JP5744593B2 - 計測装置、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
計測装置、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
第1実施形態の計測装置を図1に示す。図1の(a)は第1実施形態の計測装置及びステージの断面図、(b)はそれらの斜視図である。第1実施形態におけるステージは、基板を保持する基板ステージであるが、原版を保持する原版ステージであってもよい。第1実施形態における計測装置は、気体吹き出し部4によりステージ3に向けて吹き出される気体を干渉計5の光路9へ整流して導く構造体8を備えている。第1実施形態の構造体は2枚の整流板8A、8Bである。そのうちの上側に位置する整流板8Aは、反射ミラー7が設置されたステージ3に取り付けられている。整流板8A、8Bは、ステージ3が移動するときステージ3に追従して移動する。第1実施形態では、整流板8A、8Bは、干渉計5の光路9の上下を覆うように平行に配置された平板である。整流板8A、8Bは、干渉計5の光路9の少なくとも一部を覆うように配置されていればよい。光路9のすべてを覆うように配置しても良い。
高精度に位置決めを行うために、大きな駆動範囲をもつ粗動ステージと、その粗動ステージに搭載され支持されて微小な駆動範囲で高精度に位置決め制御を行う微動ステージとから構成されるステージが存在する。そのようなステージでは、粗動ステージが大きなストロークと推力でXY平面上を高速度で移動し、粗動ステージ上で微動ステージは微小なストロークのXY方向、傾き方向、回転方向などの高精度の位置決め駆動を行う。粗動ステージと微動ステージそれぞれに位置の計測装置と駆動機構を備えうる。また、微動ステージはその制御性を高めるために軽量であることが好ましく、さらに振動などの外乱が入らない構造とする必要がある。一方、粗動ステージは、高推力化が容易であり、外乱が入って位置決め精度が低下しても、微動ステージにおける位置決めで解消できる。
次に、図7を用いて第3実施形態の計測装置を説明する。第3実施形態における計測装置は、気体吹き出し部4を粗動ステージ31に支持される整流板8B(第2部材)と一体に形成されている。この場合、例えば上側の整流板8Aを気体吹き出し部4の気体吹き出し面と兼ねる構成にしても良い。本実施形態によれば、複数のステージ3がステージ定盤2上を移動しても気体吹き出し部4からステージ3までの距離が大きくなることがない。また、ステージ3の位置によって干渉計5の光軸を切り替えたりする場合でも、2枚の整流板8A,8Bの間に良好に空気を供給できる。
次に、デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。ここでは、半導体デバイスの製造方法を例に説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、露光装置やインプリント装置を使用して感光剤または光硬化性樹脂が塗布されたウエハ(基板)を露光またはインプリントする工程と、ウエハを現像または残膜を除去する等加工する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。なお、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。
Claims (18)
- 基板に塗布された感光性材料にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記基板に向けて気体を供給する気体供給部と、
前記ステージの位置を計測するために、前記ステージに設けられたミラーに向けて光を射出し、前記ミラーで反射した光を検出する干渉計と、
前記干渉計の光路へ、気体を吹き出す気体吹き出し部と、
前記気体供給部側にある第1部材と該第1部材よりも前記気体供給部から離れた位置にある第2部材とを含み、前記第1部材と前記第2部材との間の前記光路に沿って前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記ステージに向けて整流する構造体と、を備え、
前記第1部材は前記ステージに取り付けられ、
前記第2部材は前記ステージとの間に隙間ができるように配置されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2部材は、前記気体吹き出し部からの気体により、前記第1部材と前記第2部材との間を通り前記隙間を通じて前記構造体の外部に流れる気体流が生じるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1部材は、前記ステージとの間に隙間なく取り付けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1部材および前記第2部材は、平板である、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ステージと同期して移動する第2ステージをさらに備え、
前記第2部材は、前記第2ステージにより支持されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージは、粗動ステージと該粗動ステージにより支持されている微動ステージとを含み、
