JP6401431B1 - 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法 Download PDF

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Abstract

支持体上に、式Ｉで表される赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法。

Description

本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法に関する。
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な製版方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
従来の機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば、特開平１１−２６５０６２号公報、又は、国際公開第２０１４／０７８１４０号に記載のものが知られている。
特開平１１−２６５０６２号公報には、親水性表面を有する平版印刷ベース上に、スチレンのホモポリマーもしくはコポリマーの熱可塑性粒子及びカルボキシル基を含有する親水性ポリマーを含む画像記録層を含んでなる感熱性画像形成要素であって、上記画像形成要素がさらに上記画像記録層又はそれに隣接する層に存在するアニオン性ＩＲ−シアニン色素を含有することを特徴とする感熱性画像形成要素が記載されている。
国際公開第２０１４／０７８１４０号には、特定の赤外線吸収剤を含むネガ型平版印刷版原版が記載されている。
平版印刷版においては、版の印刷可能な枚数（以下、「耐刷性」ともいう。）に優れた平版印刷版が求められている。
本発明者等は、鋭意検討した結果、特開平１１−２６５０６２号公報、及び、国際公開第２０１４／０７８１４０号に記載の平版印刷版原版では、得られる平版印刷版の耐刷性が不十分であるという問題点が存在することを見出した。
本発明の実施形態が解決しようとする課題は、得られる平版印刷版の耐刷性に優れた平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 支持体上に、式Ｉで表される赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。
式Ｉ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭化水素基を示し、それぞれが連結し５員環又は６員環を形成してもよく、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
＜２＞ 式Ｉで表される赤外線吸収剤が、式ＩＩで表される赤外線吸収剤である、＜１＞に記載の平版印刷版原版。
式ＩＩ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
＜３＞ 上記画像記録層が、重合性化合物及び重合開始剤を更に含有する、＜１＞又は＜２＞に記載の平版印刷版原版。
＜４＞ 上記重合開始剤が、ヨードニウム系重合開始剤である、＜３＞に記載の平版印刷版原版。
＜５＞ 上記画像記録層が、熱可塑性ポリマー粒子を更に含有する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜６＞ 上記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーが、スチレンに由来するモノマー単位及びアクリル化合物に由来するモノマー単位のいずれか又は両方のモノマー単位を含有する、＜５＞に記載の平版印刷版原版。
＜７＞ 上記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーが、スチレン−アクリロニトリル樹脂である、＜５＞又は＜６＞に記載の平版印刷版原版。
＜８＞ 上記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーの重量平均分子量が、５，０００〜１，０００，０００である、＜５＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜９＞ 上記熱可塑性ポリマー粒子の体積平均粒径が、０．０１μｍ〜５０μｍである、＜５＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１０＞ 上記画像記録層の全質量に対する、上記熱可塑性ポリマー粒子の含有量が、２０質量％〜９５質量％である、＜５＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１１＞ 上記画像記録層が、ロイコ化合物を更に含有する、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１２＞ 上記画像記録層が、湿し水及び印刷インキのいずれか又は両方により除去可能である、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１３＞ 上記画像記録層が、ガム現像可能である、＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１４＞ ＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、及び、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程を含む平版印刷版の製版方法。
＜１５＞ ＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程、及び、上記機上現像工程において機上現像された平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程をこの順で含む平版印刷方法。
本発明の実施形態によれば、得られる平版印刷版の耐刷性に優れた平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法を提供することができる。
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本明細書において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
なお、本明細書において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、特に断りのない限り、ポリマー成分における分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトフラフィ（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）又は数平均分子量（Ｍｎ）である。
（平版印刷版原版）
本開示に係る平版印刷版原版（以下、単に「平版印刷版原版」ともいう。）は、支持体上に、式Ｉで表される赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有する。
上述の通り、従来の平版印刷版原版においては、耐刷性の向上が課題となっていることを本発明者は見出した。
そこで、本発明者は鋭意検討した結果、式Ｉで表される赤外線吸収剤を含むことにより、得られる平版印刷版の耐刷性に優れた平版印刷版原版が得られることを見出した。
上記効果が生じる理由は明確ではないが、次のように考えている。
本開示に係る平版印刷版原版を赤外線（ＩＲ）により露光した場合、画像記録層に含まれる式Ｉで表される赤外線吸収剤は分解すると考えられる。式Ｉで表される赤外線吸収剤は、上記分解の際に、熱の発生、及び、必要に応じて画像記録層に含まれる重合開始剤への電子移動のいずれか又は両方を、効率よく行うと考えられる。
そのため、画像記録層が例えば重合性化合物及び重合開始剤を含む場合には、重合性化合物の重合が効率よく進行し、耐刷性に優れた、強固な画像部が形成されると考えられる。
更に、式Ｉで表される赤外線吸収剤は、分解後にメルカプトベンゾチアゾール構造を有する化合物を生成すると考えられる。このメルカプトベンゾチアゾール構造を有する化合物は優れた連鎖移動能を有しているため、画像記録層が重合性化合物及び重合開始剤を含む場合には、重合性化合物の重合が更に効率よく進行し、更に耐刷性に優れた、強固な画像部が形成されると考えられる。
また、画像記録層が、例えば熱可塑性ポリマー粒子を含む場合には、式Ｉで表される赤外線吸収剤は光熱変換効率に優れており、露光量に対する熱の発生量が大きくなるため、熱可塑性ポリマー粒子がしっかりと溶融し、耐刷性に優れた、強固な画像部が形成されると考えられる。
また、本開示に用いられる式Ｉで表される色素は、上述の露光による分解により吸収波長が大きく変化するため、露光箇所（画像部）の発色性にも優れる。
加えて、画像記録層が例えばロイコ色素等の発色剤を含む場合には、上述の熱の発生量が大きくなることに起因して、より発色性に優れた平版印刷版原版が得られると考えられる。
以下、本開示に係る平版印刷版原版に含まれる各成分の詳細について記載する。
＜画像記録層＞
本開示における画像記録層は、式Ｉで表される赤外線吸収剤（「特定赤外線吸収剤」ともいう。）を含む。
本開示における画像記録層は、下記第一の態様〜第五の態様のいずれかの態様であることが好ましい。
第一の態様：特定赤外線吸収剤、重合性化合物及び重合開始剤を含有する。
第二の態様：特定赤外線吸収剤及び熱可塑性ポリマー粒子を含有する。
第三の態様：第一の態様において、ポリマー粒子又はミクロゲルを更に含有する。
第四の態様：第一の態様において、熱可塑性ポリマー粒子を更に含有する。
第五の態様：第四の態様において、ミクロゲルを更に含有する。
上記第一の態様又は第二の態様によれば、得られる平版印刷版の耐刷性に優れた平版印刷版原版が得られる。
上記第三の態様によれば、機上現像性に優れた平版印刷版原版が得られる。
上記第四の態様によれば、更に耐刷性に優れた平版印刷版原版が得られる。
上記第五の態様によれば、更に耐刷性に優れた平版印刷版原版が得られる。
〔特定赤外線吸収剤〕
本開示における画像記録層は、特定赤外線吸収剤を含む。
