JP6334340B2 - 偽変造防止媒体、偽変造防止媒体作成装置及び偽変造防止媒体作成方法 - Google Patents
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Description
また特殊不可視材料としては、紫外光を吸収して可視光を発光する材料(以下、蛍光材料という)を用いることが多かった。
このレーザを用いて潜像画像を形成する方法では、一面に塗布(積層)した蛍光材料を第1層とし、その上に紫外光を照射することによって紫外光を非透過性にするフォトクロミック材料を積層して第2層とした情報記録媒体に、所望のパターンに合わせて紫外光を照射することによって第2層を選択的に紫外非透過状態に変化させて特殊画像を形成している。
したがって、第2層である紫外光非透過層を剥がし、別のパターンを記録した紫外線非透過層を積層すれば、蛍光材料で記録した画像が改竄されてしまうという虞があった。
そこで、本発明は、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する偽変造防止媒体、偽変造防止媒体作成装置及び偽変造防止媒体作成方法を提供することを目的としている。
図1は、画像形成システムの概要構成図である。
画像形成システム10は、偽変造防止媒体としての記録媒体11に形成する画像に対応する元画像に画像処理を施す画像処理装置12と、画像処理装置12の画像処理結果に基づいて、記録媒体11の特殊不可視画像形成部にレーザ光13を照射して不可視画像を潜像として形成する不活性化処理を行うレーザ照射装置14と、不可視画像形成時において所定位置に記録媒体11を保持するステージ15と、を備えている。
記録媒体11は、紙製あるいはプラスチック製の基材を含み、通常印刷などにより各種情報が記録される通常記録媒体11Aを備えている。
図3(a)は、特殊不可視材料層に対する不可視画像形成前の状態説明図である。
図3(a)の上方の図に示すように、紫外線の非照射状態においては、通常記録媒体11Aに印刷等により記録された通常画像21が視認可能となっている。
その後、再び紫外線の照射を止めれば、再び図3(a)の上方の図に示す状態に戻る。
図3(b)の上方の図に示すように、紫外線の非照射状態においては、図3(a)の場合と同様に、通常記録媒体11Aに印刷等により記録された通常画像21が視認可能となっている。
したがって、実施形態によれば、特殊不可視材料層11B自体に不可視画像を形成しているため、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する。
次により具体的な第1実施形態について説明する。
本第1実施形態は、特殊不可視材料として、紫外線あるいは赤外線の照射で蛍光を発する蛍光材料(紫外線蛍光材料あるいは赤外線蛍光材料)を用いる場合の実施形態である。
これにより、所望の画像を記録媒体上で特殊画像として記録することが可能となる。
第1実施形態において、画像パターン形成に用いるレーザとして、YAGレーザ、YVO4レーザ、半導体レーザ、CO2レーザなどが好ましい。ここで、YAGレーザ、YVO4レーザ、半導体レーザ、CO2レーザの基本波に加え、YAGレーザ、YVO4レーザ、半導体レーザの高調波を記録媒体11と蛍光材料の吸収波長に応じて適用可能である。
BAMgAl10O17:Eu2+、SrGA2S4:CE3+、CAGA2S4:CE3+、
(BA、Sr)(Mg、Mn)Al10O17:Eu2+、
(Sr、CA、BA、Mg)10(PO4)6Cl2:Eu2+、
BAl2Si2O8:Eu2+、Sr5(PO4)3Cl:Eu2+、
Sr2P2O7:Eu2+、Sr(H2PO4)2:Eu2+、
(BAMg)Al16O27:Eu2+,Mn2+、Sr4Al14O25:Eu2+、
(Sr、BA)Al2Si2O8:Eu2+、(BA、Mg)2SiO4:Eu2+、
Y2SiO5:CE3+,TB3+、Sr2P2O7−Sr2B2O5:Eu2+、
(BA、CA、Mg)5(PO4)3Cl:Eu2+、
Sr2Si3O8−2SrCl2:Eu2+、
Zr2SiO4,MgAl11O19:CE3+,TB3+、
CA2Y8(SiO4)6O2:TB3+、(GF−12)Y3Al5O12:TB3+、
