JP6372563B2

JP6372563B2 - テトラゾリノン化合物の製造方法

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Publication number: JP6372563B2
Application number: JP2016510202A
Authority: JP
Inventors: 悟宇治田; 隆之塩田
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2014-03-28
Filing date: 2015-03-03
Publication date: 2018-08-15
Anticipated expiration: 2035-03-03
Also published as: DE112015001514T5; US20170057935A1; CN108409678A; CN106132939A; WO2015146552A1; CN106132939B; JPWO2015146552A1; CN108409678B; US9822085B2

Description

本発明は、テトラゾリノン化合物の製造方法に関する。

ＷＯ２０１３／１６２０７２には、１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン等の１−（２−ハロゲノメチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンが農薬の製造中間体として有用であることが記載されている。また、１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンの製造方法として、１−（２−メトキシメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンとメチルボロン酸とパラジウムとを混合して得られる１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを臭化水素および酢酸と混合する製造方法が記載されている。

本発明は、１−（２−ハロゲノメチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを、工業的に有利に製造する方法を提供する。
本発明は以下の通りである。
〔１〕式（２）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物と、式（Ａ）

〔式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて、式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を表す。〕
で表される化合物を得る工程、ならびに、
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基または炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を表し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（１）で表される化合物の製造方法。
〔２〕式（７）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物とハロゲン化剤とを反応させて式（８）

〔式中、Ｘ^５は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（８）で表される化合物とアジ化物とを反応させて式（１１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（１１）で表される化合物とメチル化剤とを反応させて式（２）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（２）で表される化合物と、式（Ａ）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；ならびに
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（１）で表される化合物の製造方法。
〔３〕式（２）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程；および
式（１）で表される化合物と、塩化水素、臭化水素またはヨウ化水素とを反応させて、式（５）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｘ^４は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（５）で表される化合物の製造方法。
〔４〕式（７）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程；ならびに
式（１）で表される化合物と、塩化水素、臭化水素またはヨウ化水素とを反応させて、式（５）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｘ^４は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（５）で表される化合物の製造方法。
〔５〕式（１３）