式Ｉ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭化水素基を示し、それぞれが連結し５員環又は６員環を形成してもよく、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
式Ｉ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、炭素数１２以下のジアルキルメチレン基が好ましく、２つのアルキル基の炭素数がそれぞれ独立に１〜４のジアルキルメチレン基がより好ましく、ジメチルメチレン基が更に好ましい。
Ｘ１及びＸ２は、異なる構造であってもよいが、同一の構造であることが好ましい。
式Ｉ中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基であることが好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数７〜２４のアリールオキシアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルキルスルホン酸基がより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基又は炭素数１〜１０のアルキルスルホン酸基が更に好ましく、組成物における溶解性の観点から、エチル基、プロピル基又はメトキシプロピル基が特に好ましく、メトキシプロピル基が最も好ましい。
上記炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数２〜４のアルキル基がより好ましく、エチル基又はプロピル基がより好ましい。
上記炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基としては、炭素数２〜６のアルコキシアルキル基が好ましく、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、又は、プロポキシプロピル基がより好ましく、メトキシプロピル基が更に好ましい。
上記炭素数７〜２４のアルコキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基、ナフトキシメチル基、ナフトキシエチル基、又は、ナフトキシプロピル基が好ましい。
炭素数１〜１０のアルキルスルホン酸基としては、炭素数１〜８のアルキルスルホン酸基が好ましく、炭素数１〜６のアルキルスルホン酸基がより好ましい。上記アルキルスルホン酸基に含まれるスルホン酸は、公知のカチオンと塩を形成していてもよい。カチオンとしては、例えば、後述のＡに含まれるカチオンが挙げられる。
Ｙ１及びＹ２は、異なる構造であってもよいが、同一の構造であることが好ましい。
式Ｉ中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、電子供与性基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環がより好ましく、電子供与性基により置換された、ベンゼン環又はナフタレン環が更に好ましい。
上記ヘテロ芳香環に含まれるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が挙げられる。
Ｚ１及びＺ２が上記構造であることにより、耐刷性により優れると考えられる。
本開示において、電子供与性基とは、分子の特定の位置と結合することにより、上記特定の位置における電子密度を増加させる効果を有する置換基をいう。
上記電子供与性基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アミノ基が好ましく、メトキシ基、又はアミノ基がより好ましく、メトキシ基が更に好ましい。
これらの電子供与性基は、上述の電子密度を増加させる効果を失わない限りにおいて、更に置換基を有していてもよい。
上記アルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
上記アルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が更に好ましい。
上記アミノ基としては、無置換アミノ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基が好ましく、ジアルキルアミノ基がより好ましく、ジメチルアミノ基が更に好ましい。
上述の炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
Ｚ１及びＺ２において、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環は、上記電子供与性基又は上記炭素数６〜２０のアリール基を複数有していてもよいが、１つのみ有していることが好ましい。
Ｚ１及びＺ２は、異なる構造であってもよいが、同一の構造であることが好ましい。
式Ｉ中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
式Ｉ中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
式Ｉ中、耐刷性及び発色性の観点から、Ｒ５及びＲ６はそれぞれが連結し５員環又は６員環を形成することが好ましい。
式Ｉ中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜６のアルコキシアルキル基、又はハロゲン原子（ハロゲノ基）が好ましく、水素原子であることがより好ましい。
上記ハロゲン原子としては、フッ素（Ｆ）原子、塩素（Ｃｌ）原子、臭素（Ｂｒ）原子又はヨウ素（Ｉ）原子が好ましく、Ｆ原子又はＣｌ原子がより好ましい。
Ａは、電荷の中和に必要な対イオンを表し、アニオンであってもよいし、カチオンであってもよい。
式Ｉで示される赤外線吸収剤のうち、対イオンを除く構造が電気的に中性の構造であり、電荷の中和が必要ない場合にはＡは必要ない。
Ａがアニオンである場合、得られる平版印刷版の耐刷性及び平版印刷版原版の発色性の観点から、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、テトラアリールボレートイオンが好ましく、テトラフェニルボレートイオンがより好ましい。
Ａがカチオンである場合、得られる平版印刷版の耐刷性及び平版印刷版原版の発色性の観点から、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、又は、スルホニウムイオンが挙げられ、スルホニウムイオンが好ましい。
−式ＩＩで表される赤外線吸収剤−
式Ｉで表される赤外線吸収剤は、耐刷性及び発色性の観点から、式ＩＩで表される赤外線吸収剤であることが好ましい。
式ＩＩ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
式ＩＩ中、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｚ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＡは、式Ｉ中のＸ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｚ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＡと同義であり、好ましい態様も同様である。
特定赤外線吸収剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、特定赤外線吸収剤の含有量は、上記画像記録層の全質量に対し、０．０５質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜２０質量％であることがより好ましく、０．２質量％〜１０質量％であることが更に好ましい。
以下、特定赤外線吸収剤の具体例を記載するが、これに限定されるものではない。
表１中、Ｚ３の欄に記載の数値は、下記化合物中のＺ３に該当する炭化水素環の環員数を表し、Ｒａ１及びＲａ２、Ｙ１及びＹ２並びにＡの記載はそれぞれ、下記化合物中のＲａ１及びＲａ２、Ｙ１及びＹ２並びにＡに該当する構造を示している。なお、Ｒａ１及びＲａ２の欄に「無し」と記載されている化合物は、ベンゼン環に置換基を有していないことを示している。
また、表１中、Ｐｈはフェニル基を、ＯＴｆはトリフラートイオンを、ＯＴｓはｐ−トルエンスルホネートイオンをそれぞれ表す。
〔重合性化合物〕
重合性化合物としては、重合性基を有する化合物であればよいが、ラジカル重合性基を有する化合物が好ましい。
ラジカル重合性基を有する化合物としては、エチレン性不飽和化合物が好ましく挙げられる。
エチレン性不飽和化合物としては、単官能及び多官能のいずれでもよいが、多官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、耐刷性の観点から、３官能以上の多官能エチレン性不飽和化合物がより好ましく、１０官能以上の多官能エチレン性不飽和化合物が更に好ましい。
また、重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、ポリマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
多官能エチレン性不飽和化合物としては、アルコールの不飽和型エステルが好ましく、ポリオールのアクリル酸エステル化合物及びメタクリル酸エステル化合物がより好ましい。
オリゴマー又はプレポリマーとしては、例えば、ウレタンアクリレート及びメタクリレート、エポキシドアクリレート及びメタクリレート、ポリエステルアクリレート及びメタクリレート、ポリエーテルアクリレート及びメタクリレート、並びに、不飽和型ポリエステル樹脂を使用することもできる。
これらの中でも、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物が好ましく、多官能アクリレート化合物及び多官能メタクリレート化合物がより好ましい。
また、重合性化合物としては、耐刷性の観点から、ウレタン結合を有することが好ましい。
