JP6331960B2 - 薄膜状の試料の前処理方法および分析方法 - Google Patents
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Description
1.試料の前処理方法
1−1 試料
1−2 標準試料
1−3 スパッタレート比算出工程
1−3−1 遮蔽領域形成工程
1−3−2 スパッタリング工程
1−3−3 スパッタリング深さ測定工程
1−3−4 スパッタレート比算出工程
1−4 有機物除去工程
2.試料の分析方法
3.本実施形態の効果
4.変形例
本実施形態に係る試料の前処理方法は、主に、2種類の標準試料を用いてスパッタレート比を算出する工程と、算出したスパッタレート比に基づき試料に付着した有機物を除去する工程と、を含む。当該前処理方法を図1に示す工程図を用いて説明する。
まず、前処理に供する試料を準備する。試料は無機物から構成されていれば特に制限されないが、本実施形態では、当該試料は金属酸化物から構成される。金属酸化物を構成する金属は、酸化物を形成可能な金属であれば、特に制限されない。また、金属酸化物は、1種の金属から構成される酸化物であってもよいし、2種以上の金属から構成される複合酸化物であってもよい。また、本実施形態では、当該試料は薄膜状試料である。薄膜の厚みの下限は20nmである。薄膜の厚みが下限値よりも小さくなると、後述する試料の分析方法によっては、下地の情報が分析結果に多く含まれてしまい、正確な分析結果が得られない場合があるからである。また、薄膜の厚みの上限は1mmであり、通常は100μm以下である。
続いて、標準試料を準備する。標準試料は、スパッタレートを算出するために用いられる試料であり、本実施形態では、有機物から構成されている標準試料(有機物標準試料)と、無機物から構成されている標準試料(無機物標準試料)と、の2種類の標準試料を用いる。後述するが、スパッタレート(nm/min)は、スパッタリング深さ(nm)をスパッタ時間(min)で除した値として求められる。
まず、上記の有機物標準試料および無機物標準試料について、クラスターイオンビームを用いた場合のスパッタレートを算出し、算出されたスパッタレートからスパッタレート比を算出する。無機物標準試料については、厚みが既知の標準試料をスパッタリングにより貫通する時間を測定する方法によりスパッタレートを算出してもよい。本実施形態では、少なくとも有機物標準試料については、スパッタレートを正確に算出するために、以下の工程を行うことが好ましい。
まず、標準試料を、図2(a)に示す試料ホルダーに設置し、試料ホルダー2に保持されている標準試料1の表面に、クラスターイオンビームが照射されスパッタされるスパッタ領域と、クラスターイオンビームが照射されずスパッタされない遮蔽領域と、を形成する。
続いて、スパッタ領域11と遮蔽領域12とが形成された標準試料1を備えた試料ホルダー2を、スパッタリング装置内に導入してスパッタリングを行う。
スパッタリング深さ測定工程S30では、凹部14の表面の高さと、スパッタリングされていない領域(遮蔽領域12)の高さと、の差(Z軸方向における距離)を測定し、これをスパッタリング深さとする。すなわち、従来のように、厚みが既知の標準試料を貫通させるのに要するスパッタリング時間からスパッタレートを算出するのではなく、実際にスパッタリング深さを測定してスパッタレートを算出する。
スパッタレート比算出工程S40では、まず、上記で測定されたスパッタリング深さを、スパッタリング時間で除す、あるいは、標準試料の厚みを、標準試料を貫通させるのに要した時間で除すことにより、有機物標準試料および無機物標準試料の各スパッタレートを算出する。なお、上記の工程を経て得られるスパッタレートは、正確に測定されたスパッタリング深さを用いて算出されているため、精度が高い。
有機物除去工程S50では、上記の工程で算出したスパッタレート比(5以上)に基づき設定したスパッタリング条件により、分析対象の試料の前処理(有機物の除去)を行う。本実施形態では、後述するXPS分析を行うためのX線光電子分光装置に付属のアルゴンガスクラスターイオン銃を用いて、試料の表面のスパッタリングを行い、有機物のみを除去する(選択的スパッタリング)。このスパッタリングにより試料の表面に付着している有機物は除去されるものの、試料表面はほとんどスパッタリングされず、ダメージを受けない。したがって、スパッタリング前後で、試料の極表面近傍の元素の化学結合状態はほとんど変化しない。
続いて、上記の試料の前処理により試料表面に付着していた有機物が除去された試料について分析を行う。分析方法としては特に制限されないが、特に、試料の表面を分析する方法であることが好ましい。具体的には、X線光電子分光法(X-ray Photoelectron Spectroscopy:XPS)、オージェ電子分光法(Auger Electron Spectroscopy:AES)、二次イオン質量分析法(Secondary Ion Mass Spectrometry:SIMS)等が例示される。本実施形態では、金属酸化物から構成される薄膜状の試料に対し、XPSによる表面分析を行う。
分析に供される試料の表面には通常有機物が付着している。このような有機物は、XPS等の表面分析に影響を及ぼす。たとえば、有機物由来の酸素が、試料の分析結果の酸素量に含まれてしまい、試料本来の組成比が得られない場合がある。
上記の実施形態では、試料の極表面のみを分析しているが、スパッタリングを利用して深さ方向分析を行ってもよい。
酸化インジウム系の酸化物透明導電薄膜試料を、X線光電子分光装置(アルバック・ファイ(株)製 Versa ProbeII)付属の試料ホルダーに両面テープを用いて固定した。そして、試料上の測定位置を決定して、試料の前処理前後での試料の表面近傍において、C1s、O1sおよびIn3d5/2の各スペクトルを得るためにXPS分析を行った。スペクトル取得条件は、X線条件:100μm 25W、測定領域:100μmφ、Tilt Angle:45°、測定室真空度:7.0×10−7Pa、PassEnergy:23.5eVとした。結果を図4〜6および表2に示す。
11…スパッタ領域
12、12a…遮蔽領域
13、13a…境界
14…凹部
3…アルミ箔
4…孔
20…イオンビームを走査する範囲(ラスター範囲)
Claims (5)
- スパッタリングを利用して、無機物から構成される薄膜状の試料を前処理する方法であって、
無機物から構成される無機物標準試料のスパッタレートに対する有機物から構成される有機物標準試料のスパッタレートをスパッタレート比とした場合、前記スパッタレート比が5以上となるスパッタリング条件で前記薄膜状の試料にアルゴンガスクラスターイオンビームを照射して前記薄膜状の試料に付着した有機物を選択的に除去することを特徴とする薄膜状の試料の前処理方法。 - 前記スパッタレート比が200以下であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜状の試料の前処理方法。
- 請求項1または2に記載の薄膜状の試料の前処理方法により前処理を行った薄膜状の試料を分析することを特徴とする薄膜状の試料の分析方法。
- X線光電子分光法を用いて、前記前処理を行った薄膜状の試料を分析することを特徴とする請求項3に記載の薄膜状の試料の分析方法。
- 前記薄膜状の試料が金属酸化物を含んでおり、前記金属酸化物における酸素と金属との存在比を分析することを特徴とする請求項3または4に記載の薄膜状の試料の分析方法。
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