〔式中、Ｒ^１０は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表されるテトラゾリノン化合物。
〔６〕式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表されるテトラゾリノン化合物。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４における炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６における炭素数３〜６のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロヘキシル基が挙げられ、炭素数３〜４のシクロアルキル基が好ましい。
Ｒにおける炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基およびｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｒにおける炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基およびナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
Ｒ^５およびＲ^６における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基およびドデシル基等が挙げられ、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。
Ｒ^５およびＲ^６における炭素数２〜６のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基および１−メチル−２−プロペニル基等が挙げられ、炭素数２〜３のアルケニル基が好ましい。
Ｒ^１はメチル基が好ましく、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は水素原子が好ましい。
Ｒ^５は水素原子および炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、水素原子および炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、水素原子、メチル基およびエチル基が特に好ましい。
Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
特に、Ｒ^１がメチル基であり、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４が水素原子であり、Ｒ^５が水素原子またはメチル基である態様が好ましい。
Ｘ^１は臭素原子が好ましく、Ｘ^４は塩素原子および臭素原子が好ましい。
また、Ｒ^１がメチル基、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４が水素原子、Ｘ^１が臭素原子という態様が好ましい。
Ｒはイソプロピル基が好ましく、Ｘは塩素原子または臭素原子が好ましい。
次に、各工程について詳細に説明する。
式（１）で表される化合物は、式（２）で表される化合物と式（Ａ）で表される化合物とを反応させて式（３）で表される化合物を得る工程、および、式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）とを反応させる工程により製造することができる。
式（Ａ）で表される化合物の具体例はメチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリド、ｔｅｒｔ−ブチルマグネシウムクロリド等のアルキルマグネシウムクロリド；メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミド、ｔｅｒｔ−ブチルマグネシウムブロミド等のアルキルマグネシウムブロミド；イソプロピルマグネシウムヨージド等のアルキルマグネシウムヨージド；フェニルマグネシウムクロリド等のアリールマグネシウムクロリド；フェニルマグネシウムブロミド等のアリールマグネシウムブロミド；およびフェニルマグネシウムヨージド等のアリールマグネシウムヨージドである。式（Ａ）で表される化合物において、Ｒが炭素数１〜４のアルキル基である化合物が好ましく、アルキルマグネシウムクロリド、特にイソプロピルマグネシウムクロリドが好ましい。
式（Ａ）で表される化合物は、市販のものを用いてもよいが、マグネシウムと対応するアルキルハライドまたはアリールハライドとから調製することができ、系内で調製したものを用いてもよい。
式（Ａ）で表される化合物の使用量は、式（２）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜３モルである。
式（Ａ）で表される化合物は、臭化リチウムや塩化リチウム等の無機塩との錯体を形成したものであってもよい。
式（２）で表される化合物と式（Ａ）で表される化合物との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としてはテトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ヘプタン、ヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタンおよびクロロホルム等が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフランおよび２−メチルテトラヒドロフラン等のエーテル類である。
式（２）で表される化合物と式（Ａ）で表される化合物とは、一括して混合してもよいし、式（Ａ）で表される化合物を徐々に加えながら混合してもよい。
反応は、通常窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行われる。
反応温度は、通常−８０〜１５０℃であり、好ましくは−２０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（３）で表される化合物は、通常単離操作や精製操作を行うことなく、次工程に用いられる。
式（３）で表される化合物としては、例えば［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−メチルフェニル−１−イル］マグネシウムクロリド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−メチルフェニル−１−イル］マグネシウムブロミド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−メチルフェニル−１−イル］マグネシウムヨージド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−エチルフェニル−１−イル］マグネシウムクロリド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−エチルフェニル−１−イル］マグネシウムブロミド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−エチルフェニル−１−イル］マグネシウムヨージド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−シクロプロピルフェニル−１−イル］マグネシウムクロリド、［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−シクロプロピルフェニル−１−イル］マグネシウムブロミドおよび［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−シクロプロピルフェニル−１−イル］マグネシウムヨージドが挙げられる。
次に、式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）で表される化合物とを反応させる工程について説明する。
式（４）で表される化合物としては、メトキシメチルクロリド、メトキシメチルブロミド、メトキシメチルヨージド、エトキシメチルクロリド、エトキシメチルブロミド、エトキシメチルヨージド、ヘキシルメチルクロリド、ドデシルメチルクロリド等のアルコキシメチル誘導体、および、フェノキシメチルクロリド、フェノキシメチルブロミド等のアリールオキシメチル誘導体が挙げられる。アルコキシメチル誘導体が好ましく、メトキシメチルクロリドおよびエトキシメチルクロリドがより好ましい。
式（４）で表される化合物は市販のものを用いてもよいが、式（６）

〔式中、Ｒ^６は前記と同じ意味を有する。〕
で表されるアルコールとホルムアルデヒドとを、塩化水素等のハロゲン化水素の存在下で混合することにより調製することができ、系内で調製したものを用いてもよい。
ホルムアルデヒドは、パラホルムアルデヒドの加熱等により生成させたものを用いることができる。
ホルムアルデヒドまたは式（４）で表される化合物の使用量は、式（３）で表される化合物１モルに対して通常１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルの割合である。
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）で表される化合物との反応は、通常溶媒中、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で両者を混合することにより行われる。溶媒としてはテトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ヘプタン、ヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタンおよびクロロホルム等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフランおよび２−メチルテトラヒドロフラン等のエーテル類である。
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）で表される化合物とは、一括して混合してもよいし、ホルムアルデヒドまたは式（４）で表される化合物を徐々に加えながら混合してもよい。
反応温度は、通常−８０〜１５０℃であり、好ましくは−２０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（１）で表される化合物は、反応混合物に酸、塩基または塩の水溶液や溶媒を添加する等の通常の後処理により単離することができる。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸、塩基または塩の水溶液と溶媒との混合物を使用する場合、酸または塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。溶媒の使用量は、式（５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
単離された式（１）で表される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（１）で表される化合物としては、例えば１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−エトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−プロポキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−イソプロポキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ヘキシルオキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ドデシルオキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−フェノキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−メトキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−エトキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−プロポキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−イソプロポキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ヘキシルオキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ドデシルオキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−フェノキシメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−メトキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−エトキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−プロポキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−イソプロポキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ヘキシルオキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ドデシルオキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンおよび１−（２−フェノキシメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンが挙げられる。
次に、式（２）で表される化合物の製造方法を説明する。