ウレタン結合を有する重合性化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましく挙げられる。
また、重合性化合物としては、例えば「Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｖｅ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ：Ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｒｅｓｉｓｔｓ（光反応性ポリマー：レジストの科学及び技術）」Ａ．Ｒｅｉｓｅｒ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９，第１０２−１７７頁；「Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｓ：Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒａｂｌｅ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ（感光性ポリマー：輻射線硬化性画像形成系）」Ｂ．Ｍ．Ｍｏｎｒｏｅ；「Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｉｎｇ：Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（輻射硬化：科学及び技術）」Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ編、Ｐｌｅｎｕｍ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９２，第３９９−４４０頁；「Ｐｏｌｙｍｅｒ ｉｍａｇｉｎｇ（ポリマー画像形成）」Ａ．Ｂ．Ｃｏｈｅｎ及びＰ．Ｗａｌｋｅｒ；「画像形成プロセス及び材料（Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌ）」Ｊ．Ｍ．Ｓｔｕｒｇｅ他編、Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅｉｎｈｏｌｄ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９，第２２６−２６２頁に記載されているものが挙げられる。
重合性化合物の分子量（分布を有する場合は、重量平均分子量）は、１００〜５，０００であることが好ましく、２００〜２，０００であることがより好ましく、２００〜１，０００であることが更に好ましい。
本開示において、低分子化合物の分子量は、質量分析法（ＭＳ）により測定される。
上記画像記録層中の重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対し、１０質量％〜７０質量％であることが好ましく、２０質量％〜６０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜５０質量％であることが特に好ましい。
〔重合開始剤〕
本開示に係る平版印刷版原版の画像記録層は、重合開始剤を含むことが好ましい。
本開示において、重合開始剤は、特に制限されないが、特開２０１３−２０５５６９号公報に記載のラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。中でもオキシムエステル化合物及びオニウム塩が好ましく、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩等のオニウム塩がより好ましく、ヨードニウム塩が更に好ましい。
重合開始剤は、１種単独でも、２種以上を適宜併用することもできる。
ヨードニウム塩及びスルホニウム塩の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
上記ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、非対称のジフェニルヨードニウム塩が更に好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−メトキシフェニル−４−（２−メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−（２−メチルプロピル）フェニル−ｐ−トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−ヘキシルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−ヘキシルオキシフェニル−２，４−ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４−オクチルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝１−ペルフルオロブタンスルホナート、４−オクチルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム＝テトラフェニルボラートが挙げられる。
上記スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４−クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４−クロロフェニル）−４−メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４−クロロフェニル）スルホニウム＝３，５−ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４−クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
また、重合開始剤としては、過酸化物、例えば過酸化ベンゾイル；ヒドロペルオキシド、例えばクミルヒドロペルオキシド；アゾ化合物、例えばアゾビス−イソブチロニトリル；Ｄｕｅｂｅｒ他、米国特許第４，５６５，７６９号明細書に開示されているような２，４，５−トリアリールイミダゾリル二量体（ヘキサアリールビスイミダゾール）；トリハロメチルトリアジン；ホウ酸塩；及びこれらの混合物等も用いることができる。
上記画像記録層中の重合開始剤の含有量は、上記画像記録層全質量に対し、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１５質量％であることがより好ましく、１．０質量％〜１０質量％であることが更に好ましい。
以下に、好ましい重合開始剤の例を示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
〔増感剤〕
また、画像記録層は、増感剤を更に含有していてもよい。
このような増感剤及び重合開始剤の併用の例としては、例えば、米国特許第４，９９７，７４５号明細書（Ｋａｗａｍｕｒａ他）に記載されているような、単独での、又は別個の光増感剤と一緒の状態でのトリハロメチルトリアジン；例えば米国特許第５，５９９，６５０号明細書（Ｂｉ他）に記載されているような、トリハロメチルトリアジンと一緒の状態での可視光活性化用分光増感剤；米国特許第５，９４２，３７２号明細書（Ｗｅｓｔ他）に記載されているような、ポリカルボン酸共開始剤、例えばアニリノ−Ｎ，Ｎ−二酢酸、及び二次共開始剤、例えばジアリールヨードニウム塩、チタノセン、ハロアルキルトリアジン、ヘキサアリールビスイミジゾール、ホウ酸塩、及び、アルコキシ基又はアシルオキシ基によって置換された複素環式窒素原子を含有する光酸化剤と一緒の状態の、紫外線及び可視光の活性化のための３−ケトクマリン；例えば米国特許第５，３６８，９９０号明細書（Ｋａｗａｂａｔａ他）に記載されているような、シアニン色素、ジアリールヨードニウム塩、及び、芳香族環に直接的に結合されたＮ、Ｏ又はＳ基に、メチレン基を介して結合されたカルボン酸基を有する共開始剤；例えば米国特許第５，４９６，９０３号明細書（Ｗａｔａｎａｂｅ他）に記載されているような、トリハロメチルトリアジン及び有機ホウ素塩と一緒の状態の赤外線活性化用シアニン色素；赤外線吸収剤、トリクロロメチルトリアジン及びアジニウム化合物を含む、開始用フリーラジカルを生成することができる化合物、並びに、例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Ｈａｕｃｋ他）に記載されているような、芳香族環に直接的に結合されたＮ、Ｏ又はＳ基に、メチレン基を介して結合されたカルボン酸基を有するポリカルボン酸共開始剤が挙げられる。
〔ミクロゲル及びポリマー粒子〕
平版印刷版原版の機上現像性を向上させるために、画像記録層は、ミクロゲル又はポリマー粒子を含有してもよい。上記ミクロゲルやポリマー粒子は、赤外線照射による光や熱により架橋、溶融、又は、これら両方が生じる、或いは疎水性に変化することが好ましい。ミクロゲルやポリマー粒子は、非架橋性ミクロゲル、架橋性ミクロゲル、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、及び、重合性基を有するポリマー粒子よりなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。これらはコアシェル構造を有していてもよく、他の化合物を内包していてもよい。
−熱可塑性ポリマー粒子−
熱可塑性ポリマー粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９−１２３３８７号公報、同９−１３１８５０号公報、同９−１７１２４９号公報、同９−１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載のポリマー粒子が好適に挙げられる。
熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、並びに、ポリメタクリル酸メチルが挙げられる。
熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーとしては、スチレンに由来するモノマー単位及びアクリル化合物に由来するモノマー単位のいずれか又は両方のモノマー単位を含有することが好ましく、スチレンに由来するモノマー単位及びアクリル化合物に由来するモノマー単位の両方のモノマー単位を含有することが好ましい。すなわち、熱可塑性ポリマー粒子としては、スチレン−アクリロニトリル粒子であることが好ましい。
上記スチレン−アクリロニトリル粒子は、マクロモノマーに由来するモノマー単位を含有してもよい。
マクロモノマーとは、高分子鎖及び重合性基を有するモノマーであり、例えば、単官能のマクロモノマーを共重合することにより、簡便にグラフトポリマーを形成することができる。
マクロモノマーの数平均分子量は、３００〜１０，０００であることが好ましい。
マクロモノマーとしては、ポリ（アルキレングリコール）アルキルエーテル（メタ）アクリレート化合物が好ましく、ポリ（エチレングリコール）アルキルエーテル（メタ）アクリレート化合物がより好ましく、ポリ（エチレングリコール）アルキルエーテルメタクリレート化合物がより好ましい。上記態様であると、機上現像性により優れる。
本開示において用いられる熱可塑性ポリマー粒子は、スチレンに由来するモノマー単位（モノマー単位Ｓｔ）と、アクリロニトリルに由来するモノマー単位（モノマー単位ＡＮ）とを、モノマー単位Ｓｔ：モノマー単位ＡＮ＝１００：０〜６０：４０（質量比）で含有することが好ましく、モノマー単位Ｓｔ：モノマー単位ＡＮ＝１００：０〜８０：２０（質量比）で含有することがより好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子における、マクロモノマーに由来するモノマー単位の含有量は、熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーの全質量に対し、０質量％〜４０質量％が好ましく、０質量％〜２０質量％がより好ましい。
なお、本開示において、モノマー単位の数を定義する際にはマクロモノマーを１つのモノマーとして扱い、１つのマクロモノマーを形成するモノマー単位については考慮しないものとする。
熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーの重量平均分子量は、耐刷性の観点から、５，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、８，０００〜８０，０００であることがより好ましく、１０，０００〜５０，０００であることがより好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子の体積平均粒径は、０．０１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、０．０２μｍ〜３０μｍがより好ましく、０．０５μｍ〜２０μｍが更に好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子の体積平均粒径は、ナノトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用い、動的光散乱法により測定される
本開示において用いられる画像記録層は、熱可塑性ポリマー粒子を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
画像記録層の全質量に対する、上記熱可塑性ポリマー粒子の含有量は、１０質量％〜９８質量％であることが好ましく、２０質量％〜９５質量％がより好ましく、２５質量％〜９０質量％が更に好ましい。
−熱反応性ポリマー粒子−
熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性基を有するポリマー粒子は、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよく、重合性基が好ましい。その例としては、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好適に挙げられる。
−マイクロカプセル−
マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報及び特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものが挙げられる。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層としては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
−ミクロゲル−
ミクロゲルは、その内部及び表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が画像形成感度や耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するためには、公知の方法を用いることができる。
本開示に係る画像記録層中に、ポリマーを、マイクロカプセル、ミクロゲル又は熱可塑性ポリマー粒子以外のポリマー粒子の形態で含む場合、マイクロカプセル、ミクロゲル又は熱可塑性ポリマー粒子以外のポリマー粒子の平均一次粒子径は、１０ｎｍ〜１，０００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ〜１２０ｎｍであることが更に好ましい。
本開示における上記各粒子の平均一次粒子径は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とする。
ミクロゲル又は熱可塑性ポリマー粒子以外のポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、５質量％〜９０質量％が好ましい。
〔他の赤外線吸収剤〕
本実施形態における画像記録層は、上述の式Ｉで表される赤外線吸収剤以外の赤外線吸収剤（「他の赤外線吸収剤」ともいう。）を更に含有してもよい。
他の赤外線吸収剤としては、例えば、特開２０１７−０１３３１８号公報の段落００７０〜段落００７９に記載の化合物が挙げられる。
画像記録層が上記他の赤外線吸収剤を含有する場合、含有量としては、画像記録層の全質量に対し、０．０５質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜２０質量％であることがより好ましく、０．２質量％〜１０質量％であることが更に好ましい。
〔着色剤〕
本実施形態における画像記録層は、赤外線吸収剤以外の着色剤を含有することが好ましい。
着色剤としては、例えば、露光により発色する露光発色色素、露光によりほとんど又は完全に無色になる露光消色色素等を用いることができる。露光発色色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。露光消色色素としては、例えば、トリフェニルメタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素、アントラキノン系色素等が挙げられる。
発色性の観点から、上記着色剤の中でも、ロイコ化合物を含有することが好ましい。
上記着色剤の含有量としては、画像記録層の全質量に対し、０．０５質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜２０質量％であることがより好ましく、０．２質量％〜１０質量％であることが更に好ましい。
〔バインダーポリマー〕
上記画像記録層は、上記ポリマー粒子とは異なるバインダーポリマーを１種又は２種以上含有していてもよい。
上記バインダーポリマーは、粒子状であっても、粒子状でなくともよいが、粒子状でないことが好ましい。
上記バインダーポリマーとしては、水溶性又は水分散性ポリマー、例えばセルロース誘導体、例えばカルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース；ポリビニルアルコール；ポリアクリル酸；ポリメタクリル酸；ポリビニルピロリドン；ポリラクチド、ポリビニルホスホン酸；合成コポリマー、例えばアルコキシポリエチレングリコールアクリレート又はメタクリレート、例えばメトキシポリエチレングリコールアクリレート又はメタクリレートと、モノマー、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブチルアクリレート又はアリルメタクリレートとのコポリマー；及びこれらの混合物が挙げられる。
上記画像記録層における上記ポリマー粒子とは異なるバインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対し、０質量％〜５０質量％であることが好ましく、１質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
〔他の添加剤〕
上記画像記録層は、上述した以外の他の添加剤を含有していてもよい。
他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、特開２０１３−２０５５６９号公報に記載の添加剤を適宜用いることができる。
また、他の添加剤としては、例えば、界面活性剤等が挙げられる。
他の添加剤の総含有量は、画像記録層の全質量に対し、０質量％〜２０質量％であることが好ましく、０質量％〜５質量％であることがより好ましい。
また、他の添加剤としては、例えば、画像記録層の保存寿命を延ばすための添加剤が挙げられる。
保存寿命を延ばすのに効果的であり得る添加剤の例としては、メルカプト化合物、アミノ化合物、モノカルボン酸及びポリカルボン酸が挙げられる。
好適なメルカプト化合物が、例えば、Ｔｉｍｐｅ他の米国特許出願公開第２００２／０１９７５６４号明細書に記載されている。米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Ｈａｕｃｋ他）に記載された好適なポリカルボン酸は、ヘテロ原子と置換された芳香族部分を有する。Ｍｕｎｎｅｌｌｙ他の米国特許出願公開第２００４／００９１８１１号明細書、及び、Ｍｕｎｎｅｌｌｙ他の米国特許出願公開第２００４／０２５９０２７号明細書には、好適なモノカルボン酸添加剤が記載されている。
〔画像記録層の形成〕
本開示における画像記録層の形成方法は、特に制限はなく、公知の方法、例えば、塗布又はラミネーションにより、支持体上、又は、支持体上に存在する後述する下塗り層上に形成することができる。