LA3GA5SiO14:TB3+、Y2O2S:Eu3+、
(BA、Mg)2SiO4:Eu3+、
(BA、Mg)Al16O27:Eu3+、
(BA、CA、Mg)5(PO4)3Cl:Eu3+、
YVO4:Eu3+、CAS:Eu3+、
YAlO3:Eu3+、CA2Y8(SiO4)6O2:Eu3+、
LiY9(SiO4)6O2:Eu3+、YVO4:Eu3+Bi2+、Gd2O2S:Eu3+、CAS:Eu3+Cl−、(CAMg)3(PO4)2:Sn2+等を一例として挙げることができる。
図4は、実施形態の特殊不可視画像の形成処理の処理フローチャートである。
まずオペレータは、所望の画像を画像処理装置12に入力する(ステップS11)。
さらに画像処理装置12は、グレースケール化画像データを二値化した二値化画像データを生成し、レーザ照射装置14のレーザ制御部14Aに出力する(ステップS13)。
図6は、第1実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
以下の説明においては、二値化画像データに対応する二値化した画像の黒い画素401の階調=0、白い画素402の階調=1とする。
この場合には、いまだレーザの照射は行っていないので(ステップS23;No)、レーザ制御部14Aは、レーザ発振器14Bを制御してレーザ走査を行い、当該走査位置に対応する階調=0の黒い画素401に対するレーザ照射を行う(ステップS24)。これにより、黒い画素401に対応する特殊不可視材料411は、不活性化される。これに対し、白い画素402に対応する特殊不可視材料412は、活性化された状態のままとなり、全体として二値化画像データに対応する画像の潜像形成がなされる。すなわち、二値化画像40における階調=0の画素が紫外光を照射した際に発光しない画素として記録されることとなる。
以下、同様にして、ステップS23の判別において、階調=0の黒い画素401の全てにレーザの照射が終了していないと判別される(ステップS23;No)期間は、ステップS23〜ステップS25の処理を繰り返す。
これらの結果、第1実施形態の記録媒体11によれば、通常の室内灯下では不可視な画像が、紫外光(電磁波)照射時に発光パターンとして観察される。
以上の説明のように、第1実施形態によれば、蛍光体化合物を含む特殊不可視材料層11B自体に不可視画像を形成しているため、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する。
上記第1実施形態においては、特殊不可視材料として、蛍光材料を用いていたが、本第2実施形態は、特殊不可視材料として、閾値温度により無色または白色と有色を可逆的に変化する示温材料を用いた場合の実施形態である。
特に電子供与体受容体の電子授受を利用した示温材料としては、以下のような条件を満たす可逆材と、示温特性制御剤と、を含有する示温材料が挙げられる。
これは、閾値温度が−30℃よりも低い場合にはその環境を作るのに簡易な装置ではなく大がかりな装置が必要になってしまう、偽変造防止媒体を構成する他材料が劣化するなどの弊害を生じるからである。
さらに、偽変造防止機能を隠蔽するためには、通常の生活温度領域に変色閾値温度がない方が好ましいため、5℃から40℃を除く温度領域でかつ、容易に実現し易い温度帯とした。さらには、複数の変色閾値温度を持ち、温度によって3色以上の色に変色する材料を用いることも可能である。
本第2実施形態においても、図4に示した特殊不可視画像の形成処理については、第1実施形態と同様であるが、不可視画像の潜像形成処理が異なるので以下、不可視画像の潜像形成処理について説明する。
図8は、第2実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
以下の説明においては、二値化画像データに対応する二値化した画像の黒い画素601の階調=0、白い画素602の階調=1とする。
この場合には、いまだレーザの照射は行っていないので(ステップS33;No)、レーザ制御部14Aは、レーザ発振器14Bを制御してレーザ走査を行い、当該走査位置に対応する階調=1の白い画素602に対するレーザ照射を行う(ステップS34)。これにより、白い画素602に対応する特殊不可視材料612は、不活性化される。
