402087B2 - 液処理装置 - Google Patents
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Description
16 処理ユニット
23 ウェハ保持回転部
23A 把持部
23P 回転プレート
50 支持部材
51 接触部
52 外周部
53 内周部
54 平坦部
55 連接部
60 ガイドピン
61 傾斜面
Claims (8)
- 回転可能な回転プレートと、
前記回転プレートに設けられ、基板の下面周縁部を支持する支持部材と、
前記支持部材によって支持された基板の上面に処理液を供給する供給部と
を備え、
前記支持部材は、
前記基板の周方向に沿って延在し、前記基板の下面周縁部に接触する接触部と、
前記接触部よりも前記基板の径方向外側に前記接触部から連続して位置し、前記接触部よりも低く形成された外周部と
を備えることを特徴とする液処理装置。 - 前記外周部は、
前記接触部よりも低い位置に形成された平坦部と、
前記接触部と前記平坦部とを連接し、傾斜面を有する連接部と
を備えることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記支持部材は、
前記接触部よりも高い位置から前記基板の中心に向かって下り傾斜する傾斜面を有するガイドピンを備えること
を特徴とする請求項2に記載の液処理装置。 - 前記支持部材は、
前記連接部と前記ガイドピンとの間に隙間を有すること
を特徴とする請求項3に記載の液処理装置。 - 前記外周部の上面は、親水性を有し、
前記接触部の上面は、疎水性を有すること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記平坦部の上面は、親水性を有し、
前記接触部および前記連接部の上面は、疎水性を有すること
を特徴とする請求項2〜4のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記支持部材は、
前記接触部よりも前記基板の径方向内側に位置し、前記接触部よりも低く形成された内周部
を備え、
前記内周部は、
前記基板の中心に向かって下り傾斜する傾斜面を有すること
を特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記支持部材は、
内部に加熱部を備えること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の液処理装置。
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JP2015224139A JP6402087B2 (ja) | 2015-11-16 | 2015-11-16 | 液処理装置 |
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