具体的には例えば、画像記録層の各成分は、好適な塗布用溶剤、例えば、水、又は、水と有機溶剤との混合溶剤、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール及びアセトンよりなる群から選ばれた少なくとも１種との混合物中に分散又は溶解される。界面活性剤、例えばフッ素化界面活性剤若しくはポリエトキシル化ジメチルポリシロキサンコポリマー、又は、界面活性剤の混合物が、塗布用溶剤中に他の成分を分散させるのを助けるように存在することができる。結果として得られる混合物は、公知の方法、例えばスピン塗布、バー塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、又は、ローラー塗布によって、上記支持体上又は下塗り層上に塗布される。
塗布後、画像記録層を乾燥させることにより、溶剤を蒸発させる。画像記録層は、周囲温度又は高温、例えば炉内で空気乾燥させることができる。あるいは、画像記録層上に温風を吹き付けることにより乾燥させることもできる。
上記画像記録層の乾燥塗布質量は、０．２ｇ／ｃｍ２〜５．０ｇ／ｃｍ２であることが好ましく、０．５ｇ／ｃｍ２〜１．５ｇ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．７５ｇ／ｃｍ２〜１．０ｇ／ｃｍ２であることが特に好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版に用いられる画像記録層は、湿し水組成物及び印刷インキのいずれか又は両方により除去可能であることが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版の用いられる画像記録層は、現像液を用いた現像が可能であることが好ましく、ガム現像可能であることがより好ましい。
本開示において、ガム現像とは、画像記録層の非画像部の除去を、従来の現像液を用いずに、従来は現像の後に施されていたフィニッシャーとしてのガム液によって行う方法をいう。
ガム現像の詳細については、例えば、特開２０１０−０５２１８０号公報に記載されている。
＜支持体＞
本開示に係る平版印刷版原版の支持体は、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム支持体が好ましい。
アルミニウム支持体は更に必要に応じて、特開２００１−２５３１８１号公報及び特開２００１−３２２３６５号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号及び同第３，９０２，７３４号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートによる表面親水化処理、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号及び同第４，６８９，２７２号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行ってもよい。
支持体は、中心線平均粗さが０．１０μｍ〜１．２μｍであることが好ましい。
支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平５−４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平６−３５１７４号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。
〔粗面化処理〕
上記アルミニウム支持体の画像形成層又は後述する下塗り層と接する面に対し、特に陽極酸化処理を行う前に、物理研磨、電気化学研磨、化学研磨等の粗面化処理が行われることが好ましい。
粗面化処理により支持体表面の表面粗さについては、特に制限はないが、陽極酸化処理時に形成するポアの開口部の直径を１５ｎｍ〜４０ｎｍとするため、平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍ〜０．８μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜０．６μｍであることがより好ましい。
〔陽極酸化処理〕
陽極酸化処理としては、例えば、アルミニウム支持体の硫酸陽極酸化及びリン酸陽極酸化が挙げられる。硫酸陽極酸化により形成されるポアの皮膜表面における開口部の直径は、典型的には２０ｎｍ未満であるのに対して、リン酸陽極酸化により形成されるポアの皮膜表面における開口部の直径は典型的には２０ｎｍ以上となる。
上記アルミニウム支持体は、リン酸を用いて陽極酸化されたアルミニウム支持体であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体における陽極酸化皮膜の膜厚は、上記ポアの開口部の直径が上１５ｎｍ〜４０ｎｍとなれば特に制限はないが、７５ｎｍ〜２，０００ｎｍであることが好ましく、８５ｎｍ〜１，５００ｎｍであることがより好ましい。
〔ポアの開口部の直径〕
上記ポアの上記陽極酸化皮膜表面における開口部の直径は、１５ｎｍ〜４０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜３８ｎｍであることが好ましく、２５ｎｍ〜３５ｎｍであることがより好ましい。上記範囲であると、耐刷性及び機上現像性により優れる。
また、上記平均ポア径が１５ｎｍ以上であれば、耐刷性に優れ、４０ｎｍ以下であれば、汚れ防止性に優れる。
本開示におけるポアの開口部の直径とは、支持体の表面を、電子顕微鏡を用い１５万倍に拡大して、ポアの孔径（直径）である開口部の直径を５０個以上のポアについて測定して求めた算術平均値をいう。
なお、ポアの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。上記「円相当径」とは、上記陽極酸化皮膜表面におけるポアの開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの上記円の直径である。
＜下塗り層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を設けてもよい。
下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
下塗り層に用いる化合物としては、具体的には、特開平１０−２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２−３０４４４１号公報に記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が挙げられる。より好ましいものとして、特開２００５−１２５７４９号公報及び特開２００６−１８８０３８号公報に記載のごとき、支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。より具体的には、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ３Ｈ２、−ＣＯＮＨＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＨＳＯ２−、−ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３などの吸着性基を有するモノマーと、親水性のスルホ基を有するモノマーと、更にメタクリル基、アリル基などの重合性の架橋性基を有するモノマーとの共重合体である高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、高分子樹脂の極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
下塗り層用高分子樹脂中のエチレン性不飽和二重結合の含有量は、高分子樹脂１ｇ当たり、０．１ｍｍｏｌ〜１０．０ｍｍｏｌであることが好ましく、２．０ｍｍｏｌ〜５．５ｍｍｏｌであることが特に好ましい。
下塗り層用の高分子樹脂は、重量平均分子量が５，０００以上であることが好ましく、１万〜３０万であることがより好ましい。
下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第二級若しくは第三級アミン、重合禁止剤、又は、アミノ基若しくは重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等（例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６−テトラヒドロキシ−ｐ−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など）を含有することができる。
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２であることが好ましく、１ｍｇ／ｍ２〜３０ｍｇ／ｍ２であることがより好ましい。
＜保護層＞
本開示に係る平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、上記画像記録層上に保護層（酸素遮断層）を設けてもよい。
上記保護層の材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。これらの中で、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましい。具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に特に良好な結果を与える。
上記保護層に使用するポリビニルアルコールは、特開２０１３−２０５５６９号公報の段落０２１６〜０２１７に記載されたものを適宜使用できる。
更に、上記保護層には、酸素遮断性や画像記録層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。具体的には、特開２００５−１１９２７３号公報に記載の無機質の層状化合物が好適に挙げられる。
