JP6400827B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年7月16日に出願された欧州出願14177236.8号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
Claims (10)
- 光軸を有する投影システムと、
雰囲気ガスを有する筐体と、
前記筐体内に収容される物理的構成要素と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置は、前記筐体に対して前記光軸に直交する面内で所定方向に前記物理的構成要素の移動を生じさせるよう構成され、
前記リソグラフィ装置は、前記移動中に前記物理的構成要素が前記筐体に対して所定の向きを維持するよう構成され、
前記移動は、前記物理的構成要素に対する前記雰囲気ガスの流れを生じさせ、
前記物理的構成要素は、前記光軸に直交するように向けられる第1表面を有し、
前記物理的構成要素は、前記雰囲気ガスの流れを前記第1表面から離れる方向に向けるよう構成される流向システムを含み、前記流向システムは、前記物理的構成要素の前面を成形することを含み、前記前面が前記移動中に前記物理的構成要素の前部として機能し、前記成形することは、前記第1表面に直交する方向の前記物理的構成要素の厚さが前記第1表面と前記前面とが当接する位置に近づく方向に減少するように、前記第1表面に直交する方向に対して前記前部に角度を付けることを含み、
前記前面の一部は、前記光軸に対して角度が付けられており、前記前面の残りは、成形されておらず、前記光軸の方向と平行であり、前記前面の角度が付けられた部分は、前記前面の残りの部分よりも前記第1表面の近くに位置することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 光軸を有する投影システムと、
雰囲気ガスを有する筐体と、
前記筐体内に収容される物理的構成要素と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置は、前記筐体に対して前記光軸に直交する面内で所定方向に前記物理的構成要素の移動を生じさせるよう構成され、
前記リソグラフィ装置は、前記移動中に前記物理的構成要素が前記筐体に対して所定の向きを維持するよう構成され、
前記移動は、前記物理的構成要素に対する前記雰囲気ガスの流れを生じさせ、
前記物理的構成要素は、前記光軸に直交するように向けられる第1表面と、前記第1表面に背向する第2表面とを有し、
前記物理的構成要素は、前記雰囲気ガスの流れを前記第1表面から離れる方向に向けるよう構成される流向システムを含み、前記流向システムは、前記物理的構成要素の前面を成形することを含み、前記前面が前記移動中に前記物理的構成要素の前部として機能し、前記成形することは、前記前面への凹部形成を含み、前記凹部は、前記第1表面と前記第2表面の間に位置し、前記前面の縁部に開いており、前記第1表面と前記第2表面の双方から間隔を空けて設けられることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記前面を成形することは、前記第1表面の上から見たときの前記物理的構成要素の角部で少なくともなされることを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 光軸を有する投影システムと、
雰囲気ガスを有する筐体と、
前記筐体内に収容される物理的構成要素と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置は、前記筐体に対して前記光軸に直交する面内で所定方向に前記物理的構成要素の移動を生じさせるよう構成され、
前記リソグラフィ装置は、前記移動中に前記物理的構成要素が前記筐体に対して所定の向きを維持するよう構成され、
前記移動は、前記物理的構成要素に対する前記雰囲気ガスの流れを生じさせ、
前記物理的構成要素は、前記光軸に直交するように向けられる第1表面を有し、
前記物理的構成要素は、前記雰囲気ガスの流れを前記第1表面から離れる方向に向けるよう構成される流向システムを含み、前記流向システムは、前記物理的構成要素の前面を成形することを含み、前記前面が前記移動中に前記物理的構成要素の前部として機能し、前記前面を成形することは、前記第1表面の上から見たときの前記物理的構成要素の角部のみにてなされることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記流向システムは、第1開口と第2開口の間で第1構成要素を貫通するように延在することにより、前記移動中に前記物理的構成要素の前部から前記物理的構成要素の側部へ向かうガスの貫通孔流路を提供する貫通孔を含み、前記貫通孔流路は、前記第1開口から前記第2開口へ向かう前記物理的構成要素の外部周辺のガスの外側流路よりも低い流れ抵抗を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記流向システムは、前記物理的構成要素の前面上で張出形状または唇形状となる突起を備えることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物理的構成要素は、基板テーブルまたはマスクテーブルであることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィプロセスにおける方法であって、
雰囲気ガスを有する筐体に対して第1表面を有する物理的構成要素を移動させ、前記物理的構成要素に対して前記雰囲気ガスの流れを生じさせることと、
前記第1表面から離れる方向に前記雰囲気ガスの流れを向けることと、を備え、
前記物理的構成要素の前面を成形することは、前記第1表面に直交する方向の前記物理的構成要素の厚さが前記第1表面と前記前面とが当接する位置に近づく方向に減少するように、前記第1表面に直交する方向に対して前記前面に角度を付けることを含み、
前記前面の一部は、前記第1表面に直交する方向に対して角度が付けられており、前記前面の残りは、成形されておらず、前記第1表面に直交する方向と平行であり、前記前面の角度が付けられた部分は、前記前面の残りの部分よりも前記第1表面の近くに位置することを特徴とする方法。 - リソグラフィプロセスにおける方法であって、
雰囲気ガスを有する筐体に対して第1表面と、前記第1表面に背向する第2表面とを有する物理的構成要素を移動させ、前記物理的構成要素に対して前記雰囲気ガスの流れを生じさせることと、
前記第1表面から離れる方向に前記雰囲気ガスの流れを向けることと、を備え、
前記物理的構成要素の前面を成形することは、凹部形成を含み、前記凹部は、前記第1表面と前記第2表面の間に位置し、前記前面の縁部に開いており、前記第1表面と前記第2表面の双方から間隔を空けて設けられることを特徴とする方法。 - リソグラフィプロセスにおける方法であって、
雰囲気ガスを有する筐体に対して第1表面を有する物理的構成要素を移動させ、前記物理的構成要素に対して前記雰囲気ガスの流れを生じさせることと、
前記第1表面から離れる方向に前記雰囲気ガスの流れを向けることと、を備え、
前記物理的構成要素の前面を成形することは、前記第1表面の上から見たときの前記物理的構成要素の角部のみにてなされることを特徴とする方法。
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