JP6387329B2 - 基板処理装置およびノズル洗浄方法 - Google Patents
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Description
2 搬入出ステーション
3 処理ステーション
4 制御装置
16 処理ユニット
24 ノズルヘッド
25 移動機構
30 ノズル洗浄部
31 洗浄槽
31a 第1領域
31b 第2領域
241 ノズル
245 囲い部材
321 第1供給路
322 第2供給路
331 オーバーフロードレイン路
341 第1ドレイン路
342 第2ドレイン路
351、351A 不活性ガス供給路
W ウェハ
Claims (7)
- 基板へ向けて処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルの先端部を囲うように該ノズルに取り付けられる囲い部材と、
前記ノズルおよび前記囲い部材を移動させる移動機構と、
前記移動機構によって移動された前記ノズルおよび前記囲い部材を洗浄液で洗浄する洗浄部と
を備え、
前記洗浄部は、洗浄槽を備え、
前記洗浄槽は、
前記ノズルを前記洗浄液に浸漬させる第1領域と、
前記囲い部材を前記洗浄液に浸漬させる第2領域と
を有すること
を特徴とする基板処理装置。 - 前記第1領域に連通して設けられ、前記洗浄液を排出する第1ドレイン路と、
前記第2領域に連通して設けられ、前記洗浄液を排出する第2ドレイン路と
を備えること
を特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第2ドレイン路の前記洗浄液の排出速度は、
前記第1ドレイン路の前記洗浄液の排出速度よりも遅いこと
を特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記移動機構は、
前記第2領域において前記洗浄液に浸漬する前記囲い部材を、実質的に前記囲い部材の表面に液残りが生じない移動速度で徐々に前記第2領域から離脱させること
を特徴とする請求項2または3に記載の基板処理装置。 - 前記洗浄槽へ前記洗浄液を供給する供給路を備え、
前記供給路の吐出口は、
該吐出口から吐出された前記洗浄液の液流で前記洗浄槽に渦が形成される向きに配置されていること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記囲い部材は、中空錐体状に形成されていること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 基板へ向けて処理液を吐出するノズルと、前記ノズルの先端部を囲うように該ノズルに取り付けられる囲い部材と、前記ノズルおよび前記囲い部材を移動させる移動機構と、洗浄槽とを備え、前記洗浄槽は、前記ノズルを洗浄液に浸漬させる第1領域と、前記囲い部材を前記洗浄液に浸漬させる第2領域とを有する基板処理装置を用い、前記移動機構によって移動された前記ノズルおよび前記囲い部材を前記洗浄液で洗浄する洗浄工程
を含むことを特徴とするノズル洗浄方法。
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