上記保護層の塗布量は、０．０５ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、０．１ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が更に好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、０．５ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が更に好ましい。
＜バックコート層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、必要に応じて、上記アルミニウム支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。上記バックコート層としては、例えば、特開平５−４５８８５号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平６−３５１７４号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４等のケイ素のアルコキシ化合物を用いることが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
（平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法）
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版原版は、画像露光された後に、機上現像により現像されてもよいし、現像液を用いた現像により現像されてもよい。
上記現像液としては、例えば、特開２０１７−０１３３１８号公報に記載の現像液や、特開２０１０−０５２１８０号公報に記載のガム現像用現像液が使用可能である。現像液を用いた現像により現像された平版印刷版にインク及び湿し水を供給することにより、平版印刷を行うことができる。
本開示に係る平版印刷版の製版方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、及び、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程をこの順で含む。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程、及び、上記機上現像工程において機上現像された平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程をこの順で含む。
以下、本開示に係る平版印刷版の製版方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
また、本開示に係る平版印刷版の製版方法における露光工程及び機上現像工程の好ましい態様と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程及び機上現像工程の好ましい態様とは同様である。
＜露光工程＞
本開示に係る平版印刷版の製版方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍが好ましく用いられる。７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ2〜３００ｍＪ／ｃｍ2であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
＜機上現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の製版方法は、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して上記未露光部を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版の製版方法は、現像液にて現像する方法（現像液処理方式）で行ってもよい。
以下に、機上現像方式について説明する。
〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
＜印刷工程＞
本開示に係る平版印刷方法は、上記機上現像工程において機上現像された平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキが好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の製版方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃〜５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。
以下、実施例により本開示を詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本開示の実施形態の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、本実施例において、「部」、「％」とは、特に断りのない限り、「質量部」、「質量％」を意味する。
以下の実施例又は比較例において、ＩＲ−１〜ＩＲ−１４は、上述のＩＲ−１〜ＩＲ−１４と同様の特定赤外線吸収剤を表す。
＜熱可塑性ポリマー粒子の作製＞
〔ポリマー粒子ＰＬ−１〜ＰＬ−１２の合成〕
下記表２に記載の原料を用いて、特開２０１６−０６８５４６号公報の段落０１７７〜０１７８を参考にポリマー粒子ＰＬ−１〜ＰＬ−１２を合成した。重合開始剤としては、下記ＶＡＺＯ−６４を使用した。
下記表２中、「−」の記載は、該当するモノマーを使用していないことを示している。
また、「粒径」の欄の数値は上述の方法により測定した体積平均粒径を示している。
合成に使用した各成分の詳細は下記の通りである。
−モノマー成分−
ＰＥＧＭＡ：Sigma-Aldrich Corp.（St.Louis,Missouri）から入手可能なポリ（エチレングリコール）メチルエーテルメタクリレート；５０質量％水溶液として、数平均分子量：２０８０以下。
−重合開始剤−
ＶＡＺＯ−６４：E.I.du Pont de Nemours and Co.（Wilmington,Delaware）から入手可能な２，２’−アゾビスイソブチロニトリル。
＜支持体の作製＞
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質ＪＩＳ Ａ １０５０）の表面の圧延油を除去するため、１０質量％アルミン酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で３０秒間脱脂処理を施した後、毛径０．３ｍｍの束植ナイロンブラシ３本とメジアン径２５μｍのパミス−水懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ３）とを用いアルミニウム板表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。アルミニウム板を４５℃の２５質量％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に６０℃で２０質量％硝酸水溶液に２０秒間浸漬し、水洗した。砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ２であった。
次に、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は硝酸１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温は５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量１７５Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
続いて、塩酸０．５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量５０Ｃ／ｄｍ２の条件で、硝酸電解と同様の方法で電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、アルミニウム板に液温５４℃の１５質量％硫酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ２で２．５ｇ／ｍ２の直流陽極酸化皮膜を形成した後、水洗、乾燥して支持体を作製した。
陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径（ポアの開口部の直径）は１０ｎｍであった。
陽極酸化皮膜の表層におけるポア径の測定は、超高分解能型ＳＥＭ（（株）日立製作所製Ｓ−９００）を使用し、１２Ｖという比較的低加速電圧で、導電性を付与する蒸着処理等を施すこと無しに、表面を１５万倍の倍率で観察し、５０個のポアを無作為抽出して算術平均値を求める方法で行った。標準偏差は上記算術平均値に対し、±１０％の範囲内であった。
＜画像記録層の形成＞
下塗り層上に、下記画像記録層塗布液（１）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ２の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液（１）は下記感光液（１）及びミクロゲル液を塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
ミクロゲル液を使用しない場合には、感光液（１）をそのまま画像記録層塗布液として使用した。
〔感光液（１）〕
・表３〜表５に記載の化合物：表３〜表５に記載の量
・フッ素系界面活性剤（１）〔下記構造〕：１０部
・２−ブタノン：５０００部
・１−メトキシ−２−プロパノール：４０００部
上記化学式中、各繰返し単位に併記される添字（主鎖繰返し単位に併記される数値）は、繰返し単位の質量百分率を表し、側鎖中のアルキレングリコール単位を示す括弧の添字は各アルキレングリコール単位の繰り返し数を表す。また、Ｍｗの記載は、ポリマー全体の重量平均分子量の値を示している。
＜発色性の評価＞