前記第1部材は前記微動ステージに取り付けられ、前記第2部材は前記粗動ステージにより支持されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記構造体は、第3部材をさらに含み、
前記第3部材は、前記第1部材の前記ステージ側とは反対側の端部から前記光路に沿って延び、かつ、前記ステージの移動に追従して移動し、
前記第3部材の前記ステージ側の端部と、前記第1部材の前記ステージ側とは反対側の端部との隙間は、前記第2部材と前記ステージとの隙間より小さい、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージと同期して移動する第2ステージをさらに備え、
前記第2部材および前記第3部材は、前記第2ステージにより支持されている、ことを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージは、粗動ステージと該粗動ステージにより支持されている微動ステージとを含み、
前記第1部材は前記微動ステージに取り付けられ、前記第2部材および前記第3部材は前記粗動ステージにより支持されている、ことを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記気体吹き出し部は、前記第2部材と一体に形成されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記気体供給部が供給する気体は、窒素を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記気体供給部が供給する気体は、ヘリウムを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 粗動ステージと該粗動ステージ支持されている微動ステージとを含むステージに設けられたミラーに向けて光を射出し、前記ミラーで反射した光を検出する干渉計と、
前記干渉計の光路へ、気体を吹き出す気体吹き出し部と、
第1部材および第2部材を含み、前記第1部材と前記第2部材との間の前記光路に沿って前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記ステージに向けて整流する構造体と、を備え、前記干渉計を用いて前記ステージの位置を計測する計測装置であって、
前記第1部材は前記微動ステージに取り付けられ、
前記第2部材は、前記粗動ステージにより支持され、前記ステージとの間に隙間ができるように配置されていることを特徴とする計測装置。 - 前記構造体は、第3部材をさらに含み、
前記第3部材は前記粗動ステージにより支持され、前記第1部材の前記ステージ側とは反対側の端部から前記光路に沿って延び、かつ、前記ステージの移動に追従して移動し、
前記第3部材の前記ステージ側の端部と、前記第1部材の前記ステージ側とは反対側の端部との隙間は、前記第2部材と前記ステージとの隙間より小さい、
ことを特徴とする請求項13に記載の計測装置。 - ステージに設けられたミラーに向けて光を射出し、前記ミラーで反射した光を検出する干渉計と、
前記干渉計の光路へ、気体を吹き出す気体吹き出し部と、
第1部材および第2部材を含み、前記第1部材と前記第2部材との間の前記光路に沿って前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記ステージに向けて整流する構造体と、を備え、前記干渉計を用いて前記ステージの位置を計測する計測装置であって、
前記第1部材は、前記干渉計と前記ミラーとの間の光路のうち前記ミラー側の端を含む部分と対面するように、前記ステージに取り付けられており、
前記第2部材は前記ステージとの間に隙間ができるように配置されている
ことを特徴とする計測装置。 - 基板に塗布された感光性材料にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ステージの位置を計測するために、前記ステージに設けられたミラーに向けて光を射出し、前記ミラーで反射した光を検出する干渉計と、
前記干渉計の光路へ、気体を吹き出す気体吹き出し部と、
第1部材および第2部材を含み、前記第1部材と前記第2部材との間の前記光路に沿って前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記ステージに向けて整流する構造体と、を備え、
前記第1部材は、前記干渉計と前記ミラーとの間の光路のうち前記ミラー側の端を含む部分と対面するように、前記ステージに取り付けられており、
前記第2部材は前記ステージとの間に隙間ができるように配置されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1部材は前記干渉計の光路の上側にあり、前記第2部材は前記干渉計の光路の下側にあり、前記第2部材と前記ステージとの間の前記隙間は、前記干渉計と前記ミラーとの間の光路のうち前記ミラー側の端を含む部分の下に形成してあることを特徴とする請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至請求項12と請求項16乃至請求項17とのいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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