以下、同様にして、ステップS33の判別において、階調=1の白い画素602の全てにレーザの照射が終了していないと判別される(ステップS33;No)期間は、ステップS33〜ステップS35の処理を繰り返す。
これらの結果、第2実施形態の記録媒体11によれば、通常の室内灯下では不可視な画像が、所定の閾値温度を跨いだときに変色あるいは発色することにより画像が可視化し、観察される。
以上の説明においては、特殊不可視材料として、蛍光体化合物を用いる場合には、蛍光発光を行わせない画素(黒画素)を不活性化させ、示温材料を用いる場合には、発色前の状態を維持する画素(無色画素あるいは白色画素)を不活性化させていたが、逆の画素を不活性化させるように構成することも可能である。
11 記録媒体
11A 通常記録媒体
11B 特殊不可視材料層
12 画像処理装置
13 レーザ光
14 レーザ照射装置
14A レーザ制御部
14B レーザ発振器
15 ステージ
21 通常画像
40 二値化画像
60 二値化画像
401 黒い画素(不活性化対象画素)
402 白い画素
411 特殊不可視材料(不活性化対象)
412 特殊不可視材料
601 黒い画素
602 白い画素(不活性化対象画素)
611 特殊不可視材料
612 特殊不可視材料(不活性化対象)
Claims (7)
- 基材と、
前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置され、かつ、前記示温材料の一部が可視化させる画像パターンに対応づけて不活性化されている特殊不可視材料層と、を備え、
前記閾値温度は、−20℃〜5℃あるいは40℃〜60℃の範囲のいずれかの温度に設定されている、
偽変造防止媒体。 - 前記示温材料は、複数の前記閾値温度を有する、
請求項1記載の偽変造防止媒体。 - 基材と、前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、−20℃〜5℃あるいは40℃〜60℃の範囲のいずれかの温度に設定された所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置された特殊不可視材料層と、を備えた記録媒体を用いて偽変造防止媒体を作成する偽変造防止媒体作成装置であって、
入力された不可視化対象の画像の画像データに基づいて、前記特殊不可視材料層に形成する特殊不可視画像に対応する不活性化対象画素位置を特定する画素特定部と、
前記特殊不可視材料層における前記不活性化対象画素位置にレーザ光を照射して不活性化させる不活性化部と、
を備えた偽変造防止媒体作成装置。 - 前記画素特定部は、温度が前記閾値温度を跨いだ場合に、変色あるいは発色するのを禁止すべき画素の位置を前記不活性化対象画素位置として特定する、
請求項3記載の偽変造防止媒体作成装置。 - 前記不活性化部は、YAGレーザ、YVO4レーザ、半導体レーザ、CO2レーザのうち少なくともいずれか一つを用いて前記レーザ光を照射する、
請求項3又は請求項4記載の偽変造防止媒体作成装置。 - 基材と、前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、−20℃〜5℃あるいは40℃〜60℃の範囲のいずれかの温度に設定された所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置された特殊不可視材料層と、を備えた記録媒体を用いて偽変造防止媒体を作成する偽変造防止媒体作成装置で実行される偽変造防止媒体作成方法であって、
入力された不可視化対象の画像の画像データに基づいて、前記特殊不可視材料層に形成する特殊不可視画像に対応する不活性化対象画素位置を特定する過程と、
前記特殊不可視材料層における前記不活性化対象画素位置にレーザ光を照射して不活性化させる過程と、
を備えた偽変造防止媒体作成方法。 - 前記不活性化対象画素位置を特定する過程においては、温度が前記閾値温度を跨いだ場合に、変色あるいは発色するのを禁止すべき画素の位置を前記不活性化対象画素位置として特定する、
請求項6記載の偽変造防止媒体作成方法。
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