各実施例及び比較例において得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ−６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ ｉｎｃｈ＝２．５４ｃｍ）の条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び２０μｍドットＦＭスクリンの５０％網点チャートを含んだ。
露光部（ベタ画像）と未露光部をｘ−ｒｉｔｅ（ｘ−ｒｉｔｅ社）でＬ値を測定し、差分ΔＬ（ΔＬ＝露光部のＬ値−未露光部のＬ値）を算出した。
ΔＬの絶対値が大きいほど発色性に優れることを示しており、３．０以上が発色性として良好な値とする。
＜耐刷性の評価＞
得られた露光済み平版印刷原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。版胴に対して給水ローラーを５％減速させた上で、Ｅｃｏｌｉｔｙ−２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とスペースカラーフュージョンＧ墨インキ（ＤＩＣグラフィックス（株）製）とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（７６．５ｋｇ）紙に印刷を３０，０００枚行った。
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。印刷物におけるＦＭスクリーン３％網点の網点面積率をｘ−ｌｉｔｅ（ｘ−ｌｉｔｅ社製）で計測した値が印刷１００枚目の計測値よりも５％低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。耐刷性評価は、比較例１を基準平版印刷版原版として、以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性＝（対象平版印刷版原版を用いた場合の印刷枚数Ｘ）／（基準平版印刷版原版を用いた場合の印刷枚数Ｘ）×１００
評価結果は表３〜表５に記載した。
相対耐刷性の数値が大きいほど耐刷性に優れることを示しており、１１０以上が良好な耐刷性とする。
表３〜表５中、数値は該当する各成分の含有量（質量部）を表す。また、略語の詳細は下記の通りである。
・ＩＲ−１〜ＩＲ−１４：上述の具体例として示した特定赤外線吸収剤
・比較用ＩＲ−１：下記構造の赤外線吸収剤
・ＰＬ−１〜ＰＬ−１２：上述の合成品
・Ｒ−１：Ｂｌａｃｋ１５、山田化学工業（株）製
・Ｒ−２：Ｒｅｄ５００、山田化学工業（株）製
・Ｒ−３：Ｓ２０５、山田化学工業（株）製
・Ａ−１〜Ａ−３：上述の具体例として示した重合開始剤
・重合性化合物：下記表６に記載の重合性化合物
・ＨＰＣ：ヒドロキシプロピルセルロース
（実施例５５、５６）
実施例１又は実施例３において使用した平版印刷版原版に対し、上記発色性の評価における露光と同様の露光を行った後、下記方法により耐刷性を評価した。
＜現像処理＞
平版印刷版原版は、図１に例示する現像処理装置Ａを用いて現像処理を施した。
ここで、「現像処理」とは、画像形成層の現像の他に、必要に応じて保護層の除去、ガム引き及び乾燥よりなる群から選ばれた１以上の処理をも含む複合処理を意味するものとする。
現像処理に用いた処理液は、下記組成の処理液を使用した。
〔処理液〕
・アニオン系界面活性剤（ペレックスＮＢＬ）：２質量％
・ノニオン系界面活性剤（ニューコールＢ１３）：５質量％
・２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸（バイヒビットＡＭ（商標））：２質量％
・ベンジルアルコール：０．８質量％
・消泡剤（ポリジメチルシロキサン、Bluester Silicones社製、ILCOLAPSE432）：０．０２質量％
・水：９２．１８質量％
現像処理装置Ａは、回転ブラシロール１１を２本有する自動処理機である。回転ブラシロール１１としては、１本目の回転ブラシロール１１に、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２００μｍ、毛の長さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径９０ｍｍのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分２００回転（ブラシの先端の周速０．９４ｍ／ｓｅｃ）させた。また、２本目の回転ブラシロール１１には、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２００μｍ、毛の長さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径６０ｍｍのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分２００回転（ブラシの先端の周速０．６３ｍ／ｓｅｃ）させた。露光済みの平版印刷版原版３０の搬送は、回転ブラシロール１１とこれと対向する受けロール１２の間に平版印刷版原版３０が通過するように、三対の搬送ロール１３の間を図示した搬送方向に、給版台１８から排版台１９まで、途中に設けられた搬送ガイド板１４の上を搬送速度１００ｃｍ／ｍｉｎで行った。
４カ所のスプレーパイプ１５には、管路１６によりフィルター１７を通して、処理液タンク２０に貯留された処理液を、循環ポンプ２１により供給して、各スプレーパイプ１５から版面にシャワーリングして供給した。なお、処理液タンク２０の容量は、１０リットルであり、処理液は循環使用した。現像処理機から排出された平版印刷版は、水洗することなく乾燥機２２により乾燥した。
＜耐刷性の評価＞
得られた現像処理済みの平版印刷版を用い、機上現像を行わない以外は上述の耐刷性の評価と同様の方法により、耐刷性の評価を行った。
実施例１において使用した平版印刷版原版を用いた場合の評価結果は表３に記載した実施例１の評価結果と、実施例３において使用した平版印刷版原版を用いた場合の評価結果は実施例３の評価結果と、それぞれ同様であった。
上記実施例及び比較例の結果から、本開示に係る平版印刷版原版は、得られる平版印刷版の耐刷性に優れることがわかる。
上記実施例及び比較例の結果から、本開示に係る平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法によれば、耐刷性に優れた平版印刷版が得られることがわかる。
２０１７年２月２８日に出願された日本国特許出願第２０１７−０３７６６４号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本発明に使用する現像処理装置の一例の構造を示す概略図である。
１１：回転ブラシロール
１２：受けロール
１３：搬送ロール
１４：搬送ガイド板
１５：スプレーパイプ
１６：管路
１７：フィルター
１８：給版台
１９：排版台
２０：処理液タンク
２１：循環ポンプ
２２：乾燥機
３０：平版印刷版原版

Claims (15)

  1. 支持体上に、式Ｉで表される赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。

    式Ｉ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭化水素基を示し、それぞれが連結し５員環又は６員環を形成してもよく、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
  2. 式Ｉで表される赤外線吸収剤が、式ＩＩで表される赤外線吸収剤である、請求項１に記載の平版印刷版原版。

    式ＩＩ中、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又は炭素数１２以下のジアルキルメチレン基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、一価の有機基又は水素原子を表し、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立に、置換基を有しないか、電子供与性基又は炭素数６〜２０のアリール基により置換された、ベンゼン環、ナフタレン環又は環員数６〜２０のヘテロ芳香環を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１２以下の炭化水素基を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、Ａは、電荷の中和が必要な場合に存在する対イオンを表す。
  3. 前記画像記録層が、重合性化合物及び重合開始剤を更に含有する、請求項１又は請求項２に記載の平版印刷版原版。
  4. 前記重合開始剤が、ヨードニウム系重合開始剤である、請求項３に記載の平版印刷版原版。
  5. 前記画像記録層が、熱可塑性ポリマー粒子を更に含有する、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  6. 前記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーが、スチレンに由来するモノマー単位及びアクリル化合物に由来するモノマー単位のいずれか又は両方のモノマー単位を含有する、請求項５に記載の平版印刷版原版。
  7. 前記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーが、スチレン−アクリロニトリル樹脂である、請求項５又は請求項６に記載の平版印刷版原版。
  8. 前記熱可塑性ポリマー粒子に含まれるポリマーの重量平均分子量が、５，０００〜１，０００，０００である、請求項５〜請求項７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  9. 前記熱可塑性ポリマー粒子の体積平均粒径が、０．０１μｍ〜５０μｍである、請求項５〜請求項８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  10. 前記画像記録層の全質量に対する、前記熱可塑性ポリマー粒子の含有量が、２０質量％〜９５質量％である、請求項５〜請求項９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  11. 前記画像記録層が、ロイコ化合物を更に含有する、請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  12. 前記画像記録層が、湿し水及び印刷インキのいずれか又は両方により除去可能である、請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  13. 前記画像記録層が、ガム現像可能である、請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  14. 請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、及び、