〔式中、Ｙ⁻はハロゲン化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン等のカウンターアニオンを表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｘ^１およびＸ^５は前記と同じ意味を有する。〕
式（２）で表される化合物は、式（１２）で表される化合物または式（９）で表される化合物から製造される。式（１２）で表される化合物および式（９）で表される化合物は、通常市販品が用いられる。
式（１５）で表される化合物は、式（１２）で表される化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより製造される。
ジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸塩が挙げられる。ジアゾ化剤の使用量は、式（１２）で表される化合物１モルに対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
式（１２）で表される化合物とジアゾ化剤との反応は、通常溶媒中、酸の存在下で両者を混合することにより行われる。
酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸およびこれらの混合物が挙げられる。酸の使用量は、式（１２）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、式（１２）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは−５〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは０．１〜２４時間である。
得られた式（１５）で表される化合物は、単離操作や精製操作を行ってもよいが、通常、単離または精製することなく、式（７）で表される化合物の製造に用いられる。
式（７）で表される化合物は、式（１５）で表される化合物とハロゲンまたはハロゲン化合物とを反応させることにより製造される。
ハロゲンとしては臭素、ヨウ素等が挙げられ、ハロゲン化合物としては、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド等のＮ−ハロゲン化イミド、臭化銅、ヨウ化銅等のハロゲン化銅、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム等の金属ハロゲン化物、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド等のハロゲン化アンモニウム、ブロモホルム、ヨウ化メチル、ジヨードメタン、ヨウ化エチル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化ｔｅｒｔ−ブチル等のハロゲン化アルキル、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化水素、ヨウ化トリメチルシラン等のヨウ化アルキルシラン、ヨウ化酢酸等のハロゲン化酢酸等が挙げられる。なかでも臭化銅を用いるのが好ましい。ハロゲンまたはハロゲン化合物の使用量は、式（１５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部である。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは−５〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（７）で表される化合物は、反応混合物に酸、塩基または塩の水溶液や溶媒を添加する等の後処理により単離することができる。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム、亜硝酸ナトリウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸、塩基または塩の水溶液と溶媒との混合物を使用する場合、酸または塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。溶媒の使用量は、式（５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
単離された式（７）で表される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（８）で表される化合物は、式（７）で表される化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
式（７）で表される化合物とハロゲン化剤との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、式（７）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
式（７）で表される化合物とハロゲン化剤とを一括して混合してもよいし、ハロゲン化剤を徐々に加えながら混合してもよい。
ハロゲン化剤としては、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、オキシ臭化リン、三臭化リン、五臭化リン、三ヨウ化リン、塩化オキサリル、二臭化オキサリル、トリホスゲン、ジホスゲン、ホスゲンおよび塩化スルフリル等が挙げられる。ハロゲン化剤は市販品を用いることができる。
ハロゲン化剤の使用量は、式（７）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１００モルであり、好ましくは１〜１０モルの割合である。
混合の際に触媒を加えてもよく、触媒として通常Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが用いられる。触媒の使用量は、通常、式（７）で表される化合物１モルに対して、０．００１〜１モルの割合で用いられる。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間であり、好ましくは１〜２４時間である。
反応混合物を濃縮することにより、式（８）で表される化合物を単離することができ、必要に応じて、洗浄、再結晶、クロマトグラフィー等で精製することができる。
式（１１）で表される化合物は、式（８）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより製造することができる。
式（８）で表される化合物とアジ化物との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン等のエーテル類である。
溶媒の使用量は、式（８）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
式（８）で表される化合物とアジ化物とは、一括して混合してもよいし、アジ化物を徐々に加えながら混合してもよい。
アジ化物としては、アジ化ナトリウム、アジ化バリウムおよびアジ化リチウム等の無機アジド類、アジ化トリメチルシリルおよびアジ化ジフェニルホスホリル等の有機アジド類が挙げられる。
アジ化物は、通常、市販品が用いられる。
アジ化物の使用量は、式（８）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１００モルであり、好ましくは１〜１０モルの割合である。
混合に際して塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸を加えるのが好ましく、これらのルイス酸は通常、式（８）で表される化合物１モルに対して、０．０５〜５モルの割合で用いられる。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（１１）で表される化合物は、反応混合物に酸、塩基または塩の水溶液や溶媒を添加する等の後処理により単離することができる。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム、亜硝酸ナトリウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸、塩基または塩の水溶液と溶媒との混合物を使用する場合、酸または塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。溶媒の使用量は、式（５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
単離された式（１１）で表される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（１１）で表される化合物は、式（１０）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより製造することもできる。その製造方法は、式（８）で表される化合物から式（１１）で表される化合物を製造する方法に準じる。
式（１０）で表される化合物は、式（９）で表される化合物とホスゲン類（ホスゲン、ジホスゲンまたはトリホスゲン）とを常法にしたがって反応させることにより製造することができる。具体的な方法は、例えばＷＯ２０１３／１６２０７２の参考製造法Ｂに記載されている。
式（２）で表される化合物は、式（１１）で表される化合物とメチル化剤とを反応させることにより製造することができる。
式（１１）で表される化合物とメチル化剤との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
溶媒の使用量は、式（１１）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
式（１１）で表される化合物とメチル化剤とは、一括して混合してもよいし、メチル化剤を徐々に加えながら混合してもよい。
メチル化剤としては、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化メチル類、ｐ−トルエンスルホン酸メチル等のアリールスルホン酸メチル類、メタンスルホン酸メチル等のアルキルスルホン酸メチル類および硫酸ジメチルが挙げられる。
メチル化剤は市販品を用いることができる。
メチル化剤の使用量は、式（１１）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルの割合である。
混合に際し、塩基を加えるのが好ましい。塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられ、好ましくは、炭酸カリウム、水素化ナトリウムが挙げられる。塩基は通常、式（１１）で表される化合物１モルに対して、０．０５〜５モルの割合で用いられる。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（２）で表される化合物は、混合物に酸、塩基または塩の水溶液や溶媒を添加する等の後処理により単離することができる。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム、亜硝酸ナトリウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸、塩基または塩の水溶液と溶媒との混合物を使用する場合、酸または塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。溶媒の使用量は、式（５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
単離された式（２）で表される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（２）で表される化合物としては、１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ブロモ−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンおよび１−（２−ブロモ−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン等が挙げられる。
次に、式（５）で表される化合物の製造方法について説明する。
式（１）で表される化合物とハロゲン化水素（塩化水素、臭化水素またはヨウ化水素）とを反応させることにより式（５）で表される化合物を製造することができる。
式（１）で表される化合物とハロゲン化水素との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、式（１）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
ハロゲン化水素は気体の状態で使用してもよく、また、有機溶媒や水に溶解した状態で使用してもよい。好ましくは水溶液または酢酸溶液の状態で使用され、より好ましくは酢酸溶液の状態で使用される。
式（５）で表される化合物とハロゲン化水素とは、一括して混合してもよいし、ハロゲン化水素を徐々に加えながら混合してもよい。
ハロゲン化水素の使用量は、式（１）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルの割合である。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
式（５）で表される化合物は、混合物に酸、塩基または塩の水溶液や溶媒を添加する等の後処理により単離することができる。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等が挙げられる。
酸、塩基または塩の水溶液と溶媒との混合物を使用する場合、酸または塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。溶媒の使用量は、式（５）で表される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
単離された式（５）で表される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（５）で表される化合物としては、例えば１−（２−クロロメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ヨードメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−クロロメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ブロモメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ヨードメチル−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−クロロメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン、１−（２−ブロモメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンおよび１−（２−ヨードメチル−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンが挙げられる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
後述の実施例７で得られる１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．５４ｇとテトラヒドロフラン１ｍＬとの混合物に氷冷下でイソプロピルマグネシウムクロリド塩化リチウム錯体テトラヒドロフラン溶液（濃度１．３ｍｏｌ／Ｌ）１．６９ｍＬを滴下し、氷冷下で１時間撹拌した。反応混合物の一部に塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を濃縮した。濃縮液の^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、１−（３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンの生成が確認されたことから、反応混合物中に［２−（４，５−ジヒドロ−４−メチル−５−オキソ−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）−６−メチルフェニル−１−イル］マグネシウムクロリドの生成を確認した。
反応混合物にメトキシメチルクロリド０．１８ｍＬとテトラヒトロフラン１ｍＬとを加え７０℃で２時間撹拌した後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．３７ｇ得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．４８（３Ｈ，ｓ），３．２３（３Ｈ，ｓ），３．７２（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｓ），７．２１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）
実施例２
後述の実施例７で得られる１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．５４ｇとテトラヒドロフラン６ｍＬとの混合物に、氷冷下でイソプロピルマグネシウムクロリドテトラヒドロフラン溶液（濃度２．０ｍｏｌ／Ｌ）２．０ｍＬを滴下し、氷冷下で１．５時間撹拌した。反応混合物をサンプリングして塩酸で処理した後、酢酸エチルで抽出、濃縮を行い、ＮＭＲで１−（３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ：３．４５（３Ｈ，ｓ），４．７３（３Ｈ，ｓ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．７６−８．７３（２Ｈ，ｍ）
を確認した後、パラホルムアルデヒド１．１７ｇを加熱して発生させたホルムアルデヒドガスを反応混合物中に吹き込み、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラムで精製して１−（２−ヒドロキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．１２ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．５６（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２０−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．３８（２Ｈ，ｍ）
実施例３
後述の実施例７で得られる１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１０．０ｇとテトラヒドロフラン３０ｍＬとの混合物に氷冷下でイソプロピルマグネシウムクロリドテトラヒドロフラン溶液（濃度２．０ｍｏｌ／Ｌ）２２．３ｍＬを滴下し、氷冷下で２．５時間撹拌した。混合物にメトキシメチルクロリド５．９８ｇを加え、７０℃で３時間撹拌した。混合物に硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で濃縮して得た残渣を、ヘキサンで洗浄することにより１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン４．５ｇを得た。
実施例４
実施例１で得られる１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．２５ｇおよび２５％臭化水素−酢酸溶液３ｍＬの混合物を６５℃で１時間攪拌した。混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．２３ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．５１（２Ｈ，ｓ），７．２２−７．２４（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．３９（２Ｈ，ｍ）
実施例５
実施例２で得られる１−（２−ヒドロキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン５６ｍｇ、酢酸０．５ｍＬおよび２５％臭化水素−酢酸溶液１００ｍｇの混合物を４５℃で３時間攪拌した後、２５％臭化水素−酢酸溶液２００ｍｇを加えて５時間撹拌した。混合物に水を加え、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムで精製して１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン４８ｍｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．５１（２Ｈ，ｓ），７．２２−７．２４（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．３８（２Ｈ，ｍ）
実施例６
後述の参考例１で得られる２−ブロモ−３−メチル安息香酸１５．０ｇ、塩化オキサリル９．６２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｇおよびテトラヒドロフラン６０ｇの混合物を室温で１時間撹拌した後、減圧下に濃縮し、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１、２−ブロモ−３−メチル安息香酸クロリドのＲｆ値：０．８５）により、２−ブロモ−３−メチル安息香酸クロリドの生成を確認した。
塩化アルミニウム１１．１６ｇを氷冷下でテトラヒドロフラン６０ｇに加え、３０分間攪拌した。ここにアジ化ナトリウム１６．４６ｇを加え、３０分間加熱還流した後、前記２−ブロモ−３−メチル安息香酸クロリド全量を加え、８時間加熱還流した。冷却後、反応液を亜硝酸ナトリウム１７．４７ｇ、水１００ｍＬおよび氷２５０ｇの混合物に攪拌しながら加えた。混合物を１０％塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および１０％硫酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１６．０２ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．５１（３Ｈ，ｓ），７．２７−７．４７（３Ｈ，ｍ）
実施例７
実施例６で得られる１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１４．００ｇ、炭酸カリウム８．３４ｇ、硫酸ジメチル７．６２ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１１８ｍＬの混合物を室温で１時間攪拌した。混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して１−（２−ブロモ−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン９．５ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），７．２２−７．４１（３Ｈ，ｍ）
参考例１
２−アミノ−３−メチル安息香酸１．００ｇ、酢酸８ｍＬ、５０％臭化水素酸４ｍＬおよび水１６ｍＬの混合物に氷冷下、亜硝酸ナトリウム０．４６ｇおよび水３ｍＬを加えた。氷冷下で１０分間撹拌した後、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１、２−アミノ−３−メチル安息香酸のＲｆ値：０．６７）により２−アミノ−３−メチル安息香酸が消失したことを確認し、臭化銅１．４２ｇおよび水５ｍＬを加え、５０℃で３時間加熱した。混合物に水を加え、濾過することにより２−ブロモ−３−メチル安息香酸１．０ｇ得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．４９（３Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．９Ｈｚ）

本発明により、式（１）で表される化合物を製造することができる。また、式（１）で表される化合物から、式（５）で表される化合物を製造することができる。

Claims

式（２）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物と式（Ａ）

〔式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて、式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程、ならびに、
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
を得る工程を含む、式（１）で表される化合物の製造方法。
Ｒ^１がメチル基であり、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４が水素原子である請求項１の方法。
Ｒがイソプロピル基であり、Ｘが塩素原子または臭素原子である請求項１または２の方法。
式（７）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物とハロゲン化剤とを反応させて式（８）

〔式中、Ｘ^５は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（８）で表される化合物とアジ化物とを反応させて式（１１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（１１）で表される化合物とメチル化剤とを反応させて式（２）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（２）で表される化合物と式（Ａ）

〔式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて、式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；ならびに
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（１）で表される化合物の製造方法。
Ｒ^１がメチル基であり、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４が水素原子である請求項４の方法。
Ｒがイソプロピル基であり、Ｘが塩素原子または臭素原子である請求項４または５の方法。
式（２）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物と式（Ａ）

〔式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて、式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程；ならびに
式（１）で表される化合物と塩化水素、臭化水素またはヨウ化水素とを反応させて、式（５）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｘ^４は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（５）で表される化合物の製造方法。
式（７）

〔式中、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表される化合物とハロゲン化剤とを反応させて式（８）

〔式中、Ｘ^５は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（８）で表される化合物とアジ化物とを反応させて式（１１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（１１）で表される化合物とメチル化剤とを反応させて式（２）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＸ^１は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（２）で表される化合物と、式（Ａ）

〔式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて、式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程；
式（３）で表される化合物とホルムアルデヒドまたは式（４）

〔式中、Ｒ^６は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘ^３は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物とを反応させて式（１）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基またはフェニル基を表す。〕
で表される化合物を得る工程；ならびに
式（１）で表される化合物と塩化水素、臭化水素またはヨウ化水素とを反応させて、式（５）

〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は前記と同じ意味を有し、Ｘ^４は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で表される化合物を得る工程を含む、式（５）で表される化合物の製造方法。
式（１３）

〔式中、Ｒ^１０は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ^１は臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表されるテトラゾリノン化合物。
式（３）

〔式中、Ｘ^２は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で表されるテトラゾリノン化合物。