    印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して前記未露光部を除去する機上現像工程を含む
    平版印刷版の製版方法。
  15. 請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程、
    印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して前記未露光部を除去する機上現像工程、及び、
    前記機上現像工程において機上現像された平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程をこの順で含む
    平版印刷方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2021132665A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020090996A1 (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2020069789A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2020069790A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020090995A1 (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020111259A1 (ja) * 2018-11-30 2020-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262696A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3991983A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-10 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE OF ON-PRESS DEVELOPMENT TYPE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
CN114096421B (zh) 2019-06-28 2023-09-15 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
WO2020262690A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3991987A4 (en) * 2019-06-28 2022-09-14 FUJIFILM Corporation PRECURSOR OF A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE WITH PRINTING DEVELOPMENT, METHOD OF MAKING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS
WO2021172453A1 (ja) * 2020-02-28 2021-09-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP4159458A4 (en) * 2020-05-29 2023-11-01 FUJIFILM Corporation LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR WITH DEVELOPMENT ON THE PRINTING PRESS, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRODUCTION PROCESS AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS
CN115697718A (zh) * 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JP7451702B2 (ja) * 2020-05-29 2024-03-18 富士フイルム株式会社 積層体

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005516804A (ja) * 2002-02-04 2005-06-09 コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー オンプレス現像可能なｉｒ感応性印刷版
JP2007050659A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20110287364A1 (en) * 2008-12-18 2011-11-24 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
JP2014528098A (ja) * 2011-09-22 2014-10-23 イーストマン コダック カンパニー ネガ型平版印刷版原版

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5440042A (en) * 1993-05-26 1995-08-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thioheterocyclic near-infrared dyes
US5576443A (en) * 1993-05-26 1996-11-19 Sterling Diagnostic Imaging, Inc. Thioheterocyclic near-infrared absorbing dyes
EP0931647B1 (en) 1998-01-23 2003-04-02 Agfa-Gevaert A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith
EP1093934B1 (en) * 1999-10-19 2004-02-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate using the same
JP4299639B2 (ja) * 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
US7910286B2 (en) * 2005-01-26 2011-03-22 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
JP2007050689A (ja) * 2005-07-22 2007-03-01 Fuji Xerox Co Ltd プラスチックシートの作製方法、及びその作製装置
EP2072570B1 (en) * 2007-12-20 2014-10-08 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
WO2010031758A1 (en) 2008-09-16 2010-03-25 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
US8927197B2 (en) 2012-11-16 2015-01-06 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
JP2015202586A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版原版
JP6510726B2 (ja) * 2016-02-29 2019-05-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005516804A (ja) * 2002-02-04 2005-06-09 コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー オンプレス現像可能なｉｒ感応性印刷版
JP2007050659A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20110287364A1 (en) * 2008-12-18 2011-11-24 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
JP2014528098A (ja) * 2011-09-22 2014-10-23 イーストマン コダック カンパニー ネガ型平版印刷版原版

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2021132665A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01
WO2021132665A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP7394874B2 (ja) 2019-12-27 2023-12-08 富士フイルム株式会社 平版印